SILICON METALとは 意味・読み方・使い方

A layer of silicon metal/silicon carbide composite material can be deposited instead of the silicon metal layer.例文帳に追加

珪素金属層の代わりに、珪素金属−炭化珪素複合材料層を形成できる。 - 特許庁

The second light-shieldale film 14 is the film that is primarily composed of a silicon-containing compound that can be etched by F-based dry etching, such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon/transition-metal oxide, silicon/transition metal nitride or silicon/transition metal oxynitride.例文帳に追加

さらに、第２の遮光性膜１４はＦ系ドライエッチングが可能な珪素含有化合物を主成分とする、珪素や珪素と遷移金属の酸化物、窒化物、または酸化窒化物などの膜である。 - 特許庁

The second light-shieldale film 14 is the film that is primarily composed of a silicon-containing compound that can be etched by F-based dry etching, such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon/transition-metal (such as molybdenum (Mo)) oxide, silicon/transition metal nitride or silicon/transition metal oxynitride.例文帳に追加

さらに、第２の遮光性膜１４はＦ系ドライエッチングが可能な珪素含有化合物を主成分とする、珪素や珪素と遷移金属（例えば、モリブデン（Ｍｏ））の酸化物、窒化物、または酸化窒化物などの膜である。 - 特許庁

TI, TA, HF, ZR AND RELATED METAL SILICON AMIDES FOR ALD/CVD OF METAL-SILICON NITRIDE, SILICON OXIDE OR SILICON OXYNITRIDE例文帳に追加

金属−窒化ケイ素、酸化ケイ素、又は酸窒化ケイ素のＡＬＤ／ＣＶＤ用のＴｉ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ及び関連する金属のケイ素アミド - 特許庁

SILICON INGOT AND HEAVY METAL CONTAMINATION EVALUATING METHOD OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンインゴット及びシリコンウェーハの重金属汚染評価方法 - 特許庁

To provide precursors suitable for forming metal silicon nitride base film, or metal silicon oxide or metal silicon oxynitride base film.例文帳に追加

金属窒化ケイ素ベース膜、金属酸化ケイ素又は金属酸窒化ケイ素ベース膜を形成させるために好適な前駆体の提供。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL SILICON OXIDE, METHOD FOR PRODUCING METAL SILICON OXYNITRIDE AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-DOPED METAL NITRIDE例文帳に追加

金属シリコンオキサイドの製造方法、金属シリコンオキシナイトライドの製造方法、およびシリコンドープされた金属ナイトライドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR JUDGING QUALITY IN METAL SILICON, AND METAL SILICON SUITED FOR SYNTHESIZING METHYLCHLOROSILANE例文帳に追加

金属珪素の品質判定方法及びメチルクロロシランの合成に適した金属珪素 - 特許庁