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Extreme Ultra Violetとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 極紫外
「Extreme Ultra Violet」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
EXTREME ULTRA VIOLET LIGHT SOURCE DEVICE例文帳に追加
極端紫外光源装置 - 特許庁
EXTREME ULTRA VIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS例文帳に追加
極端紫外光源装置 - 特許庁
To increase the efficiency of producing semiconductor devices by using an extreme ultra violet (EUV) lithography technique.例文帳に追加
極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)リソグラフィ技術を用いた半導体装置の生産効率を向上する。 - 特許庁
EXTREME ULTRA-VIOLET RAY RADIATION SOURCE, AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
極端紫外光放射源及び半導体露光装置 - 特許庁
EXTREME ULTRA-VIOLET LIGHT SOURCE AND SEMICONDUCTOR ALIGNER例文帳に追加
極端紫外光源および半導体露光装置 - 特許庁
To provide a method of correcting defects in a multilayer film due to irregularities on a reflective mask for EUV (Extreme Ultra Violet) lithography.例文帳に追加
ＥＵＶ（極端紫外:Extreme Ultra Violet）リソグラフィ用の反射型マスクの基板の凹凸に起因する多層膜の欠陥の修正方法を提供する。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「Extreme Ultra Violet」の意味 |
extreme ultraviolet
名詞
extreme ultraviolet (uncountable)
- the highest-energy, highest-frequency, shortest-wavelength end of the ultraviolet EM band, overlapping with soft X-rays.
「Extreme Ultra Violet」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
The illumination system includes a radiation-production system that produces extreme ultra-violet radiation and a radiation-collection system that collects extreme ultra-violet radiation.例文帳に追加
該照明システムは極紫外線を生成する放射線生成システムと、極紫外線を収集する放射線収集システムを配備する。 - 特許庁
To heighten the radiation luminance of extreme ultra-violet rays whose wavelength is 13.5 nm.例文帳に追加
波長１３． ５ｎｍの極端紫外線の放射輝度を上げること。 - 特許庁
REFLECTION MASK FOR EXTREME ULTRA-VIOLET RAY EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
極紫外線露出用の反射マスク及びその製造方法 - 特許庁
MASK FOR EXTREME ULTRA-VIOLET EXPOSURE, BLANK, AND METHOD FOR PATTERN TRANSFER例文帳に追加
極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁
EVALUATION DEVICE FOR EVALUATION OF EXTREME ULTRA VIOLET LIGHT SOURCE, AND EVALUATION METHOD USING IT例文帳に追加
ＥＵＶ光源の評価用評価装置、およびそれを用いた評価方法 - 特許庁
To reduce arcing generation and nozzle erosion in a laser plasma extreme ultra violet radiation source.例文帳に追加
レーザープラズマ極紫外線源におけるアーキングの発生とノズルの浸食を減少させる。 - 特許庁
The extreme ultra-violet light emitting device 1 is provided with a mono-stannane synthesizer 2.例文帳に追加
極端紫外光発光装置１は、モノスタナン合成装置２を備える。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a substrate especially suitable for EUV (extreme ultra-violet) micro-lithography.例文帳に追加
ＥＵＶマイクロリソグラフィーに特に適した基板を製造する方法を提供する。 - 特許庁
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