「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

To provide a polyimide having a hydroxyamide group, and high transmissivity of h-ray (405 nm) or g-ray (435 nm), a precursor thereof, a positive-type photosensitive resin composition containing a diazonaphthoquinone-based photosensitizer, and a polybenzoxazole-imide obtained through an alkali development, washing and thermal dehydration cyclization reaction steps after pattern exposure thereof, and useful as a protective membrane of a semiconductor element.例文帳に追加

ｈ線（４０５ｎｍ）またはｇ線（４３５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有ポリイミドまたはその前駆体およびジアゾナフトキノン系感光剤を含有して成るポジ型感光性樹脂組成物、およびこれをパターン露光後、アルカリ現像・洗浄・加熱脱水環化反応工程を経て得られる、半導体素子の保護膜として有用なポリベンゾオキサゾールイミドの提供。 - 特許庁

A manufacturing method of an LED package 100 includes the steps of forming a resin molding part 108 for sealing an LED chip 105; and applying a phosphor-containing coating agent to the surface of the resin molding part 108 by a conical and spiral spray pattern, in particular, with a spray coating method, and forming a phosphor thin film 120 on the surface of the resin molding part.例文帳に追加

ＬＥＤパッケージ１００の製造方法は、ＬＥＤチップ１０５を封止する樹脂モールディング部１０８を形成する工程と、スプレーコーティング法で、特に円錐型の渦状のスプレーパターンで上記樹脂モールディング部１０８の表面に蛍光体含有コーティング剤を塗布して上記樹脂モールディング部の表面上に蛍光体薄膜１２０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for the discrimination of strawberry species comprises the amplification of a nucleic acid genome DNA derived from strawberry by using a multiplex PCR method to use a plurality of primer pairs containing a random amplified polymorphic DNA (RAPD) marker specifically found in cultured strawberry species or an amplified fragment length polymorphism (AFLP) marker, and discriminating the species of the strawberry based on the band pattern of the obtained amplification product.例文帳に追加

栽培イチゴ品種に特異的に見い出されるランダム増幅多型ＤＮＡ（ＲＡＰＤ）マーカー或いは増幅断辺長多型（ＡＦＬＰ）マーカーを含む複数のプライマー対を使用するマルチプレックスＰＣＲ法を用いてイチゴ由来のゲノムDNAを核酸増幅し、得られる増幅産物のバンドパターンに基づいてイチゴ品種を識別することを特徴とする、イチゴ品種の識別方法。 - 特許庁

The halftone phase shift mask 100 having a transparent region 23 and a semitransparent region 24 comprising a phase shift pattern 21a is obtained by pattering a halftone phase shift mask blank 10 prepared by forming a semitransparent layer 21 comprising a metal silicide compound thin film containing zirconium, metal except for zirconium, and silicon, on a transparent substrate 11 consisting of a quartz glass substrate or the like.例文帳に追加

石英ガラス基板等からなる透明基板１１上にジルコニウムと、ジルコニウム以外の金属と、シリコンとを含んだ金属シリサイド化合物薄膜からなる半透明膜層２１を形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス１０をパターニング処理して、透明領域２３と位相シフトパターン２１ａとからなる半透明領域２４とを有するハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

This fermentation yeast discrimination method includes amplifying the genome DNA of the fermentation yeast by a PCR method using a primer for amplifying a part or whole of a DNA sequence containing FLO5 gene and YHR213W gene or YAR062W gene, electrophoresing their amplified gene fragments or electrophoresing the amplified gene fragments after a restriction enzyme treatment, and then discriminating the yeast by the difference of the pattern of the electrophoresis.例文帳に追加

醸造用酵母のゲノムＤＮＡをＦＬＯ５遺伝子及びＹＨＲ２１３Ｗ遺伝子又はＹＡＲ０６２Ｗ遺伝子を含むＤＮＡ配列の一部又は全部を増幅させるプライマーを用いて、ＰＣＲ法にて増幅させ、それら増幅させた遺伝子断片を電気泳動し、又は制限酵素処理したのち電気泳動し、その電気泳動のパターンの違いにより酵母を判別する。 - 特許庁

A transparent common electrode 210 is provided on a facing surface of the substrate 200 and a base layer 303, a reflection pattern 312 consisting of silver in the form of simple substance or the silver alloy containing silver and a transparent conductive film 314 laminated thereon and patterned so that its edge part comes in contact with the base film 303 are provided on the facing surface of the substrate 300.例文帳に追加

このうち、基板２００の対向面には、透明なコモン電極２１０が設けられる一方、基板３００の対向面には、下地膜３０３と、銀単体または銀を含む銀合金からなる反射パターン３１２と、これに積層されるとともに、当該エッジ部分が下地膜３０３と接するようにパターニングされた透明導電膜３１４が設けられている。 - 特許庁

This method for manufacturing a metal container 1 printed with a foamable ink comprises the steps to print a release-proof ground ink or a varnish 2 on the surface of the metal container 1, print a pattern with an ink or a varnish 4 containing a foamable microcapsule 3 and print a top coat layer 5 on the in or the varnish 4 to expand the foamable microcapsule 3.例文帳に追加

金属容器１の表面に、剥離防止のための下地インキ又はニス２を印刷し、次に、発泡性マイクロカプセル３を含有するインキ又はニス４で模様を印刷し、次に、このインキ又はニス４の上に、トップコート層５を形成した後、発泡性マイクロカプセル３を発泡させることを特徴とする発泡性インキを印刷した金属容器の製造方法である。 - 特許庁

To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises the steps of: depositing an SiO_2 film 3 on a substrate 1 on which a wiring pattern 2 is formed; applying an SOG film 4 on the SiO_2 film 3; and by a chemical mechanical polishing method, polishing the SOG film 4 by using cerium oxide and slurry containing at least one or more kinds of cationic surfactants.例文帳に追加

配線パターン２が形成された基板１上にＳｉＯ_２膜３を堆積する堆積工程と，ＳｉＯ_２膜３上にＳＯＧ膜４を塗布する塗布工程と，ＳＯＧ膜４を酸化セリウムおよび少なくとも一種類以上のカチオン性界面活性剤を含むスラリーを用いて化学的機械的研磨法により研磨する研磨工程と，を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The hydrogen-producing catalyst for producing hydrogen from carbon monoxide and water in internal-combustion engine exhaust gas contains: an oxide containing a cerium oxide in which the ratio of (111)-face diffraction peak intensity to background intensity in X-ray diffraction pattern is 4.3 or more; a zirconium oxide; and at least one noble metal selected from Pt, Pd and Rh.例文帳に追加

内燃機関排ガス中の一酸化炭素と水から水素を生成する触媒であって、Ｘ線回折パターンにおいて（１１１）面回折ピーク強度とバックグランドの比が４.３ 以上である酸化セリウムを含む酸化物と、ジルコニウム酸化物と、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる貴金属の少なくとも１つとを含むことを特徴とする水素製造触媒を用いる。 - 特許庁

The transfer sheet 1 includes: a base sheet 2 having smoothness; a metal thin film layer 3 formed on the partial or entire base sheet so as to reflect the smoothness of the base sheet; the transparent conductive film layer 4 formed on the metal thin film layer and containing the graphene as the main component; and a routing circuit pattern layer 5 formed on a part of the transparent conductive film layer.例文帳に追加

平滑性を備える基体シート２と、前記基体シートの平滑性を反映するように基体シートの上に部分的又は全面に形成される金属薄膜層３と、前記金属薄膜層の上に形成されグラフェンを主成分とする透明導電膜層４と、前記透明導電膜層の一部上に形成される引き回し回路パターン層５と、を備える転写シート１。 - 特許庁

The production method includes a process of forming a film consisting of any of an oxide of molybdenum silicon, nitride of molybdenum silicon, oxide nitride of molybdenum-silicon, nitride of silicon and oxide nitride of silicon on a quartz substrate, and a process of forming a phase shift mask pattern by reactive ion etching to selectively etch and remove the film by using an etching gas containing gaseous chlorine.例文帳に追加

石英基板上にモリブデン−シリコンの酸化物、モリブデン−シリコンの窒化物、モリブデン−シリコンの酸窒化物、シリコンの窒化物およびシリコンの酸窒化物のいずれかからなる被膜を形成する工程と、前記被膜を塩素ガスを含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより選択的にエッチング除去することにより位相シフトマスクパターンを形成する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The mounting structure 1, is which an electric component and an electrode or a substrate are firmly bonded, is obtained by: coating the solder adhesive containing the silane coupling agent on a pattern printed electrode 3 on the substrate 2; disposing the electric component 4 thereon to be heated; forming a solder layer 5 by the molten solder particles; and forming a resin layer 6 at the periphery thereof by the thermoplastic resin.例文帳に追加

基板２上にパターン印刷した電極３上に、前記シランカップリング剤を含む半田接着剤を塗布しその上に電子部品４を配置して加熱すると、溶融した半田粒子が半田層５を形成し、その周囲に熱硬化性樹脂が樹脂層６を形成して、電子部品と電極あるいは基板が強固に接着した実装構造１が得られた。 - 特許庁

The method for manufacturing the printing plate and the method for removing the laser engraving tails are featured by containing processes of: preparing a sheet like printing original plate by optically building a photosensitive resin composition; preparing the printing plate by irradiating laser beams on the printing original plate to form a purpose pattern; and brushing the surface of the obtained printing plate in a water series developing on a surface of the obtained printing plate.例文帳に追加

感光性樹脂組成物を光架橋させてシート状の印刷原版を作成する工程、前記印刷原版にレーザー光線を照射し目的のパターンを形成し印刷版を作成する工程、得られた印刷版の表面の水系現像液中でのブラッシング工程を含むことを特徴とする印刷版の製造方法およびレーザー彫刻カスの除去方法。 - 特許庁

The method includes: a step of forming a silicon-containing Al alloy film 3 on a silicon substrate 1; a step of providing a resist pattern 4 on the Al alloy film 3; a step of etching the Al alloy film 3 using the resist patter 4 as a mask; a step of washing after etching; and a step of removing a silicon residue 5 using a two-fluid nozzle 6.例文帳に追加

半導体装置の製造方法はシリコン基板１上にシリコンを含有するＡｌ合金膜３を形成する工程と、Ａｌ合金膜３上にレジストパターン４を設ける工程と、レジストパターン４をマスクとしてＡｌ合金膜３をエッチングする工程と、エッチ後洗浄する工程と、２流体ノズル６によってシリコン残渣５を除去する工程とを備える。 - 特許庁

In the resin sealing semiconductor device 1 in a form in the operation, a semiconductor bare chip 6 coated with an epoxy resin 9, and a surface mounting part 8 such as a chip capacitor; a chip resistor or the like are mounted on a specified wiring pattern on a glass epoxy board 10, and the packaging resin 12 for an insulation protection is formed on a lead terminal 13 and the board containing these parts.例文帳に追加

本実施の形態における樹脂封止型半導体装置１は、エポキシ樹脂９で覆われた半導体ベアチップ６、チップコンデンサやチップ抵抗などの表面実装部品８がガラスエポキシ基板１０上の所定の配線パターン上に実装されていて、リード端子１３およびこれらの部品を含む基板上に絶縁保護用の外装樹脂１２が設けられている。 - 特許庁

The color converting filter substrate is equipped with a support substrate, at least one color converting pattern layer containing a fluorescent coloring matter arranged on the support substrate, and a protection layer which is prepared on the support substrate, and prepared so that the whole color converting pattern layer may be covered at least.例文帳に追加

本発明は、支持基板と、該支持基板上に配置された蛍光色素を含有する少なくとも１つの色変換パターン層と、該支持基板上に設けられ、該色変換パターン層全体を覆うように設けられた保護層とを少なくとも備えた色変換フィルタ基板であって、前記保護層が、前記色変換パターン層の厚さ以上の高さの上面と、前記支持基板と角度αを有する側面とを持ち、前記支持基板と該側面との角度αが７０度以下であることを特徴とする色変換フィルタ基板、ならびに該色変換フィルタ基板を用いた色変換方式有機発光素子およびカラーディスプレイを提供する。 - 特許庁

The heat-sensitive lithographic printing plate with the imaging layer containing at least, a thermoplastic resin, a water-soluble polymer compound, a developer and a coupler, formed on a water-resistant support, is heated or irradiated with light to the image pattern.例文帳に追加

耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂、水溶性高分子化合物、顕色剤及び発色剤を含有する画像形成層を有する感熱型平版印刷版を、画像様に加熱または光照射することにより画像部を形成した後、印刷開始前に下記（ｉ）及び（ｉｉ）の化合物を含有する版面処理液を付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。 - 特許庁

In the color filter comprising a color filter substrate having at least a base material and a plurality of colored layers formed like a pattern on the base material and having a liquid-repellent surface and spacer parts formed on the color filter substrate and containing beads and a binder, each spacer part is formed in a forward taper shape.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材、および前記基材上にパターン状に複数形成された着色層を少なくとも有し、かつ表面が撥液化処理されたカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板上に形成され、ビーズおよびバインダを含有するスペーサ部とを有するカラーフィルタであって、 前記スペーサ部は、順テーパー形状とされていることを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

Alternatively, the pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose regular transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥10% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加

もしくは、無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの正規透過率が１０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The power module comprises a circuit board 101 obtained by impregnating a reinforce material with a thermosetting resin, an insulating resin mixture 102 filled in the opening formed at the board 101 and containing an inorganic filler and an insulating resin, a lead frame 103 adapted to a large- current circuit formed of the mixture 102 having high heat sink, and a fine wiring pattern 104 made of a metal foil.例文帳に追加

補強材に熱硬化性樹脂を含浸してなる回路基板１０１と、回路基板１０１に形成した開口部に充填された無機フィラーと絶縁性樹脂とを含む絶縁性樹脂混合物１０２と、放熱性の高い絶縁性樹脂混合物１０２に形成された大電流回路に適したリードフレーム１０３と、金属箔からなる微細配線パターン１０４とによりパワーモジュールを構成する。 - 特許庁

In the surface treated substrate having a waterdrop slipping and falling surface having a hydrophilic site 2 and a hydrophobic site 1 on the substrate, the surface treated substrate wherein at least hydrophilic site 2 is connected to the substrate and the hydrophobic site 1 is formed in a pattern on the substrate, then the hydrophilic site 2 is formed by applying or hitting a solvent containing a metal alkoxide.例文帳に追加

基材上に親水性部位２と疎水性部位１を有する水滑落性表面を有する表面処理基材であって、少なくとも親水性部位２が基材と結合している表面処理基材及び基材上にパターン状に疎水性部位１を形成したのち、金属アルコキシドを含有する溶剤を塗布、又は打滴して親水性部位２を形成する表面処理材の製造方法。 - 特許庁

This photosensitive ceramic sheet processing method comprises the patterning process in which a pattern is formed on a support-provided sheet laminating a photosensitive ceramic sheet containing at least a support, a photosensitive organic component and an inorganic powder, and the peeling process in which the photosensitive ceramic sheet is peeled off from the support, and the peeling process comprises active ray irradiation or heat treatment.例文帳に追加

少なくとも支持体と、感光性有機成分と無機粉末とを含有する感光性セラミックスシートを積層した支持体付シートに、パターンを形成するパターン加工工程と、該支持体から該感光性セラミックスシートを剥離する剥離工程とを有する感光性セラミックスシートの加工方法であって、該剥離工程で、活性光線照射もしくは加熱処理することを特徴とする感光性セラミックスシートの加工方法。 - 特許庁

In the luminance-uniformizing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing an inorganic oxide particle having 2.8-3.4 eV hand gap energy and 1-50 nm average particle diameter and an acyl phosphine oxide based photopolymerization initiator is formed in a pattern, adjusted so as to equalize and emit the incident light having nonuniformized luminance distribution, at least on one surface of a translucent substrate 11.例文帳に追加

透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、バンドギャップエネルギーが２．８〜３．４ｅＶで平均粒子径１〜５０ｎｍの無機酸化物微粒子と、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁

The pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose total light transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥50% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加

無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの全光線透過率が５０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁

In a wiring pattern forming method where an underlying layer is formed on a base by a liquid containing a cationic compound and conductive ink having a zeta potential of -100 to 0 mV is injected onto the underlying layer by an inkjet recorder, the cationic compound contains a cationic surfactant or at least one of cationic polymers having a molecular weight of 100 to 100,000.例文帳に追加

基材にカチオン性化合物を含む液体により下引き層を形成し、その上にゼータ電位が−１００ｍＶ以上、０ｍＶ以下である導電性インクをインクジェット記録装置で射出する配線パターン形成方法において、カチオン性化合物としてカチオン性界面活性剤または分子量が１００以上１０００００以下のカチオン性ポリマーの少なくとも一つを含むことを特徴とする配線パターン形成方法。 - 特許庁

The method for forming laminating patterns comprises a first step of printing a part except a predetermined pattern with an ink composition containing an aqueous solvent type resin on a base, a second step of laminating two or more layers of a coating agent composition permeable in an aqueous solvent with a component different from the ink composition, and a third step of removing the composition with the solvent.例文帳に追加

基材上に、水性溶剤可溶型樹脂を含有するインキ組成物で所定パターン以外の部分を印刷する第一の工程、該印刷面上に、該インキ組成物と異なる成分で水性溶剤が浸透可能なコーティング剤組成物を２層以上積層する第二の工程、水性溶剤でインキ組成物を除去する第三の工程をこの順に有することを特徴とする積層パターン形成方法。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition containing a low toxicity compound having an ethylenically unsaturated group, having superior photosensitive characteristics such as high sensitivity and high resolution and capable of good development with an aqueous alkali solution, to produce a pattern having superior heat and chemical resistances and to obtain electronic parts having enhanced reliability.例文帳に追加

本発明は、従来のものに比べ毒性の低いエチレン性不飽和基を有する化合物を含み、高感度、高解像度などの優れた感光特性を有する感光性ポリイミド前駆体組成物、及び該組成物はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造方法並びに前記のパターンを有することにより信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

In an ink acceptable base material for forming a conductive pattern using a conductive ink, the ink acceptable base material has at least one base layer of (A) a base layer containing a compound having at least one kind of groups chosen from mercapto group, carboxyl group, carboxylic acid ester group, amino group, and epoxy group, and (B) a base layer consisting of a silane coupling agent.例文帳に追加

導電性インクを用いて導電性パターンを形成するためのインク受容基材において、該インク受容基材が、（Ａ）メルカプト基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミノ基及びエポキシ基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物を含む下地層、（Ｂ）及びシランカップリング剤から成る下地層の少なくともいずれかの下地層を有することを特徴としたインク受容基材及び導電性パターン形成方法。 - 特許庁

The method includes steps of: forming an organic antireflection film containing a photoacid generating agent on a film to be etched; heat treating the organic antireflection film at a predetermined temperature; forming a chemically amplified photoresist layer on the organic antireflection film; transferring a pattern on a mask by using a light source at a single wavelength onto the chemically amplified photoresist layer; and developing the chemically amplified photoresist layer.例文帳に追加

被エッチング膜上に、光酸発生剤を含む有機反射防止膜を形成する工程と、有機反射防止膜を所定温度で熱処理する工程と、有機反射防止膜上に化学増幅型フォトレジスト層を形成する工程と、化学増幅型フォトレジスト層に単一波長の光源を用いてマスク上のパターンを転写する工程と、化学増幅型フォトレジスト層を現像する工程とを有する。 - 特許庁

The metal pattern forming apparatus has a discharging device 200 which discharges a discharged body containing metal particulates to a substrate 700, a drying and burning device 300 which dries and burns the discharged body discharged to the substrate, and a metal plating processing device 500 which performs metal plating processing for the substrate having the discharged body formed in the dried and burnt state.例文帳に追加

基板７００に対して金属微粒子を含有する吐出物を吐出する吐出装置２００と、基板に吐出された吐出物を乾燥及び焼成するための乾燥・焼成装置３００と、乾燥及び焼成した状態で形成されている吐出物を有する基板に対して金属メッキ処理を行う金属メッキ処理装置５００と、を有することで金属パターン形成装置を構成する。 - 特許庁

A monolayer is formed on a substrate by bonding a silane compound having a hydrolyzable group and a carbon-containing group with liquid-repellent ends to the substrate, the top of the substrate is patternwise coated with an alkaline liquid by an ink jet process and the monolayer in the coated areas is removed by the hydrolytic action of the alkaline liquid to form a liquid-repellent monolayer pattern and a patterned lyophilic substrate surface.例文帳に追加

基板上に、加水分解性基と、撥液性末端を有する炭素含有基とを有するシラン化合物がこの基板に結合した単分子層を形成し、アルカリ性の液体をインクジェット法で基板上にパターン塗布し、この塗布した部分において前記単分子層を上記アルカリ性液体の加水分解作用により除去し、撥液性の単分子層と、パターン化された親液性の基板表面を形成する。 - 特許庁

In the pattern forming method, a coating film comprising a radiation-sensitive resin composition comprising an acid-dissociable group- containing polysiloxane which is made alkali-soluble when the acid-dissociable group is dissociated is formed on an underlayer film comprising a polymer having ≥80 wt.% carbon content and a weight average molecular weight (expressed in terms of polystyrene) of 500-100,000 and irradiation with radiation is carried out.例文帳に追加

パターン形成方法は、炭素含量が８０重量％以上でポリスチレン換算重量平均分子量が５００〜１００，０００の重合体を含有する下層膜上に、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる酸解離性基含有ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成して、放射線を照射する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

In a method for forming a positive oxide thin film pattern in which the top of a substrate is coated with a composition containing a metal alkoxide and a chelate stabilizer, the resulting coating film is irradiated with light, a chemical reaction of the unirradiated part in the coating film is allowed to proceed and the irradiated part is dissolved and removed by etching with an etching solution, an aqueous alkali solution is used as the etching solution.例文帳に追加

金属アルコキシド及びキレート安定化剤を含む組成物を基板上に塗布し、塗布膜に光照射すると共に、この塗布膜における非照射部の化学反応を進行させた後、エッチング溶液にてエッチングして照射部を溶解、除去するポジ型酸化物薄膜パターンの形成方法において、前記エッチング溶液としてアルカリ水溶液を用いることを特徴とするものである。 - 特許庁

The transparent conductive support which has a first conductive layer composed of a metal thin wire, which is formed in a pattern shape, and a second conductive layer, which is formed covering the first conductive layer and contains an electrically conductive polymer and a hydroxyl-containing nonconductive polymer, formed on a substrate is characterized in having an undercoat layer formed by coating a substrate surface with a silane coupling agent.例文帳に追加

基板上に、パターン状に形成された金属細線からなる第一導電層と、該第一導電層を被覆してなり、かつ導電性ポリマーと水酸基含有非導電性ポリマーを含有する第二導電層とを設けた透明導電性支持体において、該基板表面にシランカップリング剤を塗布することにより形成された下引き層を有していることを特徴とする透明導電性支持体。 - 特許庁

This optical head device 11 includes a diffraction element (HOE) 24 furnished with a diffractive pattern capable of providing such a light spot that the fluctuation of focus error mainly containing a component in the radial direction among reflection laser beams reflected by the optical disk is hardly to occur, on a light receiving face of a photodetector 28 for receiving the reflection laser beams reflected by a recording layer of the optical disk to output a corresponding signal.例文帳に追加

この発明の光ヘッド装置１１は、光ディスクの記録層で反射された反射レーザ光を受光して対応する信号を出力する光検出器２８の受光面に、光ディスクで反射された反射レーザ光のうちのラジアル方向の成分を主として含むフォーカスエラーの変動が生じにくい光スポットを提供可能な回折パターンが与えられた回折素子（ＨＯＥ）２４を含む。 - 特許庁

When a semiconductor device provided with at least an organic material film on a semiconductor substrate is etched to form a gate electrode, or the organic material film is etched, or when the dimension of a resist mask pattern is adjusted, a process wherein the organic material film is etched by using an etching gas atmosphere containing oxygen-contained gas, chlorine- contained gas and bromine-contained gas, is contained, thereby solving the problem.例文帳に追加

半導体基板上に少なくとも有機材料膜を有する半導体装置をエッチングしてゲート電極を形成し、又は有機材料膜をエッチングするにあたり、若しくはレジストマスクパターンの寸法を調整するにあたり、酸素含有ガスと塩素含有ガスと臭素含有ガスとを含むエッチングガス雰囲気を用いて、この有機材料膜をエッチングする工程を含むことにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

This filter for the organic EL element has the transparent substrate 2, the light shielding part 3 formed in a pattern shape on the transparent substrate 2 while containing a resin and a coloring agent and having insulation, a coloring layer 5 formed in the opening part of the light shielding part 3 on the transparent substrate 2, and an overcoat layer formed on the light shielding part 3 and the coloring layer 5.例文帳に追加

透明基板２と、上記透明基板２上にパターン状に形成され、樹脂および黒色着色剤を含有し、絶縁性を有する遮光部３と、上記透明基板２上の上記遮光部３の開口部に形成された着色層５と、上記遮光部３および上記着色層５の上に形成されたオーバーコート層６とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用カラーフィルタ。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A long pattern alignment film includes a long alignment layer containing an optical alignment material, and the alignment layer includes a first alignment region for aligning a rod-shaped compound having refractive index anisotropy in a given direction and a second alignment region for aligning the rod-shaped compound in a direction different from that of the first alignment region.例文帳に追加

本発明は、長尺状であり、かつ光配向材料を含む配向層を有し、上記配向層が、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含むことを特徴とする長尺パターン配向膜を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The circuit substrate includes a wiring pattern 11, an electrical insulating layer 12 comprising a hat-conductive mixture containing inorganic filler of 70 to 95 wt.% and a thermosetting resin of 5 to 30 wt.%, and a heat sink 13, and is fixed to an external heat dissipation member.例文帳に追加

配線パターン11、無機質フィラー70-95重量％と熱硬化性樹脂を5-30重量％含む熱伝導混合物からなる電気絶縁層12、および放熱板13を含み、外部放熱部材に固定されて使用される回路基板であって、前記外部放熱部材に対する前記回路基板のそりが基板長さに対して1/500以下であり、温度が上昇するに従って前記回路基板のそりが前記放熱板側に凸になる方向に変化する。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for exposing a desired pattern on a sample mounted on a wafer stage 124 with an electron beam generated from an electron gun 101 comprises a means 129 for injecting reducing gas into a column 100 containing the electron gun 101 and the wafer stage 124, and a control means 209 for sustaining injection of reducing gas into the column 100 for a predetermined time.例文帳に追加

電子銃１０１から発生させた電子ビームでウエハステージ１２４に載置した試料上に所望のパターンを露光する電子ビーム露光装置において、前記電子銃１０１及びウエハステージ１２４が収納されているコラム１００内に還元性ガスを注入する手段１２９と、前記コラム１００内に前記還元性ガスの注入を所定の時間継続して行わせる制御手段２０９とを有する。 - 特許庁