CVD coatingとは 意味・読み方・使い方

A plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus 1 is used for producing a coating member by a DC pulse plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置１は、直流パルスプラズマＣＶＤ法により被覆部材を製造するためのものである。 - 特許庁

To enable economical and advantageous CVD (Chemical Vapor Deposition) coating for a long coating time.例文帳に追加

長時間のコーティング時間を備えた経済的で有利なＣＶＤコーティングを可能にすることを提供する。 - 特許庁

In the case of coating by a CVD method, after CVD treatment, a baking treatment is applied to the silicon steel sheet at 850-1,200°C in the vacuum.例文帳に追加

ＣＶＤ法で被膜する場合には、ＣＶＤ処理後、真空中にて８５０〜１２００℃の温度でベーキング処理を施す。 - 特許庁

The one section may be changed by coating, and the coating can be applied by PVD or CVD.例文帳に追加

一区分をコーティングによって変更してもよく、コーティングはＰＶＤやＣＶＤによって付けることができる。 - 特許庁

After a coating 7 is formed by an electrodeposition method, a thermal CVD method or a spray method, the coating is irradiated with laser.例文帳に追加

電着法、熱ＣＶＤ法またはスプレー法により被膜７を形成した後、この被膜にレーザを照射する。 - 特許庁

The corrosion resistant CVD-SiC coating material is obtained by coating the surface of a base material composed of SiC or a carbonaceous material with CVD-SiC.例文帳に追加

耐食性ＣＶＤ−ＳｉＣ被覆材は、ＣＶＤ−ＳｉＣがＳｉＣまたは炭素質材からなる基材上に被覆されたＣＶＤ−ＳｉＣ被覆材である。 - 特許庁

CVD EQUIPMENT HAVING VERTICAL COATING PLANE AND POWER SOURCE-CONTROLLED HOT FILAMENT例文帳に追加

直立積層カバー覆面と動力源によるホットフィラメント制御を備えたＣＶＤ設備 - 特許庁

CVD EQUIPMENT HAVING HORIZONTAL COATING PLANE AND POWER SOURCE-CONTROLLED HOT FILAMENT例文帳に追加

水平積層カバー覆面と動力源によるホットフィラメント制御を備えたＣＶＤ設備 - 特許庁