「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of forming a fine pattern using a fluorine-containing polymer which has a high transparency to exposure light having a short wavelength such as F_2 laser.例文帳に追加

Ｆ_2レーザー光のような短波長の露光光に対して透明性の高い含フッ素重合体を用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a polyimide pattern containing no photosensitive agent by using a negative resist without using a nonaqueous soluble organic solvent.例文帳に追加

ネガ型レジストを用いながら、非水溶性の有機溶媒を用いることなく、感光剤を含まないポリイミドのパターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

The luminous tape or sheet 1 is obtained by printing a pattern on one side of a synthetic resin-made tape or sheet 3 by using ink containing a luminous pigment.例文帳に追加

蓄光顔料を含有するインキを合成樹脂製テープ又はシート３の一面にパターン印刷することによって蓄光性テープ及びシート１を構成する。 - 特許庁

The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a phosphor compound having a specific molecular structure at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加

200nm以下の波長範囲において、特定の分子構造を有するリン化合物を含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The heat treatment for stabilizing connection or the like between a heating element 30 and a wiring pattern 33 is performed in a gas atmosphere containing no hydrogen.例文帳に追加

本発明は、発熱素子３０と配線パターン３３との間の接続等を安定化する熱処理を、水素を含まないガスの雰囲気で実行する。 - 特許庁

The lamp for a vehicle includes light-emitting elements 26Ra, 26La, and parabola optical system reflectors 24R, 24L, and forms a light distribution pattern containing slant cutoff lines.例文帳に追加

車両用灯具は、発光素子２６Ｒａ，２６Ｌａと、パラボラ光学系リフレクタ２４Ｒ，２４Ｌとを備え、斜めカットオフラインを含む配光パターンを形成する。 - 特許庁

In the photomask manufacturing process, a light shading body pattern is directly made using the photopolymer composition containing a chemical compound which absorbs the specific light.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パタンを直接形成する。 - 特許庁

A chemical amplification type photoresist pattern 15 is formed on a semiconductor substrate 11 having a layer 13 to be etched chemically, and is spin-coated with polymer containing silicon.例文帳に追加

被食刻層１３を有する半導体基板１１上に化学増幅型フォトレジストパターン１５を形成し、この上にシリコン含有ポリマーをスピンコーティングする。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMERIZABLE COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POLYMERIC COMPOUND OBTAINED FROM THE SAME, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素重合性化合物、その製造方法、この化合物から得られる高分子化合物、レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shield film which can easily be manufactured without containing a wet process and is excellent in visibility without causing an interference pattern (rainbow).例文帳に追加

湿式工程を含まずに容易に製造することができ、かつ、干渉斑（レインボウ）が発生せず視認性に優れる電磁波シールドフィルムを提供する。 - 特許庁

The peeling layer 102 and the insulating film 101 are subjected to plasma etching using a resist pattern 103 as a mask and an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加

剥離層１０２及び絶縁膜１０１に対してレジストパターン１０３をマスクにすると共に炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なう。 - 特許庁

Code One is a two-dimensional matrix symbology containing dark and light square data modules and a finder pattern of parallel lines in the symbol's interior. 例文帳に追加

コードワンは２次元マトリクスのシンボル体系で、シンボルの内部に明と暗の四角形のデータモジュールと平行線の位置検出パターンを含むものである。 - コンピューター用語辞典

An active material layer having a linear pattern 121 is formed by linearly coating a surface of a collector 11 with coating liquid containing an active material ingredient.例文帳に追加

集電体１１の表面に活物質材料を含む塗布液をライン状に塗布し、ライン状パターン１２１からなる活物質層を形成する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film for a multilayer resist process which is excellent in storage stability, can form a silicon-containing film having a high Si content and a small permeation amount of a resist material, and can stably form a resist pattern having a superior bottom profile without causing trailing or the like, and to provide a silicon-containing film and a pattern forming method.例文帳に追加

保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive resin composition is characterized in that it contains (a) a copolymer containing structural units of a radical polymerizable compound and an alicyclic epoxy-containing polymerizable unsaturated compound as essential components and (b) a quinonediazido-containing compound, and also the method of forming a pattern using the composition is provided.例文帳に追加

（ａ）ラジカル重合性化合物と脂環式エポキシ基含有重合性不飽和化合物の構造単位を必須成分として含む共重合体及び（ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。 - 特許庁

In the manufacturing method for the inorganic partition wall layer for the PDP, a partition wall pattern is formed by using a paste containing at least two kinds of inorganic powder having different softening points and grain sizes and containing at least a hydroxyl group containing acrylate resin or a butyral resin, then baked.例文帳に追加

軟化点および粒子サイズが互いに相違する少なくとも２種類の無機粉末、及び少なくとも水酸基含有アクリル樹脂またはブチラール樹脂を含むペースト用いて隔壁パターンを形成した後、焼成することにより上記ＰＤＰ用無機隔壁層を形成すること。 - 特許庁

In the manufacturing method for conductive pattern sheet, a base layer including a metal oxide, a binder and a compound containing a mercapt group or a carboxyl group is provided on a base material, then ink containing metal having a pattern shape is provided over the base layer and then a metal film is formed over formed metal catalytic nuclei.例文帳に追加

基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁

To provide a dry etching method with which no undercut occurs and a working shape difference hardly occurs between an isolate pattern and a congestion pattern, in the step of selectively removing a chemical compound semiconductor layer containing neither Al nor In and laminated on a chemical compound semiconductor layer containing either Al or In.例文帳に追加

ＡｌもしくはＩｎを含む化合物半導体層の上に積層されたＡｌもしくはＩｎを含まない化合物半導体層を選択的に除去する工程において、アンダーカットが生じず、且つ、孤立パターン部と密集パターン部における加工形状差の生じにくい、ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加

（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和基含有化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A circuit board 101 includes a first rigid part 1 containing a first insulation substrate 11 and a first circuit pattern 12, a second rigid part 2 containing a second insulation substrate 21 and a second circuit pattern 22, and a flexible metal thin plate part 3 which connects the first rigid part 1 and the second rigid part 2 together with no substrate.例文帳に追加

回路基板１０１は、第１の絶縁基材１１と第１の回路パターン１２とを含む第１のリジッド部１と、第２の絶縁基材２１と第２の回路パターン２２とを含む第２のリジッド部２と、第１のリジッド部１と第２のリジッド部２とを基材なしに連結するフレキシブルな金属薄板部３とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a conductive pattern sheet is characterized in that a layer containing a photocatalytically-active material is formed on the base material; a solution containing a metal compound is arranged on the layer; and a metal pattern used as wiring is formed by subjecting the metal in the metal compound to photoreduction by an exposure process.例文帳に追加

基材上に光触媒活性材料を含有する層を設け、該層に金属化合物を含む溶液を配置し、露光工程によって該金属化合物中の金属を光還元することで配線となる金属パターンを形成することを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing a polyimide resin having an acid-dissociative group, a compound of generating sulfonic acid by irradiation of light, and a crosslinking agent, a manufacturing method for the pattern using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

In the laser deposition process, a film pattern 40 containing a functional liquid material is formed on a substrate 21 and irradiated with a laser beam, and a wiring pattern is formed with heat generated through photothermal transformation caused by absorbing laser light.例文帳に追加

レーザ成膜方法は、機能性液状材料を含む膜パターン４０を基板２１上に形成し、膜パターン４０にレーザ光を照射し、レーザ光の吸収による光熱変換で発生する熱で配線パターンを形成する。 - 特許庁

The printed pattern 1 comprises a pattern having two layers of a heat-sensitive color developable layer 4, and a polishing layer 5 containing a material having a higher hardness than that of the metal of the coin on a suitable zone 3 on a base 2.例文帳に追加

基材２上の適宜な区域３に、感熱発色性層４、および硬貨の金属よりも硬度の高い材料を含有する研摩層５の二層からなるパターンを形成した印刷物１として、課題を解決した。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

The surface of the pattern is coated with an aqueous solution 6 of a modification material containing a crosslinking agent that permeates into the pattern and can carry out crosslink with the resist resin component by an action of an acid, and a permeation promoter that promotes the permeation of the crosslinking agent.例文帳に追加

次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。 - 特許庁

The mold 10 has a base material 11, a primer layer 12 and a pattern layer 13 comprising a film containing a perfluoropolymer, which has a reactive functional group and also has a perfluoroaliphatic ring structure in its main chain, and having a pattern on its surface in this order.例文帳に追加

基材１１と、プライマー層１２と、反応性官能基を有し主鎖にペルフルオロ脂肪族環構造を有するペルフルオロポリマーを含む膜からなり、表面にパターンが形成されたパターン層１３とをこの順に有するモールド１０。 - 特許庁

The multifunctional acrylic compound has a siloxane group, the photosensitive resin composition containing it is excellent in adhesion of a pattern, and loss of a small pattern can be inhibited in a development process.例文帳に追加

本発明で使用される多官能アクリル化合物は、シロキサン基を含むものであって、それを含む感光性樹脂組成物はパターンの接着力に優れており、現像工程中に小型のパターンの遺失を防止することができる。 - 特許庁

An image processing apparatus specifies a first region RG1 that includes a two-dimensional barcode pattern PT containing digital information and a second region RG2 that does not include the two-dimensional barcode pattern PT, in a scanned document image GS.例文帳に追加

画像処理装置は、原稿のスキャン画像ＧＳにおいて、デジタル情報が埋め込まれた二次元バーコードパターンＰＴを含む第１の領域ＲＧ１と、二次元バーコードパターンＰＴを含まない第２の領域ＲＧ２とを特定する。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective coating polymer for use in ultrafine pattern formation during fabrication of a semiconductor device, an organic anti-reflective coating composition containing the same and a method for forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with the growth action force of a film boiling bubble produced instantaneously to form a pattern wiring or an electrode pattern being connected with a device wherein the corner part is beveled.例文帳に追加

基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて形成されるパターン配線あるいはデバイスに接続される電極パターンのコーナー部を面取り形状とする。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition which suppresses heat sagging due to high-temperature bake, after pattern formation and has superior pattern forming properties, to provide a color filter obtained using the composition, and to provide a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

パターン形成後、高温ベーク処理による熱ダレの発生を抑制し、パターン形成性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、及び該組成物を用いてなるカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a building board having a fine and uniform granular pattern on the whole surface of the building board containing mountain portions and groove portions and hardly having irregular gloss, and to provide a method for producing the building board on which the granular pattern is formed.例文帳に追加

山部と溝部とを含む建築板の全表面に，細かく，均一な粒状模様が形成され，つやムラが殆どない建築板及びこのような粒状模様を設けた建築板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After a resist pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a polyurethane prepolymer having a propylene oxide group, an alkali-soluble polymer, an ethylenically unsaturated addition polymerizable monomer and a photopolymerization initiator, the pattern is subjected to sandblasting.例文帳に追加

プロピレンオキシド基を有するポリウレタンプレポリマーとアルカリ可溶性高分子とエチレン性不飽和付加重合性モノマーと光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、レジストパターンを形成した後サンドブラスト処理を行う。 - 特許庁

The antenna sheet is manufactured by directly forming the antenna pattern on the magnetic sheet 11 using a material containing the nanoparticles, applying heat treatment to the magnetic sheet with the antenna pattern and sintering the nanoparticles.例文帳に追加

このアンテナシートは、磁気シート１１上にナノ粒子を含む材料を用いてアンテナパターンを直接形成し、前記アンテナパターンを有する磁気シートに熱処理を施して前記ナノ粒子を焼結させることにより製造することができる。 - 特許庁

In the pattern forming method for the resin film by dry etching, a pattern forming method is characterized by using: novolak resin as a resist; and halogen-based gas as etching gas, wherein the resin film contains fluorine-containing aromatic resin.例文帳に追加

ドライエッチングによる樹脂膜のパターン形成方法において、レジストとしてノボラック樹脂を用い、エッチングガスとしてハロゲン系ガスを用い、かつ、樹脂膜が含フッ素芳香族系樹脂を含む樹脂膜であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes the steps of: forming a buffer-containing film containing an acid and a salt thereof on a substrate to be processed; forming a photoresist film containing a photoacid generator on the buffer-containing film; exposing the photoresist film; and developing the photoresist film.例文帳に追加

被処理基板上に、酸とその酸の塩とを含む緩衝剤含有膜を形成する工程と、前記緩衝剤含有膜の上に、光酸発生剤を含むフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を露光する工程と、前記フォトレジスト膜を現像する工程と、を備えたことを特徴とするレジストパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

The first substrate 11 and the second substrate 14 are separated from each other at the boundary between the dielectric film 15 and the first ultraviolet curing resin 12 containing fluorine, and the uneven pattern is transferred to the first ultraviolet curing resin 12 containing fluorine.例文帳に追加

第一の基板１１と第二の基板１４とを、誘電体膜１５とフッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２との境界で分離し、フッ素含有の第一の紫外線硬化性樹脂１２に凹凸パターンを転写する。 - 特許庁

This substrate plate is provided by having a pattern containing a polymerized lipid membrane part and flowable lipid membrane part on the substrate plate, and also having a patterned membrane-binding type cytochrome P450 obtained by immobilizing a membrane fraction containing the membrane-binding type cytochrome P450 at the flowable lipid membrane part.例文帳に追加

基板上に重合脂質膜部分と流動性脂質膜部分を含むパターンを有し、該流動性脂質膜部分に膜結合型チトクロームP450を含む膜画分を固定化してなる、パターン化膜結合型チトクロームP450を有する基板。 - 特許庁

A first liquid containing a metallic compound and a second liquid containing a substance for reducing the metallic compound are mixed and are supplied to a substrate, thus forming a metallic pattern on the substrate.例文帳に追加

本発明は、金属化合物を含む第１の液体と、前記金属化合物を還元する物質を含む第２の液体と、を互いに混ざり合うように前記基体に供給することで、前記基体に金属パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a slimming method of a thin film containing carbon capable of improving reproducibility per slimming processing by suppressing variations in a slimming amount (cutting amount) when a salient of a pattern of the thin film containing the carbon such as a resist is slimmed.例文帳に追加

レジスト等の炭素含有薄膜のパターンの凸部のスリミング処理時のスリミング量（削り取り量）のばらつきを抑制してスリミング処理毎の再現性を向上させることが可能な炭素含有薄膜のスリミング方法である。 - 特許庁

The photomask has a photomask substrate, a mask pattern formed on the photomask substrate and containing at least one first pattern 11, a plurality of second patterns 12 arranged in a higher density than at least one first pattern, and a connecting part 13 connecting one end of at least one first pattern and each one end of the plurality of second patterns.例文帳に追加

このフォトマスクは、フォトマスク基板と、該フォトマスク基板上に形成されたマスクパターンであって、少なくとも１つの第１のパターン１１と、該少なくとも１つの第１のパターンよりも高い密度で配置された複数の第２のパターン１２と、該少なくとも１つの第１のパターンの一端と該複数の第２のパターンの各々の一端とを接続する接続部１３とを含むマスクパターンとを有する。 - 特許庁

Then, after the metal gate substance layer is etched to form a metal gate pattern, a capping layer is formed on the metal gate pattern, and a selective oxidation process is performed for selectively oxidizing a substance containing silicon while suppressing oxidation of the metal layer included in the metal gate pattern in order to cure any damage occurring upon etching for forming the metal gate pattern.例文帳に追加

次いで、前記金属ゲート物質層をエッチングして金属ゲートパターンを形成した後、前記金属ゲートパターン上にキャッピング層を形成し、前記金属ゲートパターンを形成するためのエッチング時に発生したダメージをキュアリングするために前記金属ゲートパターンに含まれた前記金属層の酸化を抑制しつつ、シリコンを含有した物質を選択的に酸化させる選択的酸化工程を行う。 - 特許庁

The resist pattern forming method has steps of placing on a base material a liquid material, containing a resist and fine particles exhibiting reflection factor/wavelength characteristics different from those of the base material in a visible light region to form a material pattern 10A on the base material, and drying the material pattern to form a resist pattern 10B.例文帳に追加

レジストパターン形成方法が、レジストと、可視光域において下地物体の反射率・波長特性とは異なる反射率・波長特性を呈する微粒子と、を含有した液状材料を前記下地物体上に配置して、前記下地物体上に材料パターン１０Ａを形成する工程と、前記材料パターンを乾燥してレジストパターン１０Ｂを形成する工程と、を有している。 - 特許庁

A fluorescent pattern forming layer containing a fluorescent dye and a color pigment and an opaque layer for concealing the fluorescent pattern forming layer are formed from the side near to a material to be recorded on which the fluorescent pattern is formed and only the fluorescent dye in the fluorescent pattern forming layer is diffused into the opaque layer or through the opaque layer.例文帳に追加

蛍光絵柄を形成される被記録材に近い側から、蛍光染料と着色顔料とを含有する蛍光絵柄形成層と、該蛍光絵柄形成層を隠蔽する不透明層とを形成し、前記蛍光絵柄形成層の蛍光染料のみを前記不透明層中に、または前記不透明層中を通って拡散させることを特徴とする蛍光絵柄形成方法。 - 特許庁