actinic lightとは 意味・読み方・使い方

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly sensitive curable composition which efficiently generates active free radicals by the irradiation of actinic radiations, particularly the irradiation of light.例文帳に追加

本発明の目的は、エネルギー線、特に光の照射により活性なラジカルを効率よく発生し、ラジカル硬化性物質を短時間に重合させうる高感度な硬化性組成物を提案することにある。 - 特許庁

To provide an actinic light-curing type resist ink having an excellent close adhesion, insulation and bending property at a low temperature, and endurance of heat resistance, humidity resistance, heat impact resistance, cold resistance, etc., simultaneously.例文帳に追加

優れた密着性と絶縁性と低温の屈曲性を有し、かつ、耐熱性、耐湿性、耐熱衝撃性、耐寒性等の耐久性を合わせ持つ紫外線などの活性光線硬化型レジストインキを提供する。 - 特許庁

To provide an actinic energy ray curable overcoating varnish curable by the irradiation of ultraviolet light or electron ray and having especially excellent deinking property and provide its printed material and a method for regenerating the printed material.例文帳に追加

本発明は紫外線もしくは電子線等の照射により硬化し、特に脱墨性に対し優れた活性エネルギー線硬化性オーバーコートニス、その印刷物、その印刷物の再生方法に関する発明に関する。 - 特許庁

To provide a method for the storage of an inkjet recording ink curable by actinic light, capable of stably recording a high-precision image having excellent letter quality and free from color mixing trouble and provide an image-forming method and a recording apparatus.例文帳に追加

文字品質に優れ、色混じりの発生がない高精細な画像を安定に記録することができる活性光線硬化型インクジェット記録用インクの保存方法、画像形成方法及び記録装置を提供する。 - 特許庁

When the printing plate having thickness of about 3-5 mm is produced in an exposure process performing double-face exposure, the surface of the support is irradiated with actinic rays for exposing the plate through the support side so that the light irradiation intensity becomes lower than 2.0 mW/cm^2 by a light attenuation film.例文帳に追加

両面露光を行う露光工程によって版厚約３ｍｍ〜５ｍｍ程度の印刷版を製造する場合、支持体側からの露光の際に支持体表面に照射される活性光線の光照射強度を減光フィルムにより２．０ｍＷ／ｃｍ^２より小さくして行うこと。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁