cobalt silicideとは 意味・読み方・使い方

In a semiconductor device in which a conductor layer formed by laminating silicon and cobalt silicide is formed, nitrogen is mixed into the cobalt silicide.例文帳に追加

シリコンとコバルトシリサイドとを積層した導体層が形成された半導体装置において、前記コバルトシリサイドに、窒素が混入している。 - 特許庁

A cobalt film 19 is formed and a cobalt silicide film 20 is formed by using silicide technology.例文帳に追加

その後、コバルト膜１９を形成した後、シリサイド技術を用いて、コバルトシリサイド膜２０を形成する。 - 特許庁

The polycrystal silicon film 7 is exposed, and a cobalt film is formed and a cobalt silicide film 8 is formed by a silicide treatment.例文帳に追加

多結晶シリコン膜７を露出させ、コバルト膜を成膜してシリサイド処理を行いコバルトシリサイド膜８を形成する。 - 特許庁

To remove remaining oxygen in a film which increases resistance in a cobalt silicide layer to form the lower resistive cobalt silicide layer.例文帳に追加

コバルトシリサイド層の抵抗を上昇させている膜中の残留酸素を除去して、低抵抗なコバルトシリサイド層の形成を図る。 - 特許庁

Furthermore, a high-melting metal silicide constituting a gate electrode 312 is formed of a cobalt silicide film 12.例文帳に追加

さらに、ゲート電極３１２を構成する高融点金属シリサイド膜が、コバルトシリサイド膜１２で形成されている。 - 特許庁

Thereafter, in a silicide process, a cobalt silicide film is formed on the gate electrode 4 and the high concentration source/drain region 7.例文帳に追加

その後、サリサイドプロセスにより、ゲート電極４及び高濃度ソース・ドレイン領域７上にコバルトシリサイド膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicide film capable of uniformly forming the thickness of a cobalt silicide film.例文帳に追加

コバルトシリサイド膜の厚さを均一に形成することができるシリサイド膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

Here, metals included in the metal silicide layer may be selected from titanium, nickel, cobalt, or platinum.例文帳に追加

ここで、金属シリサイド層に含まれる金属がチタン、ニッケル、コバルトまたは白金とすることができる。 - 特許庁