「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PATTERN FORMING METHOD USING RESIST COMPOSITION CONTAINING SILICON-CONTAINING POLYMER例文帳に追加

ケイ素含有ポリマを含むレジスト組成物を用いるパターン形成方法 - 特許庁

CHITOSAN-CONTAINING WATER-BASED MULTI-COLOR PATTERN COATING COMPOSITION例文帳に追加

キトサン含有水性多彩模様塗料組成物 - 特許庁

SILICON CONTAINING RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To remove a warpage which occurs in a substrate W including a pattern formation surface having a thin film containing a pattern and a pattern non-formation surface having a thin film not containing the pattern.例文帳に追加

パターンを含む薄膜を有するパターン形成面と、パターンを含まない薄膜を有するパターン非形成面とを有する基板Ｗに生じる反りを除去する。 - 特許庁

The carbon structure production method comprises molding a carbon-containing material into a pattern, covering the obtained pattern with a template, and carbonizing the pattern by firing.例文帳に追加

含炭素材料をパターンに成形した後、得られたパターンを原形型で被覆し、焼成して炭素化させる。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素単量体、含フッ素高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern by which a resist pattern containing a grating pattern and an ordinary pattern can be formed highly accurately.例文帳に追加

この発明ではグレーティングパターンと通常パターンとを含むレジストパターンを精度良く形成することできるパターン形成方法を得る。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ケイ素含有微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 - 特許庁

NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含窒素有機化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

Further, a magnetic body-containing layer 6 containing a magnetic body is laminated on the antenna pattern layer 3a, the insulating pattern layer 4a, and the wiring pattern layer 5.例文帳に追加

さらに、それらのアンテナパターン層３ａ、絶縁パターン層４ａ、配線パターン層５の上には、磁性体を含有した磁性体含有層６が積層されている。 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

LOW-REFLECTION TOUCH PANEL WITH SPECIFIC DISPLAY PART CONTAINING METALLIC PATTERN例文帳に追加

メタル調柄を含む特定表示部を有する低反射タッチパネル - 特許庁

PHOTOCATALYST-CONTAINING FILM FOR PATTERN FORMATION AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

パターン形成用の光触媒含有膜およびその製造方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

珪素含有化合物、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING COMPOUND, FLUORINE CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, TOPCOAT COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER, RESISTANT MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR PHOTOCATALYST-CONTAINING LAYER SUBSTRATE AND PATTERN FORMED BODY例文帳に追加

光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL USING THEM, PATTERN FORMATION METHOD, AND PRODUCTION METHOD FOR FLUORINE-CONTAINING COMPOUND例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物、それらを用いたレジスト材料とパターン形成方法、及び含フッ素化合物の製造方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A decorative bulk molding compound containing a decorative pattern material (decorative BMC containing a decorative pattern material) is preferable as the surface material 21.例文帳に追加

表面材２１としては、加飾用柄材を含有する加飾用バルクモールディングコンパウンド（加飾用柄材入りの加飾用ＢＭＣ）が好ましい。 - 特許庁

SILICONE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOE FORMING PATTERN例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The resist pattern containing the resist material is formed on a microelectronic substrate.例文帳に追加

レジスト物質を含むレジストパターンを微細電子基板上に形成する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING HIGH POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

珪素含有高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING CYCLIC COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素環状化合物、含フッ素高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM CONTAINING SILICON FOR MULTILAYER RESIST PROCESSING, FILM CONTAINING SILICON, AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is characterized in that after a resist pattern is formed, a resist pattern thickening material containing a resin, a crosslinking agent and a nitrogen-containing compound is applied so as to cover the surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と、架橋剤と、含窒素化合物とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

The method for drawing the picture pattern comprises the step of generating a coating material having the decorative picture pattern containing a diamond powder of 10 to 15 microns as a main component.例文帳に追加

１０〜１５ミクロンのダイヤモンドパウダーを主成分とする装飾絵模様の塗装材料を生成する。 - 特許庁

The imaging part takes an image containing a pattern formed on the surface of the measuring object by the pattern light.例文帳に追加

撮像部は、パターン光によって測定対象物の表面に形成されるパターンを含む画像を撮像する。 - 特許庁

The virus pattern management device 1 transmits check information containing a virus pattern and a hash value to another terminal 2.例文帳に追加

ウィルスパターン管理装置１は、ウィルスパターンおよびハッシュ値を含む検査情報を他の端末２へ送信する。 - 特許庁

OVERLAY VERNIER MASK PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME, SEMICONDUCTOR ELEMENT CONTAINING OVERLAY VERNIER PATTERN, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

オーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法、並びにオーバーレイバーニアパターンを含む半導体素子とその形成方法 - 特許庁

A pattern projector 14 projects a brightness pattern containing a high brightness part and a low brightness part on the object 12 surface.例文帳に追加

パターン投影器１４は、高輝度部と低輝度部を含む輝度パターンを物体１２の表面に投影する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a highly precise size on a film containing nitrogen.例文帳に追加

窒素を含む膜に寸歩精度の高いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of pattern etching a layer of a silicon-containing dielectric substance.例文帳に追加

シリコン含有誘電物質の層をパターンエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING RESIN例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂 - 特許庁

RESIST MATERIAL CONTAINING NOVEL PHOTOACID GENERATOR AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMING PROCESS例文帳に追加

スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁