RF sputteredとは 意味・読み方・使い方

In a plasma deposition device for depositing a sputtered target material on a substrate, capacitance in an impedance-matching box for an RF coil is varied during the deposition process in such a manner that heating of the RF coil and the substrate and the film deposition become more uniform according to "time-averaging" of the RF voltage distribution along the RF coil.例文帳に追加

スパッタされたターゲット材料を基板上に堆積させるためのプラズマ堆積装置において、ＲＦコイルのインピーダンス整合ボックス内のキャパシタンスを、堆積プロセス中に、ＲＦコイルと基板の加熱、及び薄膜の堆積が、ＲＦコイルに沿ったＲＦ電圧分布の「時間平均」によってより均一になるように、変化させる。 - 特許庁

An RF coil 23 is arranged between a target 11 and a workpiece W, and sputtered particles scattered from the target 11 toward the workpiece W are ionized, so as to be plasma ions by feeding high frequency power to the RF coil 23.例文帳に追加

ターゲット１１とワークＷとの間には、ＲＦコイル２３が配され、ターゲット１１からワークＷに向けて飛散するスパッタ粒子は、ＲＦコイル２３に高周波電力が供給されるとによってプラスイオンにイオン化される。 - 特許庁

By applying the high frequency wave to an RF high frequency power supply 48, a film deposition surface 41a of a substrate 41 mounted on the substrate stage 42 is reverse-sputtered.例文帳に追加

そして、ＲＦ高周波電源４８に高周波を印加することによって基板ステージ４２に装着した基板４１の成膜面４１ａを逆スパッタする。 - 特許庁