multi-target sputteringとは 意味・読み方・使い方

SPUTTERING TARGET, SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD, AND MULTI-LAYERED FILM例文帳に追加

スパッターターゲット、スパッター装置、スパッター方法及び多層膜 - 特許庁

MULTI-SEGMENTAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM例文帳に追加

多分割スパッタリングターゲットおよび薄膜の製造方法 - 特許庁

To provide a leaf system multi-segmental ITO sputtering target, which restrains cracking of a target generating during vacuum exhaust and/or sputtering, and has a minor axis of 0.7-1.0 times as long as a major axis.例文帳に追加

真空排気時および／またはスパッタリングを行った際に発生するターゲットの割れを抑制した、短軸が長軸の０．７〜１．０倍である枚葉式多分割ＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide an alloy containing a multi-component oxide which is used for a sputter target, and capable of depositing a thin film by the sputtering.例文帳に追加

スパッタターゲットに使用することができ、スパッタして薄膜を形成することができる、多重成分の酸化物を含有する合金を提供する。 - 特許庁

The sputtering target is a multi-component target composed of silicon single crystal and high melting point metal and is used at film deposition on a substrate.例文帳に追加

基板上に成膜する際に用いるスパッタリングターゲットであって、シリコン単結晶と高融点金属からなる複合ターゲットであることを特徴とするスパッタリングターゲット。 - 特許庁

The multi-segmental target is used for a rocking magnet type sputtering apparatus and formed by arranging a plurality of target members on a backing plate and the grinding direction of the surface of each target member is in ≤±10° of the normal line to the rocking direction of the magnet.例文帳に追加

揺動磁石型スパッタリング装置用に用いられる、バッキングプレート上に複数のターゲット部材を配設してなる多分割ターゲットであって、各ターゲット部材表面の研削方向が、磁石の揺動方向に対する法線方向の±１０度以内にある多分割ターゲット。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE WITH MULTI-LAYERED REFLECTING FILM, MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION TYPE MASK BLANK, AND MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加

スパッタリングターゲット、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁