「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image processing technique that prevents a reduction in read rate of digital information in copies of subsequent generations, in copying or scanning a printed material having a specific format pattern (e.g., a barcode pattern) containing digital information.例文帳に追加

デジタル情報を含む特定形式パターン（バーコードパターン等）が印刷された印刷出力物をコピーないしスキャンするに際して、次の世代以降のコピー時におけるデジタル情報の読取率の低下を抑制することが可能な画像処理技術を提供する。 - 特許庁

A resist pattern 1 of a prescribed shape is formed on a mask substrate 3 with a formed chromium film 2 and subjected to a plasma treatment with a fluorine-containing gas and then the chromium film 2 is dry-etched using the resulting resist pattern 4 as a mask.例文帳に追加

クロム膜２が形成されたマスク基板３上に所定形状のレジストパターン１を形成し、レジストパターン１をフッ素系ガスを用いてプラズマ処理し、得られたレジストパターン４をマスクとして用いてクロム膜２をドライエッチングすることからなるクロムマスクの形成方法。 - 特許庁

The exposed resist film 202 is developed with a developing liquid 205, and the developed resist film 202 is rinsed with a rinsing liquid 206 containing cyclodextrin to obtain a miniaturized resist pattern 202a having no pattern collapse from the resist film 202.例文帳に追加

その後、パターン露光されたレジスト膜２０２に対して現像液２０５で現像を行ない、現像されたレジスト膜２０２をシクロデキストリンを含むリンス液２０６でリンスすることにより、レジスト膜２０２から、微細化され且つパターン倒れがないレジストパターン２０２ａを得る。 - 特許庁

After a GaN group compound semiconductor film 2 is formed on the surface of a substrate 1, an SiO2 pattern 3 is formed over it, then the pattern 3 is evaporated in an atmosphere containing hydrogen so that an anti- surfactant region (Si residue part 4) is selectively formed.例文帳に追加

基板１表面にＧａＮ系化合物半導体膜２を形成した後、ＳｉＯ２パターン３をその上に形成し、次いでこのパターン３を水素を含む雰囲気で蒸発させることによりアンチサーファクタント領域(Ｓｉ残留部４)を選択的に形成する。 - 特許庁

To provide a titanium black dispersion composition for a solid state imaging element, wherein the storage stability of a dispersion composition containing titanium black is high, and to provide a black radiation-sensitive composition, in which roughness is not generated on the upper face of the pattern and flatness is excellent when forming a pattern.例文帳に追加

チタンブラックを含む分散組成物の保存安定性の高い固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物、およびパターン形成したときに、パターン上面の荒れが発生せず、平坦性の良好な黒色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

In a device for carrying out pattern transfer by pressing a mold 101 having a formed pattern to the liquid or viscous matter 401 containing a stress luminescent material arranged on a substrate 104, the mold-release starting point is created by an actuator 102 provided in the device.例文帳に追加

パターンが形成されたモールド１０１を基板１０４上に配置された応力発光材料を含有した液体もしくは粘性体４０１に押しつけることでパターン転写を行う装置において内部に有したアクチュエータ１０２で離型開始点を作る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which avoids damaging a conductive pattern containing a metal material such as Cu wirings, etc. and a layer insulation film having the material buried therein, and removes a natural oxide film on the conductive pattern.例文帳に追加

Ｃｕ配線などの金属材料を含有する導電性パターンとこれを埋め込む層間絶縁膜に対してダメージを生じさせることなく、導電性パターン表面の自然酸化膜を除去することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

As a concrete example, the kraft paper 1 having the fibrous pattern is provided by containing waste kraft paper fibers 4, conifer pulp fibers and/or broad leaf tree pulp fibers 5 and the fibers 3 of the waste hemp bag as components, and having the fibrous pattern by the fibers 3 of the waste hemp bag on its surface.例文帳に追加

具体例として、切茶繊維４と、針葉樹パルプの繊維又は／及び広葉樹パルプの繊維５と、廃麻袋の繊維３を組成分として含有し、表面に該廃麻袋の繊維３による繊維模様を有する繊維模様付きクラフト紙１。 - 特許庁

To obtain an inorganic particle-containing resin composition capable of forming an inorganic particle-containing resin layer having excellent flexibility and transferability, causing neither deformation nor peeling in pattern of sintered compact formed through an etching process and baking process, a transfer film having the inorganic particle-containing resin layer and to provide a method for producing a PDP capable of forming a pattern having a high dimensional accuracy, having excellent workability.例文帳に追加

可撓性、転写性に優れ、エッチング工程および焼成工程を経て形成される焼結体のパターンに変形やはがれを生じさせることのない無機粒子含有樹脂層を形成することのできる無機粒子含有樹脂組成物、当該無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムを提供すること、および寸法精度が高いパターンを形成でき、作業性に優れたＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加

基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁

The production method of the circuit board contains the steps of forming a metal layer on one face or both faces of the substrate via an adhesive sheet containing fluoroplastic, forming a circuit pattern by etching the metal layer, and forming the circuit pattern to then re-adhere the circuit pattern by a thermocompression bonding process.例文帳に追加

本発明に係る回路基板の製造方法は、フッ素樹脂を含む接着シートを介して基材の片面または両面に金属層を形成する工程、金属層をエッチングすることにより回路パターンを形成する工程、および回路パターンを形成した後、熱圧着処理により回路パターンを再接着する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

When a pattern formed through a developing step by utilizing a photoresist composition containing a thermal acid generator is reheated, acid is generated from the thermal acid generator, as a result the photoresist composition causes a crosslinking reaction under the action of the acid and pattern width slimming due to SEM beams for CD measurement in SEM after pattern formation can be prevented.例文帳に追加

熱酸発生剤（thermal acid generator）を含むフォトレジスト組成物を利用することにより、現像工程を経て形成されたパターンを再び加熱することにより熱酸発生剤から酸が発生し、これからフォトレジスト組成物が架橋反応を引き起こし、パターン形成後ＳＥＭでＣＤ測定時にＳＥＭビームによりパターンの幅のが減少を防ぐことができる。 - 特許庁

The covering formation agent for the pattern minuteness used for forming the minute pattern by being coated on a substrate having the photoresist pattern contains: (a) water-soluble polymer; and (b) a carboxyl group-containing compound or its salt or at least one selected from an esterified matter, peroxide and peracid.例文帳に追加

本発明のパターン微細化用被覆形成剤は、ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、（ａ）水溶性ポリマーと、（ｂ）カルボキシル基含有化合物又はその塩類若しくはエステル化物、過酸化物、及び過酸の中から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 - 特許庁

A linear pattern layer 3 formed of a water-soluble ink is provided on the insulating board 1, a molybdenum-containing metal thin film 4 is formed on the whole surface of the board 1, the metal thin film 4 located on the pattern layer 3 is removed together with the pattern layer 3 by rinsing, and the metal thin film 4 is partially, linearly removed.例文帳に追加

絶縁性を有する基板１上に水溶性インキからなる線状のパターン層３を形成した後、少なくともモリブデンを含む金属薄膜４を全面的に形成し、次いで水洗を行ってパターン層３とともにパターン層３の上に位置する金属薄膜４を除去し、金属薄膜４の一部を線状に除去する。 - 特許庁

This method includes a step for forming, on a specified material layer 21, a photoresist pattern which exposes the part where the ions are implanted, a step for ion-implanting impurity elements into the specified material layer 21 with the photoresist pattern as an ion implantation barrier, and a step for stripping the photoresist pattern by using plasma of a mixed gas containing at least a hydrocarbon-based gas.例文帳に追加

所定の物質層２１上に、イオンを注入する部分を露出させたフォトレジストパターンを形成するステップと、フォトレジストパターンをイオン注入バリアとして、所定の物質層２１に不純物元素をイオン注入するステップと、少なくとも炭化水素系ガスを含む混合ガスのプラズマを用いて、フォトレジストパターンをストリップするステップとを含む。 - 特許庁

Containing rate of wiring is enhanced by forming an auxiliary wiring pattern 108 in a component surface region not pertaining to external connection of an electronic component 105 provided in a board, and connecting the auxiliary wiring pattern 108 electrically with wiring patterns of board 103, 102 thereby using the auxiliary wiring pattern 108 as the wiring patterns of board 103, 102.例文帳に追加

基板内部に設けた電子部品１０５の外部接続に関与しない部品表面領域に補助配線パターン１０８を形成し、この補助配線パターン１０８を、基板配線パターン１０３、１０２に電気的に接続することで、補助配線パターン１０８を基板配線パターン１０３、１０２の一部として用いて配線の収容率を高めた。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

The material can be manufactured by a method containing a process of forming a removable protruded pattern on the surface of a conductive base substrate, a process of forming an insulating layer made of DLC or inorganic material on the surface of the conductive base substrate on which the removable protruded pattern is formed, and a process of removing the protruded pattern to which the insulating layer is attached.例文帳に追加

これは、導電性基材の表面に、除去可能な凸状のパターンを形成する工程、除去可能な凸状のパターンが形成されている導電性基材の表面に、ＤＬＣ又は無機材料からなる絶縁層を形成する工程及び絶縁層が付着している凸状のパターンを除去する工程を含む方法により製造できる。 - 特許庁

The plastic molded body is formed by heating compression molding so that it has a functional coating layer 1, a fiber containing resin layer 2, a pattern layer 3 and a base layer 4 in this sequence from the surface side thereof.例文帳に追加

プラスチック成形体の表面側から、機能性塗料層１、繊維含有樹脂層２、模様層３、基材層４の順に有するように加熱圧縮成形により形成する。 - 特許庁

Thereafter, the unwanted oxidation of the polysilicon film 11 is suppressed by means of the impurity-element containing layer 18 at the growing and forming of the element isolation oxide film by forming the pattern of a silicon nitride film 12.例文帳に追加

この後、窒化シリコン膜１２パターンを形成して、熱処理による素子分離酸化膜の成長形成時に、高濃度不純物元素含有層１８によって不要な酸化を抑制する。 - 特許庁

A silicon wafer 2 is bonded on the inner face of the form 101 by a bonding agent containing silicon, and a given recessed and projected pattern is formed on the surface of the base 1 on a bottom section.例文帳に追加

型枠１０１の内面には、シリコンウエハ２がシリコン含有の接着剤により接着されており、底部の基材１の表面には所定の凹凸パターンが形成されている。 - 特許庁

The translucent conductor 1 is provided with a translucent conductor layer 20 containing a conductive polymer on a supporting body 30 and a metal conductor portion 10 provided in a shape of a fine line pattern.例文帳に追加

透光性導電体１は、支持体３０上に、導電性ポリマーを含有する透光性導電層２０と、細線パターン状に設けられた金属導電部１０とを備えている。 - 特許庁

To provide a new high molecular compound as a substrate component of a resist composition, a monomer thereof, a resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Of the supporting structure 10, a section containing the wiring pattern is provided with portions 12, 13, 14, 15, 16, etc., formed in non-planar shapes so as to reduce the arranging space of circuit parts 44.例文帳に追加

支持構造体１０のうち配線パターンを含む部分は、回路部品の配設スペースを低減させるように、非平面的形状を有する部分１２、１３、１４、１６等を備え得る。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and less liable to shrink after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない無機粒子含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a planer heater equipped with a surface member containing a coloring layer which does not generate wrinkles and cracks in a pattern, even if elastic deformation is generated in a local portion of the planer heater, or the planer heater is folded.例文帳に追加

弾性変形、もしくは折り畳むことがあったとしても、模様に皺や割れを生じさせることがない染色層を含む表面材を備えた面状採暖具を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high precision pattern and excellent in thermal decomposability of an organic component and a sensitive film obtained from the composition.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができ、かつ有機成分の熱分解性に優れた無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

A part of a light-shielding pattern containing a conductive material on a photomask substrate is made to act as an antenna for an RFID tag, and an IC chip for the RFID tag is electrically connected to the antenna.例文帳に追加

フォトマスク基板上の導電性材料を含む遮光パターンの一部をＲＦＩＤタグ用のアンテナとし、該アンテナにＲＦＩＤタグ用のＩＣチップを電気的に接続する。 - 特許庁

A composition containing an alkali-soluble resin, an acid generator, a crosslinking agent and a barrier rib pattern shape control agent is used as the resist composition for forming barrier ribs of an EL display device, etc.例文帳に追加

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、架橋剤、および隔壁パターン形状制御剤を含有する組成物をＥＬ表示素子等の隔壁形成用レジスト組成物として用いる。 - 特許庁

A pattern-shaped light reflecting layer, a transparent cushion layer having a rubber elasticity and an image receiving layer, containing fine glass particles having a high refractive index, as well as a thermoplastic resin, are formed on a substrate.例文帳に追加

基材上に、パターン状の光反射層、ゴム弾性を有する透明クッション層、及び高屈折率を有するガラス微粒子と熱可塑性樹脂を含む受像層を形成する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern.例文帳に追加

樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁

To provide a compound enabling utilization for a resist composition and a positive resist composition containing the compound and to provide a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用としての利用が可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR RESIST, RESIN FOR RESIST PRODUCED BY THE PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN FOR THE RESIST, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト用樹脂の製造方法、この製造方法により製造されたレジスト用樹脂、該レジスト用樹脂を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターンの形成方法 - 特許庁

At least a part of the topsheet is provided with an effective amount of lotion composition containing emollient agent and immobilizing agent, and the lotion composition is applied to the topsheet with an inhomogeneous pattern.例文帳に追加

該トップシートの少なくとも一部は、エモリエント剤と固定化剤を含む有効量のローション組成物を備えており、該ローション組成物は、非均一パターンで該トップシートに適用されている。 - 特許庁

A presser foot container 3 for containing five kinds of presser feet 13 appropriately used in accordance with a pattern to be sewn is provided integrally with an auxiliary table 23 attached to a sewing machine bed.例文帳に追加

ミシンベッドに装着される補助テーブル２３に、縫製する模様に応じて使い分けられる５種類の押え足１３を収納する押え足収納装置３を一体的に組込む。 - 特許庁

A method for providing a conductive pattern material includes a step of exposing to light and developing a photosensitive material having a silver salt containing layer, and subjecting the photosensitive material further to physical development and/or plating treatment.例文帳に追加

銀塩含有層を有する感光材料を露光し現像し、更に物理現像および／またはメッキ処理を行う工程を含むことを特徴とする導電性パターン材料。 - 特許庁

The monitoring and control transmission data display device 3 then displays a portion containing the same constitution as a data pattern, from the time-sequentially arranged analysis target data, as a transmitting/receiving sequence.例文帳に追加

そして、監視制御伝送データ表示装置３は、時系列的に配置された解析対象データから、データパターンと同じ構成を含む部分を、送受信シーケンスとして表示する。 - 特許庁

To provide an alkali soluble resin containing cyclic silicone resin, which gives a photosensitive resin composition excellent in weather resistance, light resistance, heat resistance, etc., and can form a fine pattern.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性等に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を得ることができる、環状シリコーン樹脂を含んだアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the conductive film containing a conductive fiber and a polymer, the method includes a dissolution liquid applying step for applying dissolution liquid to the conductive film in pattern shape.例文帳に追加

導電性繊維及びポリマーを含有する導電膜を製造する方法であって、導電膜に溶解液をパターン状に付与する溶解液付与工程を含む導電膜の製造方法。 - 特許庁

The optical axes of the plurality of laser subassemblies are arranged in a radial pattern with the predetermined position as a center, in the plane containing the fast axis of the semiconductor laser light source of the plurality of laser subassemblies.例文帳に追加

該複数のレーザ・サブアセンブリの光軸は、該複数のレーザ・サブアセンブリの半導体レーザ光源の速軸を含む面内において、該所定の位置を中心として放射状に配置されている。 - 特許庁

The metal-containing film such as a decoration film, an electrode and a wiring pattern can be produced by printing or coating the metal ink on a substrate before heat-treating it at a temperature of ≤200°C.例文帳に追加

前記の金属インキを基材に印刷又は塗装した後、２００℃以下の温度で加熱処理して、装飾膜、電極、配線パターン等の金属含有膜を製造することができる。 - 特許庁

In this colored coated plate, a surface layer coating film 4 containing pigment and photocatalytic particles 5 is formed on the surface of a substrate 1 via a colored pattern layer 2 and an inorganic clear coated film 3.例文帳に追加

基材１の表面に着色模様層２，無機クリア塗膜３を介して色素，光触媒粒子５を含む表層塗膜４が形成された着色塗装板である。 - 特許庁

This decorative sheet is laminated with a base material, a pattern layer, and a surface protection layer containing a matting agent and a sodium calcium aluminosilicate particle in a curable type resin composition, in this order.例文帳に追加

化粧シートを、基材と、絵柄層と、硬化型樹脂組成物中にマット剤とソジウムカルシウムアルミノシリケート粒子を含有してなる表面保護層と、をこの順で積層して構成する。 - 特許庁

To provide a standard cell integrated circuit containing a circuit cell of a pattern hard to vary in transistor characteristics and capable of improving the degree of freedom of wiring without increasing the number of layers of metal wiring.例文帳に追加

メタル配線のレイヤ数を増やすことなく配線の自由度を高くでき、かつ、トランジスタ特性がばらつき難いパターンの回路セルを有するスタンダードセル集積回路を提供する。 - 特許庁

A network structure of carbon nanotube and/or carbon nanofiber is used as a lost pattern mold and metal-containing net-like structure 4 formed on the outside surface of the mold is provided on the surface of a base material 2.例文帳に追加

基材２表面に、カーボンナノチューブ及び／又はカーボンナノファイバーの網目構造を消失性鋳型とし該鋳型の表面の外側に形成された含金属網目構造４を有する。 - 特許庁