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high-K gateとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「high-K gate」の意味

high-K gate

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「high-K gate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 107



例文

To provide a high-k gate insulation film having a long reliability life.例文帳に追加

長い信頼性寿命を持つhigh-kゲート絶縁膜を実現する。 - 特許庁

HIGH TEMPERATURE ETCHING METHOD OF HIGH K MATERIAL GATE STRUCTURE例文帳に追加

高k材料ゲート構造の高温エッチング方法 - 特許庁

A High-K dielectric film 102 is formed so as to come in contact with the sides of a High-K gate dielectric film 104 and then annealed in an oxygen atmosphere.例文帳に追加

High-Kゲート誘電膜104の側面と接触するようにHigh-K誘電膜102を形成した後、酸素雰囲気中でアニールする。 - 特許庁

To prevent the deterioration in mobility, while maintaining high the dielectric constant of a high-k gate insulating film.例文帳に追加

high-kゲート絶縁膜の誘電率を高く維持しながら移動度の劣化を防止する。 - 特許庁

To solve cleaning problems in a dry etching device for treating a high-k/metal gate.例文帳に追加

high-k/メタルゲートを処理するドライエッチング装置における、クリーニングの課題を解決する。 - 特許庁

INTERFACE LAYER GROWTH FOR HIGH-K GATE DIELECTRIC AT HIGH TEMPERATURE例文帳に追加

高温度における高kゲート誘電体用の界面層成長 - 特許庁

例文

FORMATION METHOD FOR GATE LAMINATION HAVING HIGH K DIELECTRIC例文帳に追加

高K誘電体を有するゲート積層の形成方法 - 特許庁

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「high-K gate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 107



例文

SEMICONDUCTOR DEVICE WITH HIGH-K GATE DIELECTRIC AND METAL GATE ELECTRODE例文帳に追加

高kゲート誘電体および金属ゲート電極を有する半導体デバイス - 特許庁

The high threshold device has a thick-formed gate oxide film or a high-k dielectric gate oxide film.例文帳に追加

高スレショルドのデバイスは、厚くしたゲート酸化膜または高k誘電体ゲート酸化膜を有する。 - 特許庁

To achieve a work function value required for an FET of each polarity in a High-k/metal gate electrode structure.例文帳に追加

High-k/metalゲート電極構造において各極性のFETに要求される仕事関数値を実現する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME (HIGH-K METAL GATE CMOS)例文帳に追加

半導体デバイスとその形成方法(高k金属ゲートCMOS) - 特許庁

For a gate dielectric a high K polymer can be employed to improve device performance.例文帳に追加

ゲート誘電体は、デバイス性能を高める高Kポリマとすることができる。 - 特許庁

METHOD OF DEPOSITING MULTIPLEX HIGH-K GATE DIELECTRIC FOR CMOS APPLICATION例文帳に追加

CMOSアプリケーション用の多重高κゲート誘電体を堆積する方法 - 特許庁

Then a gate electrode 110 is formed on the high K dielectric 108.例文帳に追加

その後、ゲート電極(110)が高K誘電体(108)上に形成される。 - 特許庁

例文

The high-k gate insulation film formed between an Si substrate 11 and a gate electrode 17 comprises an interface layer 15 formed on an interface with the Si substrate 11, and a high-k layer 16 which is formed on the interface layer 15 and has a high relative permittivity than that of the interface layer 15.例文帳に追加

Si基板11とゲート電極17との間に形成されるhigh-kゲート絶縁膜は、Si基板11との界面に形成された界面層15と、界面層15の上に形成され且つ界面層15よりも比誘電率が高いhigh-k層16とを有する。 - 特許庁

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