「interference exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

INTERFERENCE MEASURING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PERIODICAL STRUCTURE PATTERN AND INTERFERENCE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置 - 特許庁

INTERFERENCE MEASURING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉計測装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

The exposure of the resist by the double-beam interference method is carried out only twice and directions of interference fringes are given a 60° angle difference between the first exposure and second exposure.例文帳に追加

二光束干渉法によるレジストの露光は２回のみ行い、１回目の露光と２回目の露光で干渉縞の方向に６０゜の角度差をもたせる。 - 特許庁

INTERFERENCE MEASURING METHOD, INTERFEROMETER, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉計測方法、干渉計、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM, MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE例文帳に追加

干渉光学系、計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN EXPOSURE METHOD AND DEVICE, AND ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE SHIELD MATERIAL例文帳に追加

パターン形成方法、パターン露光方法及び装置、電磁波シールド材料 - 特許庁

Interference exposure is carried out on the resist layer 3 to form the diffraction grating pattern thereon.例文帳に追加

干渉露光を行いレジスト層３に回折格子パターンを形成する。 - 特許庁

To perform a plurality of exposures, having different methods such as two-light flux interference exposure, ordinary exposure, etc.例文帳に追加

二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。 - 特許庁

A diffraction grating pattern is formed in the photoresist layer 3 by interference exposure method.例文帳に追加

干渉露光法によりフォトレジスト層３に回折格子パターンを形成する。 - 特許庁

The lithography system is configured by combining an interference exposure unit and a lithography unit.例文帳に追加

干渉露光ユニットとリソグラフィーユニットとが合わさってリソグラフィーシステムが構成される。 - 特許庁

To provide an interference aligner capable of creating various exposure patterns using interference of light without using a reticle.例文帳に追加

様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、光の干渉を使用して作り出すことが可能な干渉露光装置を提供する。 - 特許庁

SYSTEM IN EXPOSURE SECTION OF LITHOGRAPHY TOOL, HOW TO REDUCE INTERFERENCE FROM UNDESIRABLE REFLECTION IN MEASURING INTERFERENCE ALIGNMENT WITH LITHOGRAPHY TOOL例文帳に追加

リソグラフィツールの露光部内のシステム、リソグラフィツールでの、干渉整列測定中、不所望な反射からの干渉を低減する方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONCAVO-CONVEX PATTERN ON PHOTOSENSITIVE SUBSTRATE AND EXPOSURE APPARATUS FOR INTERFERENCE FRINGE PATTERN例文帳に追加

感光性基板に凹凸パターンを形成する方法及び干渉縞パターン露光装置 - 特許庁

To provide a multiphoton interference aligner capable of creating various exposure patterns using interference of multiple photons without requiring a reticle.例文帳に追加

様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を使用して作り出すことが可能な多光子干渉露光装置を提供する。 - 特許庁

WAVELENGTH SHIFT MEASURING APPARATUS, OPTICAL SOURCE APPARATUS, INTERFERENCE MEASURING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

波長ずれ測定装置、光源装置、干渉測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

POSITION MEASUREMENT METHOD USING INTERFEROMETER, INTERFERENCE TYPE POSITION MEASUREMENT APPARATUS, ALGNER AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

干渉計を用いた位置測定方法、干渉式位置測定装置、露光装置及び露光方法 - 特許庁

MODULATED LIGHT GENERATOR, INTERFERENCE MEASURING INSTRUMENT BY LIGHT WAVE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO DEVICE例文帳に追加

変調光発生装置、光波干渉測定装置、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

To obtain an excellent image by preventing the occurrence of interference fringes due to the interference of frequency of both pre-transfer electrification and pre-transfer exposure.例文帳に追加

転写前帯電と転写前露光の両者の周波数の干渉による干渉縞の発生を防止して、良好な画像を得ることができるようにする。 - 特許庁

In this period measuring method, a photoresist film 10a is formed on a semiconductor substrate 10 on which the diffraction grating is formed, and an interference pattern is formed by exposing it by a two-luminous flux interference exposure method.例文帳に追加

回折格子が形成された半導体基板１０上にフォトレジスト膜１０ａを形成し、二光束干渉露光法で干渉パターンを露光する。 - 特許庁

More specifically, a single wavelength is employed in exposure light, and interference light in the shape of wavy line obtained by interference of incident light and reflection light is used.例文帳に追加

具体的には、露光光に単一波長を用いて、入射光と反射光との干渉によって得られた波線状の干渉光を利用する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING INTERFERENCE, METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION LENS, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

干渉測定方法及び干渉測定装置、並びに投影レンズの製造方法及び投影露光装置 - 特許庁

To reduce the asymmetric aberration caused by the mutual interference of magnetic-field lenses present in a charged-particle-beam exposure apparatus.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における磁界レンズの相互干渉による非対称収差を低減する。 - 特許庁

PHOTORESIST PATTERN BY INTERFERENCE EXPOSURE METHOD, METHOD FOR FORMING THE SAME AND OPTICAL COMPONENT PRODUCED USING THOSE例文帳に追加

干渉露光法によるフォトレジストパターン、その形成方法およびそれらを用いて作製した光学部品 - 特許庁

To provide an exposure device that can reliably prevent fracture of a mask due to interference with a substrate.例文帳に追加

基板との干渉によるマスクの破損を確実に防止することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

In the exposure method for irradiating the pattern images of interference fringes on a sensitive substrate to perform exposure, the pattern images of the interference fringes are formed by using the intensity contrasts of the interference fringes generated when irradiating on an interference position from different angles three or more beams whose wavelengths are identical to each other.例文帳に追加

感応基板上に干渉縞パターン像を照射して露光を行う露光方法において、前記干渉縞パターン像を、同一の波長を有する３つ以上の光束を別の角度から干渉位置に照射した際に発生する干渉縞の明暗により形成することを特徴とする。 - 特許庁

Before a minimum exposure time for forming a reproducible hologram is reached, interference exposure using signal line and reference light is completed to form an incomplete hologram and independent exposure wherein the incomplete hologram is irradiated with the reference light is performed after the interference exposure to generate diffracted light, thereby recording information through interference between the reference light and the diffracted light.例文帳に追加

再生可能なホログラムを形成するための最小露光時間に達する前に、信号光及び参照光による干渉露光を完了して、未完ホログラムを形成し、干渉露光後に参照光を未完ホログラムに照射する単独露光を行うことによって回折光を発生させ、参照光及びその回折光の干渉により情報を記録するようにした。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING INTERFERENCE, DEVICE OF CONTROLLING INTERFEROMETER, METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION LENS, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

干渉測定方法及び干渉計の制御装置、並びに、投影レンズの製造方法及び投影露光装置 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD AND DEVICE USING INTERFERENCE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE USING IT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 - 特許庁

MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS UTILIZING SHEARING INTERFERENCE, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS UTILIZING THE SAME, AND DEVICE-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

シアリング干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 - 特許庁

To provide a liquid crystal optical device which displays a multicolor image by one laser interference exposure processing, and to provide a method for manufacturing the device.例文帳に追加

一度のレーザー干渉露光で多色を表示する液晶光学素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, the occurrence of interference fringes can be prevented and the plurality of projecting parts having the height dimensions different from each other can be formed by using the single exposure mask 210.例文帳に追加

また、１つの露光マスク２１０で高さ寸法の異なる複数種類の凸部を形成することができる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING INTERFERENCE, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND PROJECTION EXPOSURE UNIT例文帳に追加

干渉測定方法、干渉測定装置、及び投影光学系の製造方法、投影光学系、並びに投影露光装置 - 特許庁

MEASURING METHOD AND APPARATUS USING SHEARING INTERFERENCE, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS USING THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

シアリング干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CALIBRATING SHEARING INTERFERENCE MEASURING DEVICE, METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SHEARING INTERFERENCE, METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, THE PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO DEVICE, AND MICRODEVICE例文帳に追加

シアリング干渉測定装置の校正方法、シアリング干渉測定方法、シアリング干渉測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁

METHOD, EQUIPMENT, AND PROGRAM FOR ANALYZING INTERFERENCE FRINGE INTERFERENCE MEASURING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

干渉縞解析方法、干渉縞解析装置、干渉縞解析プログラム、干渉測定装置、投影光学系の製造方法、投影露光装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The stage 10 is driven in a pitch of keeping the overlapped exposure energy distribution constant to perform the joined exposure on an area of the work 9 by controlling the scanning of the interference fringe.例文帳に追加

ステージ１０を重ね合わせ露光エネルギー分布が一定になるピッチでステップ的に駆動して、ワーク９のある範囲を干渉縞走査制御によるつなぎ合わせにより露光する。 - 特許庁

An anti-reflecting film made up of an upper layer film as an interference film against exposure light and a lower layer film as an aluminum film for reflecting the exposure light is formed between the substrate to be processed and a resist film.例文帳に追加

被加工基板とレジスト膜との間に、上層膜は露光光に対する干渉膜で、下層膜は露光光を反射するアルミニューム膜である反射防止膜を形成する。 - 特許庁

A pattern of irregularly spaced grooves is formed on the grating face of the diffraction grating 1 by a laser interference system for holographic exposure.例文帳に追加

回折格子１の格子面にはホログラフィック露光用のレーザー干渉系を用いて不等間隔の溝パターンが形成される。 - 特許庁

SHEARING INTERFERENCE MEASURING METHOD AND SHEARING INTERFEROMETER, METHOD OF MANUFACTURING FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

シアリング干渉測定方法及びシアリング干渉計、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 - 特許庁

This lithography system can be configured such that a pitch of the lines exposed by the interference exposure unit is an integer multiple of a size of an exposure area of the lithography unit corresponding to a single individually controllable element in the exposure on a substrate by the lithography unit.例文帳に追加

このリソグラフィーシステムは、干渉露光ユニットにより露光されるラインのピッチが、リソグラフィーユニットによる基板への露光において１つの個別制御可能素子に対応する露光区域の大きさの整数倍となるように構成されている。 - 特許庁

To provide a laser exposure device which allows the production of a hologram element by which interference stripes are correctly formed in a predetermined part of a hologram material without shaking laser exposure and by which productivity is improved, and to provide a support device for the laser exposure device.例文帳に追加

レーザ露光のぶれを生じさせることなく正確にホログラム感材の所定の位置に干渉縞を形成し、生産性を向上し得るホログラム素子を製造することができるレーザ露光装置及びその支持装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an exposing device preventing the generation of electromagnetic interference such as the generation of noise or the like, in which a partial change of the exposure quality is not generated.例文帳に追加

ノイズの発生などの電磁障害の発生を防ぐと共に、露光品質が部分的に変化しない露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry joint material which is free from exposure to the outside of an external wall, and capable of preventing interference with externally fitted parts and degradation of the appearance.例文帳に追加

外壁の外側への露出がなく、外装部品との干渉や美観の低下を防止できる乾式目地材を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam exposure device easily optically adjusted, restraining the loss of light quantity and preventing density fluctuation caused by interference irregularity.例文帳に追加

光学調整が簡単でありかつ光量の損失を抑え、干渉ムラによる濃度変動のないレーザビーム露光装置を提供する。 - 特許庁