「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polymer compound capable of constituting a positive type resist pattern having excellent resolution and capable of favorably resolving a resist pattern even by using an acid generating agent having weak strength of an acid generated, a compound suitable for producing the polymer compound and a positive type resist composition containing the polymer compound and to provide a method for forming resist pattern by using the positive type resist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this case, any of the types of variation patterns of many kinds containing the type of variation pattern is determined according to the specified performance ("slipping" or "pseudo successive" performance) to match the possible determination of loss.例文帳に追加

この場合、はずれと決定したことに対応して、特定演出（「滑り」や「擬似連」の演出）に対応する変動パターン種別を含む複数種類の変動パターン種別のいずれかに決定する。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing metal ultrafine particles capable of exhibiting high electrical conductivity without being heated even when the pattern of a thick film is formed, and to provide a composition containing metal ultrafine particles.例文帳に追加

厚膜のパターンを形成した際にも、加熱する事なく高い導電性を発現させる事が可能な金属超微粒子の製造方法、および金属超微粒子含有組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular pattern and ensuring less residue in an unexposed portion, and provide a color filter using the curable composition, and a method for producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少ない染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for a resist composition, the acid generator comprising the compound, the resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a plasma processing method that decreases pattern difference and that performs uniform processings, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device using the same, in a multilayered film containing a number of films having different gas permeabilities.例文帳に追加

ガス透過性が異なる膜を含む多層膜において、パターン差を低減し均一な加工を行うプラズマ処理方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for liquid immersion lithography, a resist pattern forming method using the resist composition, and a fluorine-containing polymer compound useful as an additive used in the resist composition.例文帳に追加

液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a new compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator consisting of the compound, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用で新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a dissolution inhibitor having a specific structure for improving sensitivity of negative radiation sensitive compositions, a radiation sensitive composition containing the same, and a method of forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物の感度を向上させる、特定構造を有する溶解抑止剤、これを含む感放射線性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive laminate capable of preventing footing on the boundary between a layer containing an atom having a lone electron-pair and a resist layer when a resist pattern is formed on the former layer.例文帳に追加

孤立電子対をもつ原子を含む層の上にレジストパターンを形成する際に、これらの層とレジスト層との境界におけるフッティングの発生を防止しうる感光性積層体の提供。 - 特許庁

To provide a reflection mirror antenna capable of correctly measuring intercoupling between radiation elements and an excitation coefficient containing the distortion of the surface of the reflection mirror, and reducing deterioration in radiation pattern.例文帳に追加

放射素子間の相互結合や、反射鏡面の歪みを含んだ励振係数を正確に測定でき、放射パターンの劣化を低減することができる反射鏡アンテナを提供することを目的とする。 - 特許庁

The transmission type screen is manufactured by using a light diffusing substrate consisting of (A) a lenticular lens substrate prepared by using at least a material containing no UV absorbent, (B) a light shielding pattern and (C) a diffusing plate.例文帳に追加

少なくとも紫外線吸収剤を含まない素材を用いた（Ａ）レンチキュラーレンズ基板、（Ｂ）遮光パターン及び（Ｃ）拡散板からなる光拡散性基板を用いて透過型スクリーンを製造する。 - 特許庁

Using wax-containing toner, a prescribed image pattern is formed at the margin of the leading end as the non-image forming region of photomedia, thus occurrence of a separation defect in a fixing device is prevented.例文帳に追加

フォトメディアの非画像形成領域である先端余白に、ワックス成分を含有したトナーを用いて所定の画像パターンを形成することで、定着装置での分離不良の発生を防止する。 - 特許庁

The projected and recessed pattern 7 is formed by etching glass for etching containing 3 to 20wt.% vanadium pentoxide to base glass composing the covered glass layer 3, and performing firing under heating at 850 to 950°C.例文帳に追加

凹凸パターン７は、被覆ガラス層３を構成する基礎ガラスに、五酸化バナジウムを３〜２０ｗｔ％含むエッチング用ガラスをエッチングし、８５０〜９５０℃の温度で加熱焼成して形成してある。 - 特許庁

The pigment dispersion composition containing the processed pigment has a satisfactory dispersion state, and is used together with an ethylenic unsaturated compound and a photopolymerization initiator as a colored pattern forming composition.例文帳に追加

該加工顔料を含有する顔料分散組成物は良好な分散状態を有し、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤と共に着色パターン形成性組成物として用いられる。 - 特許庁

The repair of the lack of the wiring pattern is carried out by introducing gas for repair containing packing materials to the inside of the local vacuum mirror cylinder, and adhering packing materials to the lacking section cooperatively with the convergence ion beam.例文帳に追加

配線パターンの欠落の補修には、局部的真空鏡筒の内部に補填材料を含むリペア用ガスを導入し、集束イオンビームとの協働で、欠落部に補填材料を付着させる。 - 特許庁

To provide a silicon containing positive type resist composition suitable for being exposed with a KrF excimer laser and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

感光性レジスト組成物及びパターン形成方法に関し、ＫｒＦエキシマ・レーザで露光するのに適したＳｉ含有ポジ型感光性レジスト組成物とそのレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR RESIST PRODUCED BY THE SAME PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME RESIN FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物用樹脂の製造方法、この製造方法により製造されたレジスト用樹脂、該レジスト用樹脂を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition containing a dye polymer, the composition having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, causing little color migration, and allowing formation of a cured film with good pattern formability.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る色素多量体を含む着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The executing method of the meshlike pattern coating film layer is by sticking a meshlike structural material 5 onto a base material 1 and applying an inorganic coating film layer 7 containing active silica, cement and resin emulsion.例文帳に追加

基材１上に網目状構造材５を固着し、次いで活性シリカ、セメント及び樹脂エマルジョンを含有する無機系塗膜層７を施工する網目模様塗膜層の施工方法とする。 - 特許庁

Analysis of document images containing positionally encoded information, such as a maze-pattern watermark, and labeling the images based on a degree to which the document's content, such as text, covers the position-encoding information are carried out.例文帳に追加

迷路パターン透かしなどの位置エンコードされた情報を含む文書画像の分析と、テキストなどの文書の内容が位置エンコーディング情報を覆う程度に基づいて画像にラベル付けを行う。 - 特許庁

In the moving image encoding apparatus 1, a conversion part 8 converts a predictive residual image into atom information containing an index information to a basis, a coefficient and position information for specifying a position to restore a pattern.例文帳に追加

動画像符号化装置１では、変換部８が予測残差画像を基底へのインデックス情報と、係数と、パターンを復元する位置を特定する位置情報とを含むアトム情報に変換する。 - 特許庁

At least a part of the top sheet 520 is provided with an effective amount of the lotion composition containing an emollient and an immobilizing agent, and the lotion composition is applied to the top sheet 520 in a non-uniformity pattern.例文帳に追加

該トップシート５２０の少なくとも一部は、エモリエント剤と固定化剤を含む有効量のローション組成物を備えており、該ローション組成物は、非均一パターンで該トップシート５２０に適用されている。 - 特許庁

To provide a processing system which uses a diffraction grating pattern and an s-image, containing a submicroscopic holographic and a diffraction grating of other form for security in a document, a credit card and a package.例文帳に追加

文書、クレジットカード及びパッケージにおける、セキュリティ目的の超顕微鏡的、ホログラフィック及び他の形態の回折格子を含む回折格子パターン及びｓイメージを使用する処理システムを提供する。 - 特許庁

Since the exposed part of the wiring pattern 30, composed of conductor resin containing silver particles, is covered with the coated conductor 40 principally composed of carbon, moisture absorption resistance and water resistance can be enhanced.例文帳に追加

この構成により、銀粒子を含む導電体樹脂からなる配線パターン３０の露出部がカーボンを主体とする被覆導体４０で覆われるため、耐湿性および耐水性を向上できる。 - 特許庁

To increase the forming speed of recesses and projections when information is recorded by irradiating a thin film of a polymer compound containing an azobenzene structure with light to form a pattern of recesses and projections on the surface.例文帳に追加

アゾベンゼン構造を含む高分子化合物の薄膜に光照射して、表面に凹凸パターンを形成させて情報記録を行う際に、凹凸の形成速度を高速化することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a printed wiring board is used to immerse a substrate having a copper pattern in an activator containing hydrazine or its derivative and nickel ions, and to apply nonelectrolytic metal plating thereafter.例文帳に追加

銅パターンを有する基板を、ヒドラジンまたはその誘導体およびニッケルイオンを含有する活性化剤に浸漬した後、無電解金属めっき処理を行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

A magnetic layer 51 containing at least one kind of elements selected from a group including iron, cobalt and nickel and a mask pattern 52 exposing the etching area 51E of the magnetic layer 51 are formed on a substrate S.例文帳に追加

基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層５１と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。 - 特許庁

An electrode pattern is drawn by irradiation with a laser on the glass substrate subjected to film formation with a paste composition, containing silver oxide powder and low melting point glass powder and the silver powder, is fired to the substrate.例文帳に追加

酸化銀粉末及び低融点ガラス粉末を含有するペースト組成物で製膜されたガラス基板上にレーザー照射により電極パターンを描画して銀粉末を基板に焼付ける。 - 特許庁

A gas having an improved etch selectivity containing a carbon fluoride, an oxygen and hydrocarbon fluoride is employed to suppress the etching of the silicon oxide film 21 and to remove the exposed silicon nitride pattern 25.例文帳に追加

フッ化炭素、酸素およびフッ化炭化水素を含むエッチング選択比を高めたガスを用いることによりシリコン酸化膜２１のエッチングを抑制しつゝ露出した窒化シリコンパターン２５を除去する。 - 特許庁

The liquid for the liquid immersion lithography process containing a crown compound is used, so that the excellent resist-pattern is formed in the liquid immersion lithography process with the use of the UV light of not more than 200 nm.例文帳に追加

クラウン化合物を含有してなる液浸露光プロセス用液体を使用することにより、200nm以下の紫外光を用いた液浸露光プロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成できる。 - 特許庁

To provide a conductive material excellent in conductivity and adhesiveness; an inkjet ink containing the same; and a transparent conductive film having a conductive metal pattern formed by using the ink.例文帳に追加

導電性及び接着性に優れた導電材料、それを含有するインクジェットインク、及びそのインクを用いて形成された導電性金属パターンを有する透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁

To suppress occurrence of damages to a photoreceptor, and to prevent generation of toner filming, in an image forming apparatus for forming a circuit pattern on a substrate by an electrophotographic system which uses toner containing metal particles.例文帳に追加

金属粒子を含むトナーを用いて基板上に回路パターンを電子写真方式により形成する画像形成装置において、感光体上の傷の発生を抑え、トナーフィルミングの発生を防ぐ。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.例文帳に追加

基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が１ｎｍ以上１０ｎｍ未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁

Then second etching treatment is performed for removing the areas of the semiconductor layer 14A under the openings of the mask pattern 15 by using second etching gas containing more bromine than chlorine.例文帳に追加

その後、塩素と比べて臭素の割合が大きい第２のエッチングガスを用いて半導体層１４Ａにおけるマスクパターン１５の開口部の下方の領域を除去する第２のエッチング処理を行なう。 - 特許庁

A polyamide acid solution containing metal ions is applied to the mold having an uneven pattern and is dried to form a polyamide acid layer, which in turn is released from the mold to obtain a polyamide acid film having an uneven surface.例文帳に追加

凹凸パターンを有する鋳型に、金属イオン含有ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。 - 特許庁

To obtain a polyhydroxyalkanoate containing a monomer unit having a cyclohexyloxy structure in a side chain, useful as a device material, a medicinal material and the like, and provide a binder resin for charge pattern development toners.例文帳に追加

デバイス材料や医用材料等として有用な、シクロヘキシルオキシ構造を側鎖に有するモノマーユニットを含むポリヒドロキシアルカノエート及びそれを用いた静電荷像現像トナー用バインダー樹脂を提供する。 - 特許庁

Next, a plasma treatment is carried out using a treatment gas containing either hydrogen, nitrogen, or oxygen to delaminate the resist pattern 208 and remove impurities mixed in a surface layer of Cu.例文帳に追加

続いて、水素、窒素または酸素のいずれかの元素を含む処理ガスを用いプラズマ処理を行ない、レジストパターン２０８を剥離すると同時に、Ｃｕの表層に混入している不純物を除去する。 - 特許庁

The surface treatment method comprises bringing a resist pattern formed from a resin containing a specific lactone structure and a compound having two or more nucleophilic functional groups per molecule into a solid phase-gas phase reaction.例文帳に追加

特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 - 特許庁

To faithfully and stably impart an embossing pattern to a front surface of a polymer without impairing a drape of the sheet constituted on the front surface of the polymer containing an elastic polymer as a main body.例文帳に追加

弾性重合体を主体とした重合体で表面が構成されたシートを該シートの風合を損ねることなく、該重合体表面にエンボス模様を忠実かつ安定的に付与する。 - 特許庁

To provide: a polymeric compound useful as a base component of a resist composition; a positive resist composition containing the efficiently; and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁