auxiliary projection methodとは 意味・読み方・使い方

To provide correction methods for a photomask capable of correcting an auxiliary pattern of the photo mask, when the auxiliary pattern is resolved on a surface to be transferred by a reliable and compatibly easy method in the photo mask having an ArF excimer laser as an exposure light source and having the auxiliary pattern used for projection exposure by means of deformation illumination, and to provide a corrected photomask.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを露光光源とし、変形照明による投影露光に用いられる補助パターンを有するフォトマスクにおいて、補助パターンが転写対象面に解像されてしまう場合のフォトマスクを、確実で比較的容易な方法により補助パターンを修正するフォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

This auxiliary device has a contact lens holding part, an insertion fringe for providing at a predetermined position of the cornea shape measuring device, and a small projection part for determining recessed and projecting faces of the contact lens automatically to measure a shape of the whole face of the contact lens by the same method as measurement method for human eye.例文帳に追加

この補助具は、コンタクトレンズ保持部と、角膜形状測定装置の所定位置に設置するための挿入縁と、コンタクトレンズの凹凸面を自動判別するための小突起部を有し、人眼測定と同じ方法でコンタクトレンズの全面の形状を測定する。 - 特許庁

In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.例文帳に追加

所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁