a gate lineとは 意味・読み方・使い方

A gate insulating film and a scanning line combining a gate electrode are formed.例文帳に追加

さらにゲート絶縁膜とゲート電極を兼ねた走査線を形成する。 - 特許庁

A gate line including a gate electrode is formed on the upper part of an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板の上部にゲート電極を含むゲート線を形成する。 - 特許庁

Each gate electrode wiring 14 is connected with a gate bus line 17.例文帳に追加

また、各ゲート電極配線１４は、ゲートバスライン１７に接続される。 - 特許庁

Then a gate line 707 is formed on the gate-insulating film.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜上にゲート線７０７を形成する。 - 特許庁

A gate line and a storage electrode line are formed on an insulating substrate and a gate insulating layer covering the gate line is formed.例文帳に追加

絶縁基板上にゲート線及び維持電極線を形成し、ゲート線を覆うゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

A gate insulation film is formed on the gate line and the common electrode line, and a data line is formed on the gate insulation film.例文帳に追加

ゲート線と共通電極線の上にはゲート絶縁膜が形成されており、ゲート絶縁膜の上にはデータ線が形成されている。 - 特許庁

When selecting the gate line 6 or the data line 7 (in the embodiment, the gate line 6), a decoder (gate selection decoder 13) is used.例文帳に追加

ゲートライン６またはデータライン７（この例ではゲートライン６）を選択するのに、デコーダ（ゲート選択デコーダ１３）を用いる。 - 特許庁

The semiconductor film 12 of a TFT 3 has a double gate structure in which the film intersect one part of a gate line 2 twice and only a gate 15 remote from a data line 1 has a dual gate structure in which the semiconductor film 12 is held between the gate line 2 and a gate electrode 17 and a gate 14 has a single gate structure.例文帳に追加

ＴＦＴ３の半導体膜１２はゲート線２の一部と２回交差するダブルゲート構造であり、データ線１に遠いゲート１５だけがゲート線２およびゲート電極１７に半導体膜１２が挟まれたデュアルゲート構造を有し、ゲート１４は単一のゲート構造である。 - 特許庁