open‐mask methodの英語

To provide method of setting an offset amount a system of designing the optimum offset amount of the small open mask and the large open mask in each positions of an open mask of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの開口マスクの各部位での小孔開口マスクと大孔開口マスクの最適オフセット量を設定するためのオフセット量の設定方法及び設計システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an overlay vernier can be formed without performing additional drain key open mask and drain key open etch processes by forming a step in a semiconductor substrate when the overlay vernier is formed and forming a hard mask having a stack layer formed thereon so that the shape of the step can be maintained.例文帳に追加

オーバーレイバーニア形成時に半導体基板に段差を形成し、段差の形態が維持され得るように上部に積層膜を形成してハードマスクを形成することで、ドレインキーオープンマスク工程とドレインキーオープンエッチ工程を別途設けるずとも、オーバーレイバーニアの形成が可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁