pattern fabricationとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, DEVICE, ITS FABRICATION METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁

MASK PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION AND FORMING METHOD THEREOF, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING FINE PATTERN例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを持つ半導体素子の製造方法 - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND FABRICATION METHOD OF CIRCUIT PATTERN BODY USING THE METHOD, OR ALIGNER AND CIRCUIT PATTERN BODY FABRICATED BY THE ALIGNER例文帳に追加

露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン体製造方法、または露光装置及びその露光装置により製造された回路パターン体 - 特許庁

To provide a mask pattern for semiconductor device fabrication and a forming method thereof, and a manufacturing method for a semiconductor device with a fine pattern.例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを有する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern for semiconductor device fabrication and a forming method thereof, and a manufacturing method for a semiconductor device having a fine pattern.例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法と、微細パターンを持つ半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

MASK PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION, METHOD OF FORMING SAME, AND METHOD OF FABRICATING FINELY PATTERNED SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の製造用のマスクパターンとその形成方法、及び微細パターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK, DESIGNING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT, PATTERN LITHOGRAPHY METHOD, AND FABRICATION METHOD OF DEVICE例文帳に追加

露光用マスク、露光用マスクの設計方法及び製造方法、露光方法及び装置、パターン形成方法、デバイスの作製方法 - 特許庁

To constitute a logic circuit employing a fine gate fabrication process through a sidewall pattern transfer method.例文帳に追加

サイドウォールパターントランスファー法による微細ゲート形成工程を採用した論理回路を構成することである。 - 特許庁