HFOとは 意味・読み方・使い方

The resistance change layer 104 at least includes a hafnium oxide, and the resistance change layer 104 is constituted so as to satisfy the relation 0.9<x<1.6, when hafnium oxide is expressed by HfO_x.例文帳に追加

この抵抗変化層１０４は少なくともハフニウム酸化物を含み、当該ハフニウム酸化物をＨｆＯ_ｘと表した場合に、０．９＜ｘ＜１．６を満足するように抵抗変化層１０４が構成されている。 - 特許庁

Consequently, anion exchanger supported HFO micro particles exhibit significantly greater capacity to remove arsenic and other ligands in comparison with cation exchanger supports.例文帳に追加

結果的に陰イオン交換体に支持されたＨＦＯミクロ粒子は、陽イオン交換体に支持されたものと比較して、砒素及び他のリガンドの除去において非常に大きな容量を示す。 - 特許庁

Loading of HFO particles is carried out by preliminary loading of the anion exchange resin with an oxidizing anion such as MnO^4- or OCl^-, followed by passage of a ferrous sulfate solution through the resin.例文帳に追加

ＨＦＯ粒子のローディングは、予備的に陰イオン交換樹脂を、例えばＭｎＯ^４−またはＯＣｌ^−等の酸化性アニオンでロードし、その後樹脂に硫酸第一鉄溶液を通過させることによって実行される。 - 特許庁

When the focal distance Fm is 20 to 80mm, it is set a value in accordance with the focal distance between the correction amount HFO and the correction amount HFx (3).例文帳に追加

３．焦点距離Ｆｍが２０ｍｍ〜８０ｍｍのとき、開放Ｆ値像面補正量ＨＦ０および制御Ｆ値像面補正量ＨＦｘの間で焦点距離に応じた値にする。 - 特許庁

To provide a Zr and Hf oxynitride(ZrO_xN_y and HfO_xN_y) films and a Zr and Hf silicon oxynitride(Zr(Si)_zO_xN_y and Hf(Si)_zO_xN_y) films which are suitable to a use for dielectric, such as dielectric gate, on a substrate.例文帳に追加

基材上に誘電体ゲートのような誘電体用途で使用するのに適した酸窒化Ｚｒ及びＨｆ膜（ＺｒＯ_xＮ_y及びＨｆＯ_xＮ_y）、酸窒化ケイ素Ｚｒ及びＨｆ膜（Ｚｒ（Ｓｉ）_zＯ_xＮ_y及びＨｆ（Ｓｉ）_zＯ_xＮ_y）を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

When an HfO_x film to be becoming the film 17 is formed on the electrode 16 by, for instance, an ALD method, because the substrate is the amorphous titanium nitride film 16B, the HfOx film to be becoming the film 17 is formed as an amorphous dielectric film without taking over a crystalline property of the substrate.例文帳に追加

下部電極１６上に例えばＡＬＤ法により容量絶縁膜１７となるＨｆＯ_x 膜を成膜すると、下地が非晶質の窒化チタン膜１６Ｂであるため、容量絶縁膜１７となるＨｆＯ_x 膜は下地の結晶性を受け継ぐことなく非晶質の誘電体膜として成膜される。 - 特許庁

The CPU 51 inputs information showing open aperture F value image surface correction amount HFO, control F value image surface correction amount HFx, and a focal distance Fm respectively from a lens CPU 83, and calculates performance correction amount to the defocus amount DF as follows.例文帳に追加

ＣＰＵ５１は、レンズＣＰＵ８３から開放Ｆ値像面補正量ＨＦ０、制御Ｆ値像面補正量ＨＦｘ、ならびに焦点距離Ｆｍを示す情報をそれぞれ入力し、デフォーカス量ＤＦに対する実行補正量を次のように算出する。 - 特許庁

To provide a refrigerating cycle device capable of suppressing deterioration of refrigeration capacity while using an existing pipe used in the refrigerating cycle device using a conventional refrigerant when replacing the conventional refrigerant with a refrigerant with low saturated steam density such as an HFO-based refrigerant.例文帳に追加

従来冷媒をＨＦＯ系冷媒等の飽和蒸気密度が低い冷媒に置き換える場合において、従来冷媒を用いた冷凍サイクル装置で用いられていた既設の配管を利用しつつ、冷凍能力の低下を抑えることのできる冷凍サイクル装置を提供する。 - 特許庁