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InSbとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 インジウムアンチモニ


JST科学技術用語日英対訳辞書での「InSb」の意味

InSb

インジウムアンチモニ

「InSb」を含む例文一覧

該当件数 : 33



例文

InSb NANOPARTICLE例文帳に追加

InSbナノ粒子 - 特許庁

InSb THIN FILM SUBSTRATE例文帳に追加

InSb薄膜基板 - 特許庁

InSb NANO-FINE WIRE STRUCTURE例文帳に追加

InSbナノ細線構造 - 特許庁

InSb THIN FILM SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

InSb薄膜基板、InSb薄膜基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING InSb THIN-FILM BOARD例文帳に追加

InSb薄膜基板の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR InSb THIN-FILM SUBSTRATE SUBSTRATE例文帳に追加

InSb薄膜基板の製造方法 - 特許庁

例文

The active layer 4 is the Sb-based semiconductor thin film formed of any one kind or two kinds or more of GaSb, AlGaSb, AlSb, InGaSb and InSb, and has a quantum well structure.例文帳に追加

前記活性層4が、GaSb,AlGaSb,AlSb,InGaSb,及びInSbのうちいずれか1種又は2種以上で形成されるSb系半導体薄膜であり、量子井戸構造を有する。 - 特許庁

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「InSb」を含む例文一覧

該当件数 : 33



例文

SEMICONDUCTOR RADIATION DETECTOR USING COMPOUND SEMICONDUCTOR InSb SINGLE CRYSTAL例文帳に追加

化合物半導体InSb単結晶を用いた半導体放射線検出器 - 特許庁

To provide a method for forming an InSb film having a high hole moving degree.例文帳に追加

高いホール移動度を有するInSb膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The InSb nano-fine wire structure is grown in a self-forming manner at a temperature close to the melting point of InSb by doping InSb with atoms of an impurity metal.例文帳に追加

InSbがに不純物金属原子を入り込ませることでInSbの融点近傍温度で自己形成成長したInSbナノ細線構造とする。 - 特許庁

To provide independently dispersed InSb nanoparticles, a dispersion of the InSb nanoparticles, and a method for producing the InSb nanoparticles.例文帳に追加

本発明は、独立分散したInSbナノ粒子、InSbナノ粒子分散液、およびInSbナノ粒子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The preferable thickness of the InAs layer or the InSb layer is 3 nm to 10 nm.例文帳に追加

InAs層又はInSb層の好ましい厚みは3nmから10nmである。 - 特許庁

To obtain an InSb thin film substrate which has high sensitivity and reliability and is applicable to a magnetoelectric transducer.例文帳に追加

磁電変換素子に応用できる高感度で信頼性の高いInSb薄膜基板を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming an InSb film capable of obtaining a high hole moving degree.例文帳に追加

高いホール移動度が得られるInSb膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

Irreguralities (11-1n, 21-2n) are formed on the uppermost surfaces of substrates 1A, 1B which are in contact with an InSb based compound semiconductor polycrystal film 3, and this InSb thin film substrate 10 is so constituted that the number of generation nuclears of crystal is increased.例文帳に追加

InSb系化合物半導体多結晶膜3と接する基板1A、1B最表面に凹凸(1_1〜1_n、2_1〜2_n)を形成し、結晶の核発生数を増加するよう構成したことを特徴とするInSb薄膜基板10。 - 特許庁

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