CVD reactorとは 意味・読み方・使い方

A system comprises: a plasma CVD reactor 2; a remote plasma chamber 11 which is positioned outside the plasma CVD reactor 2 and is used for providing active species to the inside of the plasma CVD reactor 2; and an electromagnetic wave generator 10, which is positioned outside the plasma CVD reactor 2 and the remote plasma chamber 11 and is used for emitting electromagnetic waves to the inside of the plasma CVD reactor 2.例文帳に追加

プラズマCVDリアクタ２と、プラズマCVDリアクタ２の内部に活性種を与えるための、プラズマCVDリアクタ２の外部に配置された遠隔プラズマチャンバ11と、プラズマCVDリアクタ２の内部に電磁波を放射するための、プラズマCVDリアクタ２及び遠隔プラズマチャンバ１１の外部に配置された電磁波ジェネレータ１０とを含む。 - 特許庁

To provide a method of cleaning contaminants from a CVD reactor chamber.例文帳に追加

CVDリアクタチャンバから汚染物質をクリーニングする方法を与える。 - 特許庁

CVD REACTOR AND PRODUCTION OXIDE SUPERCONDUCTOR例文帳に追加

ＣＶＤ反応装置及び酸化物超電導体の製造方法 - 特許庁

To provide plasma CVD equipment that can perform effective and clean reactor cleaning, and check whether the reactor cleaning has been completed without fail.例文帳に追加

効率的且つ清浄な反応炉クリーニングを実施し、反応炉クリーニングが確実に完了したかどうかを検出できるプラズマCVD装置を提供する。 - 特許庁

Unwanted reaction products adhering to the inner surface of the plasma CVD reactor 2 absorb electromagnetic waves and are removed at a high speed.例文帳に追加

プラズマCVDリアクタ２の内壁面に付着した不所望な反応生成物は電磁波を吸収し高速で除去される。 - 特許庁

In forming SiC film on the substrate by the CVD method in the CVD reactor, previous to a reactor gas introduction into the reactor for forming SiC film, the atmosphere in the reactor is arranged as inert gas atmosphere.例文帳に追加

シリコン基材にＣＶＤ反応装置内でＣＶＤ法によりＳｉＣ膜を形成するに際し、該反応装置内にＳｉＣ膜形成のための反応ガスを導入するに先立って、反応装置内の雰囲気を不活性ガス雰囲気とする。 - 特許庁

To improve uniformity and reproducibility when a film layer is deposited by using an ALD reactor or a CVD reactor.例文帳に追加

ＡＬＤ反応器またはＣＶＤ反応器で膜層を堆積させる場合の均一性と再現性を改良する。 - 特許庁