「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

And the manufacturing method of the conductive pattern includes pattern making by applying and drying the composition containing silver ultrafine particles on surfaces of base materials and by ultraviolet ray irradiation and/or re-feeding of moisture to the pattern.例文帳に追加

およびこの銀超微粒子含有組成物を基材表面に塗布・乾燥させることによりパターンを作製し、該パターンに紫外線の照射および／または水分の再付与を行う導電性パターン作製方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which is excellent in sensitivity, capability of reducing development defects, and pattern shape in negative pattern formation with a developer containing an organic solvent, and to provide a chemical amplification type resist composition and resist film.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

In addition, in a varying pattern-type determination table for loss, a common criterion value (230-251) is allotted to a varying pattern type containing a varying pattern accompanied by a super ready-for-win state regardless of the total of reservation memory counts.例文帳に追加

また、はずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチを伴う変動パターンを含む変動パターン種別に対しては、合算保留記憶数にかかわらず、共通の判定値（２３０〜２５１）が割り当てられている。 - 特許庁

The resist pattern slimming treatment method includes slimming treatment steps S16 to S18 of carrying out slimming treatment on the resist pattern by coating a substrate where the resist pattern is formed with a solution containing acid, and carrying out heat treatment and then developing treatment.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板上に酸を含む溶液を塗布し、次に熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程Ｓ１６〜Ｓ１８を含む。 - 特許庁

PHOSPHOR-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOSPHOR PATTERN, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USED IN SAME, PHOSPHOR PATTERN AND BACKBOARD FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

蛍光体を含有する感光性樹脂組成物、蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - 特許庁

In this invisible bar code having a data part and a ground pattern part on a base material, the ground pattern part is formed of a film containing a fluorescent material and a binder resin.例文帳に追加

第一に、基材上に、データ部と地模様部を有する不可視バーコードであって、地模様部が蛍光物質及び結着樹脂を含有する皮膜で形成された不可視バーコード。 - 特許庁

Then, nanocarbon is deposited on the surface of the first resist pattern 102a, and a second resist film 105 is formed on the substrate 101 containing the first resist pattern 102a.例文帳に追加

続いて、第１のレジストパターン１０２ａの表面にナノカーボンを付着し、その後、第１のレジストパターン１０２ａを含む基板１０１の上に第２のレジスト膜１０５を形成する。 - 特許庁

An Ni master 12 having a fine uneven pattern on a surface includes a release layer 14 containing a fluorine compound on the surface along the uneven pattern.例文帳に追加

微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing the diffuse reflection plate, firstly a photosensitive resin film 20 containing a photocrosslinkable monomer is subjected to pattern exposure (a pattern exposure process(b)).例文帳に追加

本実施形態に係る拡散反射板の製造方法では、まず、光架橋性モノマーを含有する感光性樹脂膜２０にパターン露光を施す（パターン露光工程(ｂ)）。 - 特許庁

In the pattern coating method, a paint containing a brilliant material is applied to a base material and a part of the base material is heated by a heating plate 2 having a pattern shape to provide temperature irregularity.例文帳に追加

本発明の模様塗装方法は、基材１に光輝材を含む塗料を付与し、基材の一部を模様形状の加熱板２によって加熱し温度むらを設ける。 - 特許庁

To provide a photosensitive compound capable of forming a resist pattern with a low line edge roughness (LER), to provide a photosensitive composition containing the photosensitive compound, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Using a compound liquid containing acetic acid, inorganic acid, a fluorine compound, and deionized water, the metal film pattern is cleaned to remove etching by-product layers around the metal film pattern.例文帳に追加

酢酸、無機酸、フッ素化合物及び純水を含む混合液を使用して金属膜パターンを洗浄して、金属膜パターン周囲のエッチング副産物層を除去する。 - 特許庁

The translucent electromagnetic wave shielding film includes a printing pattern containing silver as a main component on a transparent substrate, wherein the printing pattern is processed with calender rolls.例文帳に追加

透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンを備えてなり、かつ、該印刷パターンが、カレンダーロールで処理されていることを特徴とする透光性電磁波シールド膜。 - 特許庁

To shorten a process and to uniform a provided pattern, in a method for manufacturing a conductive member pattern by making a solution containing a metal compound absorbed in a resin film.例文帳に追加

樹脂膜に金属化合物を含む溶液を吸収させて導電性部材パターンを製造する方法において、工程の短縮化及び得られるパターンの均一化を図る。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with a growth action force of film boiling bubbles produced instantaneously to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns such that the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加

基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁

The resin duplication plate comprises a rugged pattern layer made of a resin and having a rugged pattern as a master for duplication on a base material, and a silica thin film and a fluorine-containing thin film layered in this order on the rugged pattern face of the pattern layer.例文帳に追加

基材上に樹脂製で且つ複製の親となる凹凸パターンが形成された表面を有する凹凸パターン層の凹凸パターン面に、シリカ薄膜及び含フッ素薄膜がこの順序で積層されていることを特徴とする樹脂製複製版である。 - 特許庁

The pattern forming material is obtained by bringing a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with the top of a hydrophobic polymer-containing layer and a hydrophilic pattern is formed by imagewise imparting energy to the pattern forming material and directly chemically bonding the hydrophilic polymer having a polymerizable group to the top of the hydrophobic polymer-containing layer.例文帳に追加

疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてなるパターン形成材料であって、該パターン形成材料に画像様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合させて親水性パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン１３ｘにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン６０を基板２０ｘ上に形成した後、成膜工程において、基板２０ｘ上にタンタル膜１３を成膜する。 - 特許庁

The coloring layers 2 and 3 are composed of a covering part C for covering the surface of the base 1 by containing the rainbow hologram pattern HG, and exposed parts W1 and W2 for exposing the surface of the base 1 by containing the rainbow hologram pattern HG.例文帳に追加

着色層２，３を、レインボーホログラム模様ＨＧを含んで基材１の表面を覆う被覆部Ｃとレインボーホログラム模様ＨＧを含んで基材１の表面を露出する露出部Ｗ１，Ｗ２とから構成する。 - 特許庁

A coating layer containing the water-soluble resin capable of mutually mixing with the resist material is formed on the resist pattern to provide the mixed layer containing the resist material and the water-soluble resin between the resist pattern and a non-mixed coating layer.例文帳に追加

レジスト物質と相互混合できる水溶性樹脂とを含むコーティング層をレジストパターン上に形成してレジストパターンと非混合のコーティング層との間にレジスト物質と水溶性樹脂とを含む混合層を提供する。 - 特許庁

A pattern registering function is also provided for sampling unregistered natural language patterns, including natural language patterns containing registered grammatical attributes and natural language patterns containing regulations about the registered origins, to newly register the patterns into the pattern dictionary.例文帳に追加

登録された文法属性を含む自然言語パターンや、登録された素性に関する規定を含む自然言語パターンを含め、未登録の自然言語パターンを取り込んでパターン辞書に新規登録するパターン登録機能も有する。 - 特許庁

The member with a protective film for forming a resist pattern comprises: a member for forming a resist pattern having a surface containing an oxide and used by adhering to a resist film 2 for forming a resist pattern; and a protective film 4 formed on the member for forming the resist pattern which contains a straight-chain amphiphilic molecule containing a perfluoro polyether in a main chain and a hydroxyl group in a terminal group.例文帳に追加

保護膜付きレジストパターン形成用部材は、酸化物を含む表面を有し、レジストパターン形成のためレジスト膜に密着して用いられるレジストパターン形成用部材と、レジストパターン形成用部材上に形成され、直鎖状で主鎖がパーフルオロポリエーテルを含み末端基に水酸基を含む両親媒性分子を含む保護膜とを有する - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which has favorable sensitivity and with which a colored pixel pattern with a good profile can be formed and to provide a method for forming a colored pixel pattern with a good profile, a color filter containing a colored pixel pattern with a good profile, and a liquid crystal display having a color filter containing a colored pixel pattern with a good profile.例文帳に追加

形状良好な着色画素パターンを作成でき感度が良好な着色感光性樹脂組成物、形状良好な着色画素パターンの形成方法、形状良好な着色画素パターンを含むカラーフィルタ、および形状良好な着色画素パターンを含むカラーフィルタを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A conductive material precursor having at least a silver halide emulsion layer on an insulating substrate is subjected to exposure and development so that a silver pattern part containing a resin component and/or a non-silver pattern part containing a resin component are prepared, and then, a crosslinking agent for crosslinking the resin component is made to act on the silver pattern part and/or the non-silver pattern part.例文帳に追加

絶縁性基板上に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する導電性材料前駆体を露光、現像処理することで、樹脂成分を含有する銀パターンおよび／または樹脂成分を含有する非銀パターン部を設け、その後、該銀パターンおよび／または非銀パターン部に、該樹脂成分を架橋する架橋剤を作用させる。 - 特許庁

To provide a novel fluorine-containing compound that suppresses occurrence of defects in resist pattern formation, and a polymer compound comprising the fluorine-containing compound as a monomer unit thereof.例文帳に追加

レジストパターン形成におけるディフェクトの発生を抑制できる、新規な含フッ素化合物、および該含フッ素化合物をモノマー単位とする高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To make a thin film of a solid compound containing a Si-O-Si bond and to form a fine pattern in a thin film of the solid compound containing the Si-O-Si bond.例文帳に追加

Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物の薄膜化を図り、並びに薄膜化したＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物の微細パターン形成を行う。 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUND, RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, PHOTOSENSITIVE FILM BY USING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body or the like using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a compound capable of producing a resist pattern having an excellent resolution, and a resist composition containing the compound.例文帳に追加

優れた解像度のレジストパターンを製造することができる化合物および該化合物を含むレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.例文帳に追加

形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER, ITS PRODUCTION, AND RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE USING THAT POLYMER例文帳に追加

ケイ素含有ポリマ、その製造方法、それを用いたレジスト組成物、パターン形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide a method for forming an SOI layer with a pattern wherein no transition region containing many defects is formed.例文帳に追加

非常に欠陥の多い遷移領域が形成されないパターン付きＳＯＩ層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 - 特許庁

Therefore, preferably, the reflection prevention film pattern 125 is formed of an organic substance containing a hydrocarbon-based compound.例文帳に追加

このために、反射防止膜パターン１２５はハイドロカーボン系化合物を含む有機物質で形成することが望ましい。 - 特許庁

A third reflective surface 13 forms a focusing light distribution pattern SP containing the high luminous light distribution patter HP.例文帳に追加

第３反射面１３は、高光度用配光パターンＨＰを包含する集光用配光パターンＳＰを形成する。 - 特許庁

To obtain a printing method, by which a pattern can be formed by solid-printing a gravure with a pearl pigment-containing ink, and a printed matter.例文帳に追加

パール顔料を含むインキによるグラビアのベタ印刷でパターンを形成できる印刷方法および印刷物を得る。 - 特許庁

To obtain a wood flour-containing thermoplastic rod-like body, which develops no surface wrinkles even under bent state and has a beautiful wood grain pattern.例文帳に追加

折り曲げても表面にしわもなく、美しい木目模様を有する木粉入り熱可塑性棒状体を得ること。 - 特許庁

NEW SULFONIUM COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE COMPOUND AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

新規なスルホニウム化合物、該化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

Wiring (45a and 45b) are formed by etching the conductive film using a gas containing halogen, with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとして、ハロゲンを含むガスを用いて導電膜をエッチングすることにより、配線(45a,45b)を形成する。 - 特許庁

The first alignment mark 1 includes a line pattern 1L containing lines 1L_1, 1L_2, ..., 1L_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第１アライメントマーク１は、幅が一方向に増大する線１Ｌ_１，１Ｌ_２，…，１Ｌ_９を含むラインパターン１Ｌを有している。 - 特許庁

The second alignment mark 2 includes a space pattern 2S containing gaps 2S_1, 2S_2, ..., 2S_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第２アライメントマーク２は、幅が一方向に増大する間隙２Ｓ_１，２Ｓ_２，…，２Ｓ_９を含むスペースパターン２Ｓを有している。 - 特許庁

SILICON COMPOUND HAVING CYCLIC STRUCTURE CONTAINING FLUORINE AND SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

The photo-resist pattern is then removed by the photoresist remover containing, as main components, monoethanolamine and dimethylacetamide.例文帳に追加

次に、フォトレジストパターンをモノエタノールアミン及びジメチルアセトアミドを主成分に含有するフォトレジスト除去液により除去する。 - 特許庁