interference exposureとは 意味・読み方・使い方

EXPOSURE APPARATUS EMPLOYING MASKLESS INTERFERENCE EXPOSURE UNIT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクレスの干渉露光ユニットを用いる露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

INTERFERENCE MEASURING METHOD, INTERFEROMETER, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉計測方法、干渉計、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM, MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE例文帳に追加

干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

The exposure of the resist by the double-beam interference method is carried out only twice and directions of interference fringes are given a 60° angle difference between the first exposure and second exposure.例文帳に追加

二光束干渉法によるレジストの露光は２回のみ行い、１回目の露光と２回目の露光で干渉縞の方向に６０゜の角度差をもたせる。 - 特許庁

SYSTEM IN EXPOSURE SECTION OF LITHOGRAPHY TOOL, HOW TO REDUCE INTERFERENCE FROM UNDESIRABLE REFLECTION IN MEASURING INTERFERENCE ALIGNMENT WITH LITHOGRAPHY TOOL例文帳に追加

リソグラフィツールの露光部内のシステム、リソグラフィツールでの、干渉整列測定中、不所望な反射からの干渉を低減する方法 - 特許庁

To provide a multiphoton interference aligner capable of creating various exposure patterns using interference of multiple photons without requiring a reticle.例文帳に追加

様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を使用して作り出すことが可能な多光子干渉露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an interference aligner capable of creating various exposure patterns using interference of light without using a reticle.例文帳に追加

様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、光の干渉を使用して作り出すことが可能な干渉露光装置を提供する。 - 特許庁

More specifically, a single wavelength is employed in exposure light, and interference light in the shape of wavy line obtained by interference of incident light and reflection light is used.例文帳に追加

具体的には、露光光に単一波長を用いて、入射光と反射光との干渉によって得られた波線状の干渉光を利用する。 - 特許庁