pattern-containing~の英語

SILICON CONTAINING RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To remove a warpage which occurs in a substrate W including a pattern formation surface having a thin film containing a pattern and a pattern non-formation surface having a thin film not containing the pattern.例文帳に追加

パターンを含む薄膜を有するパターン形成面と、パターンを含まない薄膜を有するパターン非形成面とを有する基板Ｗに生じる反りを除去する。 - 特許庁

The carbon structure production method comprises molding a carbon-containing material into a pattern, covering the obtained pattern with a template, and carbonizing the pattern by firing.例文帳に追加

含炭素材料をパターンに成形した後、得られたパターンを原形型で被覆し、焼成して炭素化させる。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素単量体、含フッ素高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern by which a resist pattern containing a grating pattern and an ordinary pattern can be formed highly accurately.例文帳に追加

この発明ではグレーティングパターンと通常パターンとを含むレジストパターンを精度良く形成することできるパターン形成方法を得る。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ケイ素含有微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁