mask-lessとは 意味・読み方・使い方

One advantage is that the mask 202 is or at least is less inclined to be lifted off the face as mask pressure is increased.例文帳に追加

１つの利点は、マスク２０２がマスク圧力が増加するにつれて顔から持ち上がって傾斜しないか、殆んど傾斜しない点にある。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method which improves an efficiency of a mask-less lithography system, and improves a throughput of the system.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィシステムの効率を高め、スループットを高めるシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank and a method for manufacturing a transfer mask, and a mask blank and a transfer mask which are capable of improving light resistance of a thin film against exposure light having a wavelength of 200 nm or less and significantly improving a mask lifetime.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の露光光に対する薄膜の耐光性の向上、マスク寿命の改善を顕著に図ることができるマスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank having a multilayered film which is less damaged when wet-etched and can easily be etched, and a gradation mask.例文帳に追加

ウェットエッチングした場合に、膜へのダメージが少なく、かつ、容易にエッチング可能な多層膜を有するマスクブランクおよび階調マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an aligner, which can align easily and can cause less damages to the mask, even when the transmissivity of a mask is low.例文帳に追加

マスクの透過率が低い場合であっても、容易に位置合わせを行うことができ、かつマスクの破損の生じにくい位置合わせ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask assuring excellent heat radiating characteristic with less influence of crystal defect and also assuring processing characteristic and moreover provide a method for manufacturing the same stencil mask.例文帳に追加

放熱性が良く、結晶欠陥の影響が少なく、加工特性に優れたステンシルマスク及びステンシルマスク製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming an ion implantation mask, having steep side faces whose patterns, are less likely to be tapered.例文帳に追加

急峻な側面を有し、パターンが細り難い、イオン注入マスクの形成方法を提供する。 - 特許庁