| 例文 |
pattern-containing~の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1520件
A method for forming a pattern includes a step of forming a film which comprises a pattern forming material containing a copolymer having a polystyrene derivative and a polymethacrylate derivative containing silsesquioxane, a step of forming a microphase separation structure in the film, and a step of etching the substrate with a phase of a polymer chain containing the silsesquioxane as a mask and transferring a pattern of the microphase separation structure on the substrate.例文帳に追加
ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a metal fine particle-containing resin particle, a metal fine particle-containing resin layer and a method for forming the metal fine particle-containing resin layer by which an efficient electroless plating is made possible and a more uniform metal conductive pattern layer is formed by forming a layer which allows an easy control of the etching thickness on the surface of an underlying pattern layer forming a pattern.例文帳に追加
パターンを形成する下地パターン層の表面にエッチングする厚さを容易にコントロールすることができる層を形成することにより、効率的な無電解めっき処理が可能となり、より均一な金属導体パターン層を形成することができる金属微粒子含有樹脂粒子、金属微粒子含有樹脂層および金属微粒子含有樹脂層の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A member in which a wiring pattern has been formed by applying the coating composition containing the organic conductive material to the plastic substrate is prepared, and the wiring pattern is annealed by irradiating at least the wiring pattern with electromagnetic waves, to form wiring made of the organic conductive material.例文帳に追加
プラスチック基板上に有機導電性材料を含む塗布組成物が塗布されて配線パターンが形成された部材を準備し、少なくとも前記配線パターンに電磁波を照射してアニールし、有機導電性材料からなる配線を形成する。 - 特許庁
Then the surface of the first resist pattern 102b is soaked in a solution 105 with addition of a reducing agent, and a water-soluble film 106 containing a crosslinking agent which crosslinks with the carboxylic acid group constituting the first resist pattern 102 is formed on the first resist pattern 102b.例文帳に追加
次に、第1レジストパターン102bの表面を還元剤が添加された溶液105にさらした後、第1レジストパターン102bの上に、第1レジストパターン102bを構成するカルボン酸基と架橋する架橋剤を含む水溶性膜106を形成する。 - 特許庁
To provide a device and method for the exact evaluation of the shape of a mask pattern with high accuracy by using a new evaluation means relating to the evaluation of the pattern shape of a photomask containing a fine pattern.例文帳に追加
マスクパターンの形状評価装置及び形状評価方法において、微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状評価に関して新たな評価手段を用いることにより、正確かつ高精度な形状評価装置及び形状評価方法を提供する。 - 特許庁
The second process includes a process for flowing a formed pattern by heat treatment or a process for coating a formed pattern with a resin composition containing a crosslinking agent and framing it through chemical reaction at the interface of the pattern and an upper layer film.例文帳に追加
第2のプロセスとしては、形成されたパターンに熱処理を施してフローさせるプロセス、もしくは、形成されたパターンに架橋剤を含む樹脂組成物を塗布し、パターンと上層膜との界面での化学反応による枠付けを行なうプロセスを採用する。 - 特許庁
An image processing apparatus 100 for processing half-tone data containing a dot pattern depending on the lightness is provided with a dot pattern control means 104 for correcting the shape of the dot pattern by controlling an ON / OFF timing of the pulse emitted to a photoreceptor.例文帳に追加
明度に応じたドットパターンを含むハーフトーンデータを処理する画像処理装置100であって、感光体に対して照射するパルスのオン、オフのタイミングを制御することによって、ドットパターンの形状を補正するドットパターン制御手段104を備える。 - 特許庁
An index showing the degree of relevance between a first pattern which is an arbitrary pattern, and a sort result when sorting the text containing the first pattern into a set to which the text belongs is generated using the value determined from the generated probability data.例文帳に追加
そして、少なくとも、生成された確率データから定まる値を用い、任意のパターンである第1パターンと、当該第1パターンを含むテキストを当該テキストが属する集合に分類した際の分類結果と、の関連性の高さを表す指標が生成される。 - 特許庁
This coating for fining the pattern covers a photoresist pattern formed on a substrate, is used for forming the fine pattern, and contains water-soluble polysaccharide of 2 to 50 sugars, preferably, containing chitin oligosaccharide and/or chitosan oligosaccharide.例文帳に追加
基板上に形成されたホトレジストパターンを被覆し、微細パターンを形成するために使用されるパターン微細化用被覆剤であって、2糖以上50糖以下の水溶性多糖類、好ましくはキチンオリゴ糖及び/又はキトサンオリゴ糖を含有する被覆剤を用いる。 - 特許庁
For example, by arranging the substrate in a mold in which the fine uneven pattern is formed at a position opposite to the substrate, the supercritical fluid containing the monomer intrudes into the pattern so that the monomer is polymerized/molded according to the pattern.例文帳に追加
このとき、例えば基材に対向する位置に微細凹凸パターンが形成された型(モールド)内に基材を配置しておくことにより、モノマーが溶解した超臨界流体が凹凸パターンに侵入し、モノマーが凹凸パターンに従って重合し、成形される。 - 特許庁
On a substrate, a first transfer layer containing a first organic material and a second transfer layer containing a second organic material are pattern-formed by a printing method, at least via a photothermal conversion layer.例文帳に追加
基板上に少なくとも光熱変換層を介して、第1の有機材料を含有する第1転写層および第2の有機材料を含有する第2転写層を印刷法によりパターン形成する。 - 特許庁
This seeding sheet is obtained by forming an expanded resin layer containing a water absorbent polymer on a substrate and further forming a figure pattern with an ink containing sexual or asexual reproductive organs on the surface of the expanded resin layer.例文帳に追加
基材上に吸水性ポリマーを含有する発泡樹脂層を設け、さらにこの発泡樹脂層の表面には有性または無性の繁殖器官を含有するインキにより絵柄を形成する。 - 特許庁
A cesium-containing aluminosilicate compound obtained by hydrothermal synthesis is subjected to heating treatment at ≥500°C, so that cesium-containing zeolite having a specified X-ray powder diffraction pattern can be crystallized.例文帳に追加
水熱合成により得られたセシウム含有アルミノシリケート化合物を500℃以上の温度で加熱処理することによって特定のX線粉末回折パターンを有するセシウム含有ゼオライトが結晶化される。 - 特許庁
In the pattern forming method, a resist composition containing a polymer or compound containing at least a perfluoroalkylacetal as an acid decomposable group and an acid generator is applied on a substrate, exposed in a desired pattern and developed using supercritical carbon dioxide under ≤200 atm.例文帳に追加
酸分解性基としてパーフルオロアルキルアセタールを少なくとも含む重合体または化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、所望のパタン露光処理を施して、200気圧以下の超臨界二酸化炭素を用いて現像を行なうパタン形成方法。 - 特許庁
The wiring board comprises a substrate 20, a wiring pattern 30 composed of conductor resin containing silver particles formed on the substrate 20, and a coated conductor 40, composed of conductor resin containing carbon formed to cover the exposed part of the wiring pattern 30 and having a smooth surface part.例文帳に追加
基板20と、この基板20上に形成された銀粒子を含む導電体樹脂からなる配線パターン30と、カーボンを含む導電体樹脂からなり配線パターン30の露出部を覆い、かつ表面部が平滑面である被覆導体40とを含む構成からなる。 - 特許庁
The coating insulating layer 30 includes a first coating insulating layer 30 covering the first region 21f of the circuit pattern 21 and a second coating insulating layer 30 covering the second region 21s of the circuit pattern 21, and the second coating insulating layer 30 is formed of an air-containing insulating layer containing air.例文帳に追加
被覆絶縁層30は、回路パターン21の第1領域21fを被覆する第1被覆絶縁層30と、回路パターン21の第2領域21sを被覆する第2被覆絶縁層30とを備え、第2被覆絶縁層30は、空気を含む空気含有絶縁層で形成されている。 - 特許庁
To provide a production method for a photocatalyst-containing layer substrate having a photocatalyst-containing layer capable of efficiently forming patterns with mutually largely different characteristics, or pattern formed bodies, and a composition for forming the photocatalyst-containing layer used for the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加
本発明は、特性の大きく異なるパターンを効率的に形成することが可能な光触媒含有層を有する光触媒含有層基板や、パターン形成体の製造方法、またその光触媒含有層に用いられる光触媒含有層形成用組成物等を提供することを主目的としている。 - 特許庁
The method is provided with a process of introducing gas containing fluorinated silicon-based gas whose F/Si ratio is larger than 0 and smaller than 4 to a vacuum container with gas containing HBr, gas containing O_2 and gas containing NF_3 and/or SF_6 for etching a single crystal silicon film 1 with an insulation film 8 of a prescribed pattern as a mask.例文帳に追加
真空容器中に、HBrを含有するガス、O_2を含有するガス、NF3及び/又はSF_6を含有するガスとともに、F/Si比が0を超えて4未満であるフッ化シリコン系ガスを含有するガスを導入し、所定パターンの絶縁膜8をマスクとして、単結晶シリコン膜1をエッチングする工程を備える。 - 特許庁
To provide a positive resist composition containing a new compound suitable for use as an acid generator for a resist composition, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加
レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a new acid generator for a resist composition, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物用の新規酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁
HYDROPHILIC GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION AND COATING FILM FOR SUBSTRATE PROTECTION例文帳に追加
親水性基を有するオルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁
A flat silicon-on-insulator(SOI) substrate having no transition defect containing an SOI region with a pattern and a bulk area is formed.例文帳に追加
パターン付きのSOI領域およびバルク領域を含み、遷移欠陥のない平坦なシリコン・オン・インシュレータ(SOI)基板を形成する方法。 - 特許庁
Grooves or holes are machined thinner than pattern dimensions in a BARC etching step, and etching is made under the conditions of a high mask selection ratio containing N_2 or O_2.例文帳に追加
BARCエッチングステップにてパターン寸法よりも溝又は孔を細く加工し、N_2またはO_2を含む高マスク選択比条件にてエッチングを行う。 - 特許庁
To provide a method for forming a relief pattern from a photosensitive element containing a composition layer capable of being partially liquefied by heating.例文帳に追加
加熱によって部分的に液化することができる組成物層を含む感光要素からレリーフパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁
Then, a solid electrolyte layer in conformity with the uneven pattern is formed by applying application liquid containing a polymer electrolyte material (a step S104).例文帳に追加
そして、高分子電解質材料を含む塗布液を塗布し凹凸パターンに追従した固体電解質層を形成する(ステップS104)。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING RESIN, RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
CROSSLINKER POLYMER FOR ORGANIC ANTIREFLECTION FILM, ORGANIC ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加
有機反射防止膜用架橋剤重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOACID GENERATOR FOR CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, RESIST MATERIAL CONTAINING THE PHOTOACID GENERATOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
化学増幅レジスト材料用光酸発生剤、及び該光酸発生剤を含有するレジスト材料、並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
A print pattern 3 is formed on the metal oxide thin film 2 by spraying ink containing an electroless plating catalyst from an ink jet head.例文帳に追加
金属酸化物薄膜2の上に無電解めっき触媒を含有するインクをインクジェットヘッドから噴霧して印刷パターン3を形成する。 - 特許庁
NEW SALT HAVING FLUORINE-CONTAINING CARBANION STRUCTURE, DERIVATIVE THEREOF, PHOTOACID GENERATOR, RESIST MATERIAL USING THE PHOTOACID GENERATOR, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
新規含フッ素カルバニオン構造を有する塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
A metallic pattern made of aluminum (Al) containing 1% of copper (Cu) is corroded when dicing because of difference in the standard electrode potential between the aluminum and the copper.例文帳に追加
1%の銅(Cu)を含むアルミニウム(Al)で形成された金属パターンは、標準電極電位の違いからダイシング時に腐食が生じる。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN FORMING RESIN LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY ELEMENT CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びパターン形成樹脂層の製造方法、並びに該感光性樹脂組成物を含む半導体装置及び表示素子 - 特許庁
The method for recording data on the optical recording medium forms a mark or a space by using a recording waveform having an erase pattern containing a multi-pulse.例文帳に追加
光記憶媒体へのデータ記録方法は、マルチパルスを含む消去パターンを有する記録波形を用いてマークまたはスペースを形成する。 - 特許庁
The present invention includes a step for forming a resist pattern by discharging a composition containing photosensitizer on a work under a depressurized atmosphere.例文帳に追加
本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND例文帳に追加
新規なスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び新規なスルホニウム化合物 - 特許庁
It is assumed that a dry etching method is employed wherein a metal conductive film containing high-fusion-point metal, the copper-containing aluminum film, and a mask layer are formed in order on an insulating film and dry-etched to form a wiring pattern of the metal conductive film and copper-containing aluminum film.例文帳に追加
絶縁膜上に、高融点金属を含有する金属導電膜と、銅含有アルミニウム膜と、マスク層を順次形成し、ドライエッチングによってこの金属導電膜及び銅含有アルミニウム膜の配線パターンを形成するドライエッチング方法を前提とする。 - 特許庁
A cell library is prepared containing a plurality of kinds of standard cells is prepared where upper/lower boundaries of a threshold value adjusting pattern are overlapped on upper/lower boundaries of a cell frame to define distances between right/left boundaries of the pattern and right/left boundaries of the cell frame.例文帳に追加
閾値調整パターンの上下の境界をセル枠の上下の境界と重ね、左右の境界とセル枠の左右の境界との距離を規定した、複数種のスタンダードセルを含むセルライブラリを用意する。 - 特許庁
To provide a method for printing by which a specified pattern such as a picture pattern and letters can be continuously and clearly printed on the surface of a cake material containing oils and fats such as a biscuit base and deposits such as fine particles.例文帳に追加
ビスケット生地などの油脂や微小粒子などの付着物を含んでいる菓子材料の表面に、絵柄や文字等の所定パターンを連続して鮮明に印刷することができる印刷方法を提供する。 - 特許庁
The surface reforming layer 10 is etched by using the resist pattern 3 as a mask, and the organic insulating film 2 is removed through plasma containing oxygen while the surface reforming layer 10 is used as an etching stopper, thereby forming a pattern.例文帳に追加
レジストパターン3をマスクとしてエッチング法により表面改質層10をエッチングし、酸素を含んだプラズマにより表面改質層10をエッチングストッパとして有機絶縁膜2を除去しパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a polymer compound capable of forming a resisit pattern that has a high resolusion property and high photographic sensitivity, and whose collapse is protected, to provide a positive-type resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A voice data generation means 260 generates the voice data containing one or a plurality of phrases according to the display time of the decorative figure display pattern determined by the decorative figure display pattern decision means.例文帳に追加
音声データ生成手段260は、装飾図柄表示パターン決定手段により決定された装飾図柄表示パターンの表示時間に応じて、一つまたは複数のフレーズを含む音声データを生成する。 - 特許庁
This planar antenna is provided with a substrate, an antenna pattern and a filter pattern formed on the substrate, and an oscillating means, and the substrate is formed of organic materials substantially containing flat soft magnetic powder.例文帳に追加
基板と、該基板上に形成されたアンテナパターンおよびフィルタパターンと、発振手段とを備え、前記基板が、実質的に偏平状の軟磁性粉末を含有する有機系材料から成形されてなる平面アンテナである。 - 特許庁
To provide a pattern inspecting instrument and a method of generating a master data therefor which achieve a highly reliable pattern inspection for an object containing pieces different in direction taking all of the pieces into consideration.例文帳に追加
向きの異なるピースを含む対象物についても,その全ピースを考慮に入れつつ,信頼性の高いパターン検査を行うことができるパターン検査装置およびそのマスタデータの作成方法を提供すること。 - 特許庁
A wiring pattern 20 containing the first layer 12 and the second layer 14 which are patterned is formed by etching the metal layer 16, and a part of the first layer 12 is left outside the second layer 14 of the wiring pattern 20.例文帳に追加
金属層16をエッチングして、パターニングされた第1の層12及び第2の層14を含む配線パターン20を形成し、第1の層12の一部を配線パターン20の第2の層14の外に取り残す。 - 特許庁
To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents shape failure of circuit wiring of a fine pattern and generation of sludge, thereby to be able to form circuit wiring of a fine pattern not suffering from disconnection or short circuit.例文帳に追加
微細パターンの回路配線の形状不良及びスラッジの発生を防止することにより、断線やショート等がない微細パターンの回路配線を形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁
The primary conductive pattern P1 comprises a plurality of patterns 3's, each containing a signal pattern S and two ground patterns G's placed on both sides of S, which are extended along the lengthwise direction of the flexible flat cable 2.例文帳に追加
第1導体パターンP1は、絶縁シート2の長さ方向に延びる一つの信号パターンSと、その信号パターンSの両側に配置された二つのグランドパターンGとを組とするパターン群3を複数組備える。 - 特許庁
To provide metal nanoparticles and a photosensitive composition containing the particles with which a large-area film or a pattern can be easily formed, and to provide a method for forming a conductive pattern using the above photosensitive composition.例文帳に追加
大面積のフィルムまたはパターンを容易に形成することが可能な金属ナノ粒子およびこれを含む感光性組成物、ならびにその感光性組成物を用いる導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a molded article comprising a wood-based material-containing polyolefin-based resin and having a grain pattern, is which production has been difficult, and to provide a grain pattern- forming pigment master batch used therefor.例文帳に追加
従来、困難であるとされていた木目模様を有する木質系材料含有ポリオレフィン系樹脂からなる成形品の製造方法、及びそれに使用する木目形成顔料マスターバッチを提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming a conductive baked material pattern having sufficient conductivity after baking in the method of forming the conductive baked material pattern in an atmosphere by using a resin composition containing a base metal.例文帳に追加
卑金属を含む樹脂組成物を用いて大気中で導電性焼成物パターンを形成する方法において、焼成後に十分な導電性を有する焼成物パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁
Thus, a catalyst is absorbed by the silanol-group containing layer 4, in which the amount and distribution of the silanol group are controlled and electroless plating, is carried out by using a catalyst layer as a catalyst to form the metal pattern in the groove pattern.例文帳に追加
このようにして、シラノール基の量、分布が制御されたシラノール基含有層4に触媒が吸着され、触媒層を触媒として無電解メッキが行われて、溝パターン内に金属パターンが形成される。 - 特許庁
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