「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The electromagnetic wave shielding film 200 for the display apparatus includes a first base material of transparent resin material, a negatively engraved mesh pattern 224 formed at least on one surface of the first base material, and an electromagnetic wave shielding pattern containing conductive material filled inside the negatively engraved mesh pattern.例文帳に追加

透明樹脂材質の第１基材、該第１基材の少なくとも一面に形成された陰刻のメッシュパターン及び該陰刻のメッシュパターン内部に充填された導電性物質を含む電磁波遮蔽パターンを具備したディスプレイ装置用電磁波遮蔽フィルムを提供する。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of applying silver nano paste 3 containing conductive particles on a front surface of a template 1 made of resin to which a pattern 1c including an unevenness is applied, and forming a pattern 5 of a conductive material on a substrate 4 by pushing the front surface on the substrate 4 (that is, by carrying out a contact print).例文帳に追加

凹凸を含むパターン１ｃが施された樹脂製テンプレート１の表面に、導電性粒子を含む銀ナノペースト３を塗布し、当該表面を基板４上に押し当てる（すなわちコンタクトプリントを行う）ことにより基板４上に導電材のパターン５を形成する。 - 特許庁

The number of the bright particles in the cross sections of the protruded parts is increased by making the surface of the bright pattern forming resin layer uneven to collectively enhance the brightness of the protruded parts and the brightness of the pattern surface can be enhanced as compared with the bright pattern forming resin layer containing the same amount of the bright particles and having a flat surface.例文帳に追加

表面を凹凸にすることにより凸部断面における粒子数を多くしてこの部分の光輝性を集中的に高め、同じ量の光輝性粒子を含み、表面平坦な光輝性模様形成樹脂層に比べ、模様表面の光輝性を高めることができる。 - 特許庁

In this designable medium, a coated layer is provided by coating a base material with a coating material containing a pigment with magnetic anisotropy; a pattern part is formed in the coated layer; and the orientations of the pigment on the pattern part and a peripheral part except the pattern part are made different from each other.例文帳に追加

磁気異方性を有する顔料を含む塗料を基材に塗工して塗工層を設けた意匠性媒体であって、塗工層にパターン部分を形成し、パターン部分とパターン部分を除く周辺部分とにおける顔料の配向がそれぞれ異なるようにする。 - 特許庁

A module board MCB, wherein an IC chip and a passive component are mounted, has a monolayer wiring structure where a conductive pattern 36S used for signal transmission and a conductive pattern containing a conductive pattern 36G for connecting to the reference electrically are stuck to an insulating board 37.例文帳に追加

ＩＣチップおよび受動素子が実装されるモジュール基板ＭＣＢを絶縁性基板３７に信号伝達に用いられる導体パターン３６Ｓおよび基準電位と電気的に接続する導体パターン３６Ｇを含む導体パターンを貼付した単層の配線構造とする。 - 特許庁

In some embodiments, a converged gallium ion beam not containing a deposition precursor gas is scanned on a silicon substrate with a pattern to form a conductive pattern, and copper structure is formed on the conductive pattern by electrochemical deposition with one or more kinds of metals.例文帳に追加

いくつかの実施形態では、付着前駆体ガスを含まない集束ガリウム・イオン・ビームが、シリコン基板上をあるパターンで走査して、導電パターンを生成し、次いでこの導電パターン上に、１種または数種の金属の電気化学付着によって銅構造が形成される。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes: a cooling step of irradiating a coating film containing inorganic powder formed on a substrate with a laser beam for drawing a pattern and simultaneously cooling the portion irradiated with the laser beam; and a step of removing a portion except for the pattern.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The composition for removing the photoresist pattern capable of improving the removal reliability on the photoresist pattern contains aminoethoxyethanol, a polyalkylene-oxide composition, a glycol ether compound and an aprotic polarity solvent containing nitrogen as the remainder, by minimizing the residual quantity of the photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンの残留量を最少化させることによって、フォトレジストパターンの除去信頼性を向上されることができるフォトレジストパターン除去用組成物は、アミノエトキシエタノール、ポリアルキレンオキサイド化合物、グリコールエテール化合物、及び残部として含窒素非プロトン性極性溶媒を含む。 - 特許庁

After the resin pattern 3 is formed by printing the ultraviolet curing resin paste containing the electroless plating catalyst on the surface of the transparent substrate 1 and curing the paste by projecting ultraviolet rays upon the formed printed pattern 2, the conductive pattern 5 is formed by forming the plated layer 4 on the resin pattern 3 by electroless plating.例文帳に追加

無電解めっき触媒を含む紫外線硬化性樹脂ペーストを透明基材１の表面に印刷し、形成された印刷パターン２に紫外線を照射して硬化させることにより、樹脂パターン３を形成し、その後無電解めっき処理して、樹脂パターン３上にめっき層４を形成して導電性パターン５を形成する。 - 特許庁

In the method of printing a pattern part on a substrate by an inkjet system using an ink containing a catalyst and drying it, and forming the metal pattern by electroless plating processing on the pattern part, the catalyst is a soluble palladium metal complex, the ink containing the catalyst has a pH of 10.0-14.0, and the printed pattern part before the electroless plating processing has a surface roughness Ra of 30 to 45 nm.例文帳に追加

基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクｐＨが１０．０〜１４．０であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さＲａが３０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 - 特許庁

A method of repairing a pattern comprises a step of making a portion of the pattern to be removed contain nitrogen and hydrogen, and a step of etching the portion to be removed by exposing the pattern to an atmosphere containing excited oxygen, wherein the hydrogen is introduced into the portion to be removed by ion implantation or laser doping, and the atmosphere contains plasma containing the excited oxygen.例文帳に追加

パターンのうちで除去すべき部分に窒素と水素とを含有させる工程と、パターンを励起された酸素を含む雰囲気に晒すことにより、除去すべき部分をエッチングする工程と、を備え、前記水素は、イオン注入またはレーザドーピングによって除去すべき部分に導入され、雰囲気は、励起された酸素を含有したプラズマを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a heat dissipating substrate in which heat dissipation is improved by containing an oxide insulating layer of porous structure and a fine pattern can be formed by containing a circuit layer embedded in an oxide insulating layer, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

多孔性構造の酸化絶縁層を含んで放熱性が向上され、酸化絶縁層にエンベッドされた回路層を含んで微細パターンの形成が可能である放熱基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After a substrate containing an active area defined by an element separation film is manufactured, an etching mask containing a silicidation preventive pattern that exposes a part of the active areas on the element separation film and the active areas is formed.例文帳に追加

素子分離膜により定義される活性領域を含む基板を製造した後、素子分離膜及び活性領域上に活性領域の一部を露出させるシリサイデーション防止パターンを含むエッチングマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative photosensitive composition which has high sensitivity and good pattern forming property free of residue on development, while retaining temporal stability, with production of foreign substances suppressed, and adhesion to a substrate, in a dye-containing negative curable composition.例文帳に追加

染料含有のネガ型硬化性組成物における異物発生を抑えた経時安定性及び下地との密着性を保持しつつ、感度及び現像残渣のない良好なパターン形成性を向上する。 - 特許庁

A dry etching method has: a process for performing the pattern formation of resist on a member to be etched made of a substance containing zinc oxide; and a process for etching the member to be etched by gas containing reducing gas.例文帳に追加

酸化亜鉛を含む物質からなる被エッチング部材の上にレジストをパターニング形成する工程と、還元性ガスを含むガスを用いて前記被エッチング部材をエッチングする工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a silver microparticle-containing composition which has a uniform grain size, which can form a fine graphic pattern and which has light environmental load, a process for producing the silver microparticle, and a paste containing the silver microparticle.例文帳に追加

粒度が均一で微細な描画パターンを形成でき、環境負荷が小さい微小銀粒子含有組成物、その製造方法、微小銀粒子の製造方法および微小銀粒子を有するペーストを提供すること。 - 特許庁

To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.例文帳に追加

本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The surface of a substrate 2 is provided with a mask 2, and a liquid w containing fine particle polishing material is injected from a nozzle 5 to the surface of the substrate 2 to work a pattern.例文帳に追加

基板２の表面にマスク２を設け、該基板２の表面に微粒の研磨材を含む液体ｗをノズル５から噴射してパターンを加工する。 - 特許庁

A wafer having a pattern formed thereon is rotated (step S1) and a coating solution containing a liquid coating forming component is applied to the center of the wafer (step S2).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハを回転させ（ステップＳ１）、ウェハの中心に液体状の塗布膜形成成分を含む塗布液を塗布する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To improve the shape of a resist pattern composed of a chemically amplified resist film formed on a film to be processed having pores or containing an organic material.例文帳に追加

空孔を有するか又は有機材料を含む被処理膜の上に形成される化学増幅型レジスト膜よりなるレジストパターンの形状を良好にする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which suppresses an increase in the area of a pattern layout in the serial connection of elements containing a high breakdown strength MOS transistor.例文帳に追加

高耐圧ＭＯＳトランジスタを含む素子の直列接続において、パターンレイアウトの面積の増大が抑制される半導体装置を提供する。 - 特許庁

In a step for producing a photomask, a light shielding body pattern is directly formed using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbing compound.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パターンを直接形成する。 - 特許庁

To provide a coating jig which can form finely a pattern with crossing lines on the surface of coated goods coated with a paint containing a magnetic body.例文帳に追加

磁性体を含む塗料を塗布された被塗装物品の表面に、線が交差する模様を美しく形成することができる塗装治具を提供する。 - 特許庁

The liquid drop ejection head 23 ejects a liquid drop 30 containing a functional material onto a substrate 21 such that a film pattern 40 is formed thereon.例文帳に追加

液滴吐出ヘッド２３は、膜パターン４０が基板２１上に形成されるように機能性材料を含む液滴３０を基板２１上に吐出する。 - 特許庁

A material 1 to be dyed containing a dyeing solution is retained in the air and continuously irradiated with high frequency wave in this state to draw high-frequency pattern on the material 1 to be dyed.例文帳に追加

染液を含んだ被染物１を空気中に保持し、この状態で高周波を連続照射して被染物１に高周波模様を描くようにした。 - 特許庁

More preferably, the pattern is made of gold, silver, copper, platinum, nickel, tin, rhodium, ruthenium, palladium, or the electromagnetic wave absorbing material an alloy containing these.例文帳に追加

更に、好ましくは当該パターンが、金、銀、銅、白金、ニッケル、スズ、ロジウム、ルテニウム、パラジウム又はこれらを含む合金である電磁波吸収材料である。 - 特許庁

To provide a negative type curable composition containing a dye which is highly sensitive, enables a fine pattern with rectangular cross sections to be formed, and at the same time, and achieves improvement in in-film uniformity of applied and formed coating.例文帳に追加

高感度で、断面矩形の微細パターンの形成が可能であると共に、塗布形成された塗膜の膜内均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide an acid generator comprising a new compound, a resist composition containing the acid generator, and to provide a method for forming a resist pattern that uses the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The multiplication layer 2121 of the outer APD element 21 is constituted as an electric field buffer layer 2121 by a fine pattern containing a plurality of islands.例文帳に追加

外側のＡＰＤ素子２１の増倍層２１２１は、複数のアイランドを含む微細パターンにより電界緩和層２１２１として構成されている。 - 特許庁

This invention includes a step of forming the resist pattern by discharging a composition containing a photosensitizer on an object to be processed under reduced pressure.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system for improving the long-term reliability of an integrated circuit package containing a pattern-formed metal thermal interface (PMTI), and its method.例文帳に追加

パターン形成された金属熱インターフェース（ＰＭＴＩ）を含む集積回路パッケージの長期信頼性を改善するためのシステム及び方法を提供すること - 特許庁

To provide manufacturing method of a composition containing silver ultrafine particles and a conductive pattern which do not need sintering process and dipping treatment.例文帳に追加

焼結工程および浸漬処理が不要であり、優れた導電性が得られる銀超微粒子含有組成物および導電性パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The second program code comprises: a member structure containing variables determined to be accessed in a predetermined access pattern; and a root pointer for specifying the member structure.例文帳に追加

第２のプログラムコードは、所定のアクセスパターンでアクセスされると判定された変数を含むメンバ構造体と、そのメンバ構造体を指定するルートポインタとを有する。 - 特許庁

To realize a method of coating a resist that is suited for making a micro-pattern having a width of 0.2 μm or less even on an undercoated film containing nitrogen atoms and susceptible to moisture.例文帳に追加

吸湿性がある窒素原子を含む下地膜上においても０．２μｍ幅以下の微細パターン形成に適したレジスト塗布方法を提供する。 - 特許庁

Droplets 3 containing a film forming material for forming a film pattern 2 are imparted to a substrate 1 to form a plurality of film precursors 4, and are dried.例文帳に追加

基板１に、膜パターン２を形成するための膜形成材料を含む液滴３を付与して、複数の膜前駆体４を形成し、乾燥させる。 - 特許庁

The pattern layer preferably contains a non-swelling polyurethane-based resin containing a lubricant, and preferably has a thickness in a range of 0.01 to 2.00 mm.例文帳に追加

前記パターン層は、滑剤を含有する非膨潤性ポリウレタン系樹脂を含有していることが好ましく、厚みとして０．０１〜２．００ｍｍの範囲が好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING RESIST RESIN, RESIST RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造されたレジスト用樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

After post treatment, the object is carried in a resist stripping-off section 33 and the resist pattern in stripped off by performing wet-etching by using a resist stripper containing amine.例文帳に追加

次に、対象物をレジスト剥離部３３内に搬入し、アミンを含有するレジスト剥離液を用いてウェットエッチングすることにより、レジストパターンを剥離する。 - 特許庁

To provide an image processor and image processing program for acquiring pattern information from an image signal containing more pieces of paper fingerprint information.例文帳に追加

より多くの紙指紋情報を含んだ画像信号から紋様情報を取得する画像処理装置及び画像処理プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

In addition, no laser radiation is performed prior to dicing to the scribe line of a predetermined or less width on which a metal-containing accessory pattern is provided.例文帳に追加

また、金属を含むアクセサリパターンを配置したスクライブラインであって、所定の幅以下のスクライブラインには、ダイシングに先立つレーザ照射を行わないようにした。 - 特許庁

To provide a new high molecular compound, a positive resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.例文帳に追加

優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

The UV cure resin material containing an isobornyl acrylate, an acrylate having a fluorene skeleton, a multifunctional acrylate, and a polymerization starter is used for pattern transfer.例文帳に追加

イソボルニルアクリレート、フルオレン骨格を有するアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂材料をパターン転写に用いる。 - 特許庁

The composition for treating a photoresist pattern is an alkaline composition containing a quaternary ammonium hydroxide solution and a primary or secondary amine.例文帳に追加

フォトレジストパターンを処理するための組成物であって、第四級アンモニウムヒドロキシド溶液と第一級または第二級アミンとを含み、アルカリ性である組成物。 - 特許庁