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highly dopedとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 高添加の
「highly doped」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 77件
MANUFACTURING METHOD OF HIGHLY DOPED SEMICONDUCTOR WAFER AND DISLOCATION-FREE HIGHLY DOPED SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
高度にドープされた半導体ウェハの製造法および転位のない高度にドープされた半導体ウェハ - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING HIGHLY DOPED SILICON SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
高濃度にドーピングされたシリコン単結晶の製造方法 - 特許庁
The highly-doped back surface field layer (24) and the lightly-doped crystalline substrate (22) are similarly doped, and the doping level of the highly-doped back surface field layer (24) is higher than that of the lightly-doped crystalline substrate (22).例文帳に追加
高濃度ドープ背面電界層(24)及び低濃度ドープ結晶質基板(22)は、同種型にドープされ、高濃度ドープ背面電界層(24)のドーピングレベルは、低濃度ドープ結晶質基板(22)のドーピングレベルよりも高い。 - 特許庁
Because the semiconductor substrate is highly doped and has low resistivity.例文帳に追加
半導体基板は高度にドープされ、それゆえ抵抗率が低い。 - 特許庁
HIGHLY ACTIVE PHOTOCATALYST CARBON-DOPED TITANIUM DIOXIDE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
高活性光触媒炭素ドープ二酸化チタンとその作製方法 - 特許庁
The semiconductor board 102 is highly doped, so that it is low in resistivity.例文帳に追加
半導体基板は高度にドープされ、それゆえ抵抗率が低い。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SILICON SINGLE CRYSTAL, AND N-TYPE HIGHLY DOPED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
シリコン単結晶の製造方法及びN型高ドープ半導体基板 - 特許庁
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「highly doped」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 77件
METHOD OF FORMING EXTREMELY THIN OXYNITRIDE GATE DIELECTRIC HIGHLY DOPED WITH NITROGEN例文帳に追加
高度に窒素ドープされた超薄オキシ窒化物ゲート誘電体の形成方法 - 特許庁
METHOD OF DEPOSITION BY EPITAXY OF SILICON LAYER ON HIGHLY DOPED SILICON SUBSTRATE例文帳に追加
高ド—プシリコン基板上でエピタクシによってシリコン層をデポジションする方法 - 特許庁
The structure includes a highly-doped back surface field layer (24) disposed adjacent to the lightly-doped crystalline substrate (22).例文帳に追加
この構造は、低濃度ドープ結晶質基板(22)に隣接して配置された高濃度ドープ背面電界層(24)を含む。 - 特許庁
The region 3 of the second conductivity type is diffused in such a manner that it reaches the highly doped region 1, with an upward diffusion of doping from a highly doped substrate layer 1 to a weakly doped layer 2 of the same conductivity type concurrently.例文帳に追加
第2の伝導型の領域3は、当該領域が高ドーピング領域1に達するように拡散し、同時に高ドーピング基板層1から同じ伝導型の弱ドーピング層2へのドーピングの上方拡散を行う。 - 特許庁
Sources or drains 14 of transistors, and photodiodes 13 which constitute light blocking pixel covered by a light blocking layer 16 are formed in a surface of a highly doped well 20 formed in a lightly doped substrate 11, forming the potential barrier ΔV from the lightly doped substrate 11 toward the heavily doped well 20.例文帳に追加
遮光層16で覆われた遮光画素を構成するトランジスタのソースまたはドレイン14およびフォトダイオード13は、低濃度基板11に設けられた高濃度ウェル20の表面に形成されている。 - 特許庁
A tunnel semiconductor region 23 includes a tunnel junction (pn junction) 29 made up of a first conductive type highly doped semiconductor layer 25 and a second conductivity type highly doped semiconductor layer 27.例文帳に追加
トンネル半導体領域23が、第1導電型高ドープ半導体層25および第2導電型高ドープ半導体層27からなるトンネル接合(pn接合)29を含む。 - 特許庁
HIGHLY STABLE AND EFFICIENT OLEDS WITH PHOSPHORESCENT-DOPED MIXED LAYER ARCHITECTURE例文帳に追加
燐光性ドープがされた混合層構造を有する、非常に安定で効率的な有機発光素子 - 特許庁
A novel highly transparent zeolite doped polymer and a zeolite monomolecular layer are produced.例文帳に追加
本発明は、新規な高度に透明なゼオライトドープポリマーおよびゼオライト単分子層の調製に関する。 - 特許庁
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