interference exposureとは 意味・読み方・使い方

INTERFERENCE MEASURING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉計測装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

The exposure of the resist by the double-beam interference method is carried out only twice and directions of interference fringes are given a 60° angle difference between the first exposure and second exposure.例文帳に追加

二光束干渉法によるレジストの露光は２回のみ行い、１回目の露光と２回目の露光で干渉縞の方向に６０゜の角度差をもたせる。 - 特許庁

INTERFERENCE MEASURING METHOD, INTERFEROMETER, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉計測方法、干渉計、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM, MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE例文帳に追加

干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN EXPOSURE METHOD AND DEVICE, AND ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE SHIELD MATERIAL例文帳に追加

パターン形成方法、パターン露光方法及び装置、電磁波シールド材料 - 特許庁

Interference exposure is carried out on the resist layer 3 to form the diffraction grating pattern thereon.例文帳に追加

干渉露光を行いレジスト層３に回折格子パターンを形成する。 - 特許庁

To perform a plurality of exposures, having different methods such as two-light flux interference exposure, ordinary exposure, etc.例文帳に追加

二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。 - 特許庁

A diffraction grating pattern is formed in the photoresist layer 3 by interference exposure method.例文帳に追加

干渉露光法によりフォトレジスト層３に回折格子パターンを形成する。 - 特許庁