意味 | 例文 (3件) |
SLG2とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「SLG2」の意味 |
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SLG2
human | 遺伝子名 | SLG2 |
同義語(エイリアス) | UNQ477/PRO940; Siglec-like protein 2; SIGLEC-10; Siglec-10; sialic acid binding Ig-like lectin 10; Sialic acid-binding Ig-like lectin 10 precursor; MGC126774; SIGLEC10; PRO940 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q96LC7 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:89790 | |
その他のDBのID | HGNC:15620 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「SLG2」を含む例文一覧
該当件数 : 3件
By this exposure scanning, a region irradiated with the pulse light transmitting through the transmissive pattern SLG1 is then irradiated with pulse light transmitting through the transmissive pattern SLG2 after a predetermined period has passed.例文帳に追加
この露光走査によれば、透過パターンSLG1を透過したパルス光が照射された領域には、所定時間経過後に、透過パターンSLG2を透過したパルス光が照射される。 - 特許庁
Each of transmissive patterns SLG1, SLG2 includes slots SLa or slots SLb in the same number which are regularly and equally spaced in a sub-scanning direction.例文帳に追加
透過パターンSLG1,SLG2のそれぞれは、副走査方向に等間隔で規則的に配置された同数のスロットSLaまたはスロットSLbを有する。 - 特許庁
When a pattern drawing device 100 scans an exposure unit 30 equipped with a mask 361 to the (+Y) side of the main scanning direction with respect to a substrate 9, the drawing device exposes a resist layer of a substrate 9 through the transmissive patterns SLG1, SLG2 at the same time.例文帳に追加
パターン描画装置100は、マスク361を備えた露後部30を、基板9に対して主走査方向の(+Y)側へ走査させる場合、透過パターンSLG1,SLG2とを同時に介して基板9のレジスト層を露光する。 - 特許庁
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1
MGC126774
遺伝子名称
2
PRO940
遺伝子名称
4
Siglec-like protein 2
遺伝子名称
5
UNQ477/PRO940
遺伝子名称
7
SIGLEC-10
遺伝子名称
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