direct current resistivityとは 意味・読み方・使い方

The semiconductive multi-layer endless tubular polyimide film is composed of at least two layers so that the value of the absolute value of volume resistivity divided by the absolute value of surface resistivity when a direct current voltage of 3 kV or below is applied is 0.1-1,000.例文帳に追加

３ｋＶ以下の直流電圧を印加した場合に得られる体積抵抗率の絶対値を表面抵抗率の絶対値で除した値が０．１〜１０００倍の範囲にあるように少なくとも二層で構成されている半導電性多層無端管状ポリイミド系フイルム。 - 特許庁

The direct-current power cable, as a final product, has not only an excellent effect in physical properties such as volume resistivity and hot set which are required for a power cable but also increased volume resistivity and excellent space charge reducing effect.例文帳に追加

最終的に製造された直流用電力ケーブルは、電力ケーブルに求められる体積比抵抗、ホットセットなどの物性において優れた効果を奏するだけでなく、上昇した体積比抵抗と優れた空間電荷低減効果とを有する。 - 特許庁

A raw material sintered compact having a low electric resistivity is obtained by adding the niobium oxide to the zinc sulfide and the sintered compact is easily formed in the thin film shape by a direct current sputtering method.例文帳に追加

さらに、酸化ニオブの添加により、原料焼結体を低い電気抵抗率にして、この焼結体を直流スパッターにより薄膜に形成するのを容易にする。 - 特許庁

To provide gas-insulated equipment excellent in direct-current withstand voltage characteristics and compactness, favorable in resistance to insulating cracked gas, resistant to the adhesion of metallic foreign matter, and reliable by forming a film that can discharge residual direct-current voltage on the surface of an insulating spacer to make it possible to easily and reliably control the resistivity distribution of the insulating spacer.例文帳に追加

絶縁スペーサの表面に残留直流電圧を放電可能な膜を形成することにより、絶縁スペーサの抵抗率分布を容易且つ確実に制御可能とし、直流耐電圧特性とコンパクト性に優れ、しかも絶縁分解ガスに対する耐性が良好で、且つ金属異物が付着し難い、信頼性の高いガス絶縁機器を提供する。 - 特許庁

This transparent conductive film satisfies resistivity of less than 250 μΩ.cm, the maximum vertical interval of surface unevenness/film thickness of less than 10% and this conductive film can be made, for example, by sputtering a target consisted of In, Sn, Ge, and O with sputter power in which a radio frequency current is superimposed on a direct current.例文帳に追加

抵抗率が２５０μΩ・ｃｍ以下で表面凹凸の最大高低差／膜厚が１０％以下を満足する透明導電膜であり、この導電膜は、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、ＧｅおよびＯからなるスパッタリングターゲットを、ｄｃにｒｆを重畳したスパッタ電力でスパッタすることにより得られる。 - 特許庁

To manufacture a sputtering target consisting of titanium dioxide, which is suitable for direct current voltage sputtering, that is, has an electrical resistivity of less than 5 Ωcm, (preferably, less than 1 Ωcm), and which can be manufactured by a particularly inexpensive method to be simply operated with an easy handling technique, so as to be produced with a large number of fragmentations.例文帳に追加

二酸化チタンからなるスパッタリングターゲットを、直流電圧スパッタリングに適している、即ち比電気抵抗が５Ωｃｍ未満である（が、しかし、好ましくは１Ωｃｍ未満である）ように製造し、その際スパッタリングターゲットは、特に安価である、簡単で処理技術的に容易に操作することができる方法によって、大きな断片数で製造されることができなければならない。 - 特許庁