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silicon migrationとは 意味・読み方・使い方
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「silicon migration」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
To suppress the migration of silicon germanium films in depositing the silicon germanium film with a high activation rate of dopant.例文帳に追加
ドーパントの活性化率の高いシリコンゲルマニウム膜を成膜するにあたり、シリコンゲルマニウム膜のマイグレーションを抑えること。 - 特許庁
A silicon wafer is thermally treated in such thermal treatment condition as migration occurs with the silicon in a wafer surface layer in the atmosphere of argon gas.例文帳に追加
アルゴンガスの雰囲気下、ウェーハ表層のシリコンにマイグレーションが発生する熱処理条件でシリコンウェーハを熱処理する。 - 特許庁
After that, HSG grains 58a are formed in the front surface by processing a silicon atom in migration by an HSG treatment (Fig.(E)).例文帳に追加
その後、HSG化処理によりシリコン原子をマイグレーションさせて表面にHSG粒58aを形成する(図1(E))。 - 特許庁
To form an amorphous silicon electrode film which is kept free from bold defects and whose surface gets rugged by migration.例文帳に追加
ボールドディフェクトがない,マイグレーションに起因して表面が凹凸形状を為すアモルファスシリコン電極膜を形成する。 - 特許庁
Furthermore, part of the active region is formed of the amorphous silicon films 12A and 12B, which are low in carrier migration degree, so that leakage current is reduced.例文帳に追加
又、能動領域の一部がキャリア移動度の低い非晶質珪素膜12A,12Bで形成されるのでリーク電流が低減される。 - 特許庁
An amorphous silicon film 102 is formed on a semiconductor susbtrate 100, a stopper film 10 for preventing a migration on the surface of the amorphous silicon film 102 is formed on the surface of the amorphous silicon film 102, and then after this, the stopper film 10 is removed from the surface of the amorphous silicon film 102.例文帳に追加
半導体基板100上にアモルファスシリコン膜102を形成し、アモルファスシリコン膜102の表面に、アモルファスシリコン膜102の表面のマイグレーションを防止するストッパ膜10を形成し、その後、アモルファスシリコン膜102の表面からストッパ膜10を除去する。 - 特許庁
To provide a method for improving the effect to remove the B in silicon by adding an additive to a slag material, which improves the migration speed of B in silicon to the slag and suppresses the recovery of B.例文帳に追加
スラグ材料に添加物を加えることによって、シリコン中Bのスラグへの移動速度を高め、復B現象を抑制し、シリコン中のB除去効果を高める方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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「silicon migration」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
Even if silver ions migrate into the anode body, free migration is regulated by silicon gel and short circuit or improper LC caused by silver ions can be retarded.例文帳に追加
陽極体の内部に銀イオンが移動してもシリコンゲルにより自由な移動が規制され、銀イオンの引き起こすショート不良、LC大不良の発生を遅らせることができる。 - 特許庁
To form proper HSGs(hemispherical grain) by eliminating factors which prevents migration of silicon atoms, and to improve yield of a product by solving the problem of dimples around a contact hole.例文帳に追加
シリコン原子のマイグレーションを阻害する要因を排除して、良好なHSGを形成を図るとともに、コンタクトホール周辺での窪みを解消して、製品の歩留まりの向上を図る。 - 特許庁
To form an amorphous silicon electrode film which is doped with phosphorus through a surface reaction thin film forming method and whose surface gets rugged due to migration.例文帳に追加
表面反応薄膜形成法によって燐がドープされた,マイグレーションに起因して表面が凹凸形状を為すアモルファスシリコン電極膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and its manufacturing method, capable of improving transistor performance by restraining carrier migration due to inter-lattice silicon from deteriorating.例文帳に追加
格子間のシリコンによるキャリア移動度の劣化を抑制し、トランジスタ性能を向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To inhibit stress migration of an Al interconnect line and degradation of a lens shape in an integrated circuit that forms a micro-lens array using a silicon nitride film that is an interlayer dielectric film for the Al interconnect line.例文帳に追加
Al配線の層間絶縁膜であるシリコン窒化膜を用いてマイクロレンズアレイを形成する集積回路において、Al配線のストレスマイグレーション及びレンズ形状の崩れを防止する。 - 特許庁
To provide a method of forming an amorphous silicon electrode film, which is kept free of bald defects and whose surface becomes rugged due to migration.例文帳に追加
ボールドディフェクトがない,マイグレーションに起因して表面が凹凸形状を為すアモルファスシリコン電極膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To improve durability by preventing the occurrence of a crack caused by thermal expansion in the vicinity of a connection terminal part 4 formed on the circumferential surface of a rod-like base body 1 formed of a silicon nitride-based ceramics and to prevent migration.例文帳に追加
窒化ケイ素質セラミックスから成る棒状基体1の外周面に設けられる接続端子部4付近における熱膨張に起因したクラックの発生を防ぎ耐久性を向上するとともに、マイグレーションを抑制する。 - 特許庁
Moreover, in the case of performing a process of carrying out a wafer by evacuating the inside of the reaction vessel after depositing the silicon germanium film, the silicon germanium film is annealed by hydrogen gas while lowering the temperature inside the reaction vessel from the deposition temperature, so as to suppress the migration at the time of evacuation.例文帳に追加
またシリコンゲルマニウム膜を成膜後に反応容器内を真空引きしてウエハを搬出する工程を行う場合には、反応容器内を成膜温度から降温させながら水素ガスによりシリコンゲルマニウム膜をアニールし、真空排気時のマイグレーションを抑える。 - 特許庁
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