Electron Probe Micro Analyzerとは 意味・読み方・使い方

ELECTRON PROBE MICRO-ANALYZER例文帳に追加

電子プロ—ブマイクロアナライザ— - 特許庁

ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYTICAL METHOD, AND ANALYZER THEREFOR例文帳に追加

電子線プローブマイクロＸ線分析方法、及びその装置 - 特許庁

OBLIQUE EJECTION ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYSIS METHOD, PROGRAM USED THEREIN, AND OBLIQUE EJECTION ELECTRON BEAM PROBE MICRO X-RAY ANALYZER例文帳に追加

斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析方法およびそれに用いられるプログラム、並びに、斜出射電子線プローブマイクロＸ線分析装置 - 特許庁

In the method of estimating the type of clinker of the cement used for the cement hardened body using an electron probe micro-analyzer, non-hydration calcium silicate phase remaining in the cement hardened body is selected, composition analysis of a minute part of this non-hydration calcium silicate phase is performed using the electron probe micro-analyzer, and the type of clinker of the cement is estimated based on the result of the composition analysis.例文帳に追加

セメント硬化体に用いられたセメントのクリンカ品種を電子プローブマイクロアナライザを用いて推定する方法であって、セメント硬化体中に残存している未水和カルシウムシリケート相を選択し、この未水和カルシウムシリケート相の微小部分の組成分析を電子プローブマイクロアナライザを用いて行い、この組成分析の結果に基づきセメントのクリンカ品種を推定する。 - 特許庁

A surface of the copper tube 1 has a film composed of a carbon compound having carbon content at the surface calculated on the basis of the intensity of C-Kα ray, of 1% or more in wavelength analysis of C-Kα ray by an Electron Probe Micro Analyzer method.例文帳に追加

銅管１の表面には、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｚｅｒ分析法のＣ−Ｋα線の波長分析において、Ｃ−Ｋα線の強度より算出した表面のカーボン量が、１％以上である炭素化合物からなる皮膜が形成されている。 - 特許庁

The titanium contains 0.1 to 2.5 mass% Fe and has a needle-like or lath-like microstructure and, in the concentration distribution analyzed by using an electron probe X-ray micro analyzer (EPMA), the area of a region having an Fe concentration ≥1.5 times the average concentration is ≥5% and hereby the corrosion resistance of the Fe-containing titanium material can be improved.例文帳に追加

Ｆｅを０．１〜２．５質量％含有するチタンにおいて、針状あるいはラス状のミクロ組織を有し、電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）で分析した濃度分布においてＦｅ濃度が平均濃度に対して１．５倍以上に濃化した部分の面積を５％以上とすることによって、Ｆｅ含有チタン材の耐食性を高めることができる。 - 特許庁

The ceramic substrate is formed by dividing a ceramic base material along a scribe line formed on one face of the ceramic material containing silicon nitride, and when the surface is measured using by an electron probe micro analyzer, the concentration of a silicon oxide and a composite oxide of silicon on the face is not more than 2.7 Atom%.例文帳に追加

窒化珪素からなるセラミックス母材の一面に形成されたスクライブラインに沿って該セラミックス母材を分割して形成されたセラミックス基板であって、前記一面における酸化シリコン及びシリコンの複合酸化物の濃度が、電子プローブマイクロアナライザを用いた表面測定において２．７Ａｔｏｍ％以下であることを特徴とする。 - 特許庁