「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern forming method forms a pattern 80 by placing a liquid material containing a pattern forming material between partition walls B1 on a substrate P using an alignment mark AM.例文帳に追加

アライメントマークＡＭを用いて基板Ｐ上の隔壁Ｂ１間にパターン形成材料を含む液体材料を配置してパターン８０を形成する。 - 特許庁

Accordingly, an pencil board containing ruled lines of a grid pattern shape is provided for a plane notebook.例文帳に追加

無地のノートに対しては碁盤目状の罫線入り下敷を提供する。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物、液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物と、フォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

Next, the wiring pattern is exposed to gas plasmas containing hydrogen atoms (treatment S6).例文帳に追加

次に、上記配線パターンを水素原子の含まれるガスプラズマに晒す（処理Ｓ６）。 - 特許庁

NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含窒素有機化合物、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

LACTONE-CONTAINING COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A resin compound having a color different from that of the pattern forming gel coat is laminated on the region containing this pattern and cured.例文帳に追加

そして、この模様を含む領域に、模様形成用のゲルコートと異なる色の樹脂コンパウンドを積層して硬化させる。 - 特許庁

The pattern board is so arranged as to express a picture pattern totally organized and containing the matching board pieces placed thereinto.例文帳に追加

模様板にはその模様板に嵌合される嵌合板片を含めて全体として統一された絵模様を表現する。 - 特許庁

The imaging section 7 images the edge portion, which has the code pattern of the card bundle and generates a picture containing the code pattern.例文帳に追加

撮像部７は、カード束のコードパターンが形成された縁部を撮像し、そのコードパターンを含む画像を生成する。 - 特許庁

The pattern forming method is carried out by applying a pattern forming material containing fullerenes having a phenolic hydroxyl group or a carboxyl group on a photoresist pattern after development so as to deposit a fullerene-containing film on the resist pattern surface, and removing the pattern forming material on a part except the photoresist pattern so as to protect only the photoresist pattern surface with the fullerenes.例文帳に追加

現像後のフォトレジストパターン上にフェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するフラーレン類を含有するパターン形成材料を塗布して、上記フラーレン類含有膜をフォトレジストパターン表面に付着させ、フォトレジストパターン以外の部分の上記パターン形成材料を除いてフォトレジストパターン表面だけを上記フラーレン類で保護するパターン形成方法。 - 特許庁

The antenna sheet has an antenna pattern containing a loop coil pattern composed of a conductive thin film on a base material sheet, wherein the loop coil pattern has the outermost periphery coil pattern, the innermost periphery coil pattern, and a middle coil pattern and a part or all of the outermost periphery coil pattern and the innermost periphery coil pattern are wider than a line width of the middle coil pattern.例文帳に追加

基材シート上に導電性薄膜からなるループ状コイルパターンを含むアンテナパターンを有するアンテナシートにおいて、ループ状コイルパターンが最外周コイルパターン、最内周コイルパターン及び中間コイルパターンを有し、最外周コイルパターン及び最内周コイルパターンの一部又は全部が中間コイルパターンの線幅より広いことを特徴とするアンテナシートとする。 - 特許庁

DIAMINE CONTAINING IMIDO GROUP, POLYIMIDE PRECURSOR CONTAINING THE IMIDE GROUP, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN CONTAINING THE PRECURSOR, MANUFACTURING METHOD OF POSITIVE TYPE PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

イミド基含有ジアミン、該イミド基含有ポリイミド前駆体、該前駆体を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING METAL OXIDE-CONTAINING FILM, METAL OXIDE-CONTAINING FILM, SUBSTRATE HAVING METAL OXIDE-CONTAINING FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES, AND LINE PATTERN MANUFACTURED BY DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES例文帳に追加

金属微粒子含有液噴射装置、及び、金属微粒子含有液噴射装置によって製作されるラインパターン - 特許庁

This invention provides a rinse liquid for lithography containing water and specific nitrogen-containing compounds such as alkylamine, and provides a pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

アルキルアミンなどの特定の含窒素化合物と水とを含むリソグラフィー用リンス液と、それを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

A resin pattern, which is capable of absorbing a solution containing a metal component, is formed on a base, the resin pattern is dipped into a solution containing the metal component so as to absorb the solution, and the resin pattern is turned into a metal or metal compound pattern through a baking process.例文帳に追加

金属成分を含む溶液を吸収可能な樹脂パターンを基体上に形成し、該樹脂パターンを前記金属成分を含む溶液に浸漬して該溶液を吸収させ、焼成工程を経て金属または金属化合物パターンとする。 - 特許庁

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE NEGATIVE RESIST CONTAINING THE SAME AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素重合体の製造方法およびそれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

FULLERENE-CONTAINING SENSITIVE MATERIAL, RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

フラーレン含有感光材料およびレジスト並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The pattern 14a of the upper-layer light shield film is made of titanium or metal containing titanium, and the pattern 13a of the lower-layer light shield film is made of iron or metal containing iron.例文帳に追加

上層遮光膜のパターン１４ａは、チタン又はチタンを含む金属で構成され、下層遮光膜のパターン１３ａは、鉄又は鉄を含む金属で構成される。 - 特許庁

In use, the pattern is illuminated in illumination mode containing off-axis radiation beam.例文帳に追加

使用するとき、パターンは、オフアクシス放射ビームを含む照明モードで照明される。 - 特許庁

A surface layer conducting pattern 33 containing electrodes 28 is formed by using a tenting method.例文帳に追加

テンティング法により、電極２８を含む表層導体パターン３３を形成する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is characterized in that after a resist pattern is formed, a resist pattern thickening material containing a resin and a surfactant is applied so as to cover the surface of the resist pattern to form a thickened resist pattern by thickening the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と界面活性剤とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布し、該レジストパターンを厚肉化した厚肉化レジストパターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

One embodiment of the invention includes receiving a first layout pattern containing a new layout of an integrated circuit pattern, a pattern matcher 110 processes the layout pattern and designates certain patterns of the integrated circuit pattern that meet design waiver information.例文帳に追加

集積回路パターンの新規のレイアウトを含む最初のレイアウトパターンを受け取り、パターン適合手段110は、レイアウトパターンを処理し、そして、デザイン適用除外情報に適合する集積回路パターンの特定のパターンを指定する。 - 特許庁

The method of etching a carbon-containing film includes a step of forming a mask pattern on a carbon-containing film to partially expose the top surface of the carbon-containing film, and anisotropically etching the carbon-containing film with a plasma of a mixture gas composed of O_2- and Si-containing gases using the mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

炭素含有膜上に炭素含有膜の上面を一部露出させるマスクパターンを形成し、マスクパターンをエッチングマスクとして利用して、Ｏ_２、及びＳｉ含有ガスからなる混合ガスのプラズマによって炭素含有膜を異方性エッチングする炭素含有膜エッチング方法である。 - 特許庁

DOUBLE-COLOR AMORPHOUS COLORED PARTICLE, MULTICOLORED PATTERN COATING MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND MULTICOLORED PATTERN COATING FILM FORMED THEREBY例文帳に追加

複色不定形着色粒子、これを含有する多彩模様塗料組成物とそれより形成される多彩模様塗膜 - 特許庁

DISPENSER, FORMATION METHOD OF INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PASTE PATTERN, PHOSPHOR PATTERN FORMATION METHOD OF DISPLAY, AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY例文帳に追加

ディスペンサー、無機粒子含有ペーストパターンの形成方法、ディスプレイの蛍光体パターン形成方法およびディスプレイの製造方法 - 特許庁

On another face, a circuit pattern 14 containing an electronic circuit 15 is formed at the outside of a circumference edge of the coil pattern.例文帳に追加

他方の面には、電子回路１５を含む回路パターン１４が、コイルパターンに対し、その外周縁より外側位置に形成される。 - 特許庁

The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The pattern sheet is manufactured by printing a pattern on a transfer paper in a sublimable ink containing the sublimable dye and thermally transferring the pattern of the transfer paper to one surface of the resin sheet.例文帳に追加

柄シートは、インクジェットプリンターを用いて、昇華性染料を含んだ昇華インクで転写紙に柄をプリントし、この転写紙の柄を樹脂シートの片面に熱転写して造る。 - 特許庁

SOLUTION JET TYPE MANUFACTURING APPARATUS, FINE PARTICLE-CONTAINING SOLUTION, PATTERN WIRING BOARD AND DEVICE SUBSTRATE例文帳に追加

溶液噴射型製造装置、微粒子含有溶液、パターン配線基板及びデバイス基板 - 特許庁

To form metal-containing patterns free of pattern defects, such as loss of shoulders and remaining without being etched.例文帳に追加

肩落ちやエッチング残り等のパターン欠陥のない金属含有パターンを形成する。 - 特許庁

As a result, one identification pattern containing a plurality of kinds of identification information is displayed.例文帳に追加

その結果、複数種類の識別情報を含んだ１つの識別図柄が表示される。 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND INORGANIC PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION CONTAINING HEAT RESISTANT RESIN PRECURSOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

耐熱性樹脂前駆体を含む組成物とその組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

The original reading part 5 obtains image data, containing transmission destination information and pattern information.例文帳に追加

原稿読み取り部５は、送信先情報と図柄情報とを含む画像データを取得する。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, IMMERSION EXPOSURE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合体、およびそれを含むレジスト材料、ならびにそれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

The surface of an insulating film formed of silicon-containing insulating material is covered with a mask pattern.例文帳に追加

シリコンを含有する絶縁材料からなる絶縁膜の表面を、マスクパターンで覆う。 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING SILICONE COMPOUND, SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

The photoresist film 3 is formed by patterning into a first mask pattern containing a thin film part 3a.例文帳に追加

該フォトレジスト膜３をパターニングして薄膜部３ａを含む第１マスクパターンを形成する。 - 特許庁

POLYMERIZABLE FLUORINE MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

重合性含フッ素単量体および含フッ素重合体ならびにレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING FLUORINE-CONTAINING COMPOUND LAYER LAMINATED FILM AND SUBSTRATE WITH SURFACE LIQUID REPELLING PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物層積層フィルム及び表面撥液性パターン付き基板の製造方法 - 特許庁