「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for forming an superfine pattern by using an irregular reflection preventing film containing an acid generator, an organic irregular reflection preventing film with addition of an excess amount of an acid generator is used so that a pattern having a vertical profile can be obtained even when a photoresist resin having rather high absorbance for the light from the light source is used.例文帳に追加

本発明は、酸発生剤を含む乱反射防止膜を利用した超微細パターンの形成方法に関し、過量の酸発生剤を添加した有機乱反射防止膜を用いることにより、光源に対する吸光度が多少高めのフォトレジスト樹脂を用いるとしても垂直のパターンを得ることができるパターンの形成方法に関する。 - 特許庁

This method of forming the microstructure includes a process to form a light shielding mask pattern 11 for shielding light with a prescribed wavelength on the surface of a substrate 7 containing a material which emits light when light having prescribed energy is irradiated to it, and a process to apply a photo-polymerizable photo-polymerization material 9 to the top face of the substrate 7 on which the light shielding mask pattern 11 is formed.例文帳に追加

所定のエネルギを有する光が照射されることにより発光する材料を含む基板７の表面に、所定の波長の光を遮光する遮光マスクパターン１１を形成する工程と、遮光マスクパターン１１が形成された基板７の上面に、光重合性を有する光重合材料９を塗布する工程とを備える。 - 特許庁

In the method for forming the printed wiring board, a pattern is drawn on a substrate with a dispersion liquid containing fine particles of a metal oxide or a metal hydroxide and then at least a part of the fine particles of metal oxide or metal hydroxide is reduced to a metal by energy irradiation, thereby a conductive pattern is formed.例文帳に追加

金属酸化物又は金属水酸化物の微粒子を含有する分散液を、基板上にパターン状に描画した後に、エネルギー照射により前記金属酸化物又は金属水酸化物の微粒子の少なくとも一部を金属に還元して導電パターンを形成することを特徴とするプリント配線基板の形成方法。 - 特許庁

A black layer 34 with a thickness of 1 to 5 μm is formed on the entire surface of transparent glass 30A by coating and drying black ink containing a reaction curing resin, and silver ink containing a curing agent and a reaction curing resin similar to that of the black ink is screen-printed on the black layer 34 to form the pattern of the conductive layer 35.例文帳に追加

透明ガラス３０Ａの全表面に、反応硬化性樹脂を含有する黒色インクを塗布乾燥させて厚さ１〜５μｍの黒色層３４を形成し、黒色層３４上に、黒色インクの反応硬化性樹脂と同様の反応硬化性樹脂と硬化剤とを含有する銀インクをスクリーン印刷して導電層３５をパターン形成する。 - 特許庁

The manufacturing process of this lens comprises a process of forming a pattern on a supporting body by a difference in wettability, a process of adhering a liquid containing a material for forming a lens 2 on the part having a specific wettability on the surface of the supporting body 1, and a process of forming the lens by curing the liquid containing the material for forming the lens 2.例文帳に追加

支持体の表面に濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記支持体表面の特定の濡れ性を有する部位にレンズを形成するための材料を含む液体を付着させる工程と、前記レンズを形成するための材料を含む液体を硬化させてレンズを形成する工程とを含むレンズの製造方法。 - 特許庁

A color filter 10 is manufactured by using a colored pattern containing any one of a diketopyrrolopyrrole pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, a triarylmethane dye and an azo dye, a protective film formed of a radiation-sensitive resin composition containing an alkali-soluble resin and a compound expressed by the formula (1) or the formula (2), and a spacer.例文帳に追加

ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の内の何れかを含む着色パターンと、アルカリ可溶性樹脂並びに下式（１）または下式（２）の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜とスペーサとを用いてカラーフィルタ１０を製造する。 - 特許庁

In the transparent electromagnetic wave shielding film composed by performing exposure to a photosensitive material having a silver halide emulsion containing layer containing at least photosensitive silver halide and a binder on a support, performing development processing and intensification processing, and forming a conductive metal pattern, a protective layer is formed after the intensification processing.例文帳に追加

支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーを含有するハロゲン化銀乳剤含有層を有する感光材料に露光後、現像処理及び補力処理を行い、導電性金属パターンを形成してなる透明電磁波遮蔽フィルムにおいて、補力処理後に保護層を形成することを特徴とする透明電磁波遮蔽フィルム。 - 特許庁

A pattern layer 5 having a conductor element, a loss layer 4 containing at least one of a magnetic loss material and a dielectric loss material, and a dielectric layer 3 containing a dielectric material, are stacked one by one in this order, and the dielectric material has a density of less than 1.0 g/cm^3.例文帳に追加

導体素子を有するパターン層５と、磁性損失材および誘電損失材の少なくともいずれか一方の材料を含んで構成される損失層４と、誘電体材料を含んで構成される誘電体層３とが、この順に少なくとも１層ずつ積層され、誘電体材料は、密度が１．０ｇ／ｃｍ^３未満である。 - 特許庁

A pigment dispersion composition containing at least (A) a resin pendanted with a nitrogen-containing heterocycle and an ethylenic unsaturated double bond on the main skeleton, (B) a pigment and (C) a solvent, a curable composition using the pigment dispersion composition, the curable composition, a color filter having colored pattern formed with the curable composition, and a production method of the color filter, are provided.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）主鎖骨格に含窒素ヘテロ環及びエチレン性不飽和二重結合がペンダントされた樹脂と（Ｂ）顔料と（Ｃ）溶剤とを含有する顔料分散組成物並びにこれを用いた硬化性組成物、該硬化性組成物、該硬化性組成物により形成された着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルタ、及びその製造方法。 - 特許庁

This invention employs the following means for this minute ball arrangement device which drops and arranges the minute balls in the ball insertion parts by moving the ball containing part with the multiple minute balls contained therein along the upper surface of an arrangement part having a region where the ball insertion parts each capable of containing one of the minute balls therein are formed in a predetermined arrangement pattern.例文帳に追加

本発明は、１つの微小ボールを収容可能なボール挿入部が所定の配列パターンに形成された領域を有する配列部の上面に沿って、多数の微小ボールを収容したボール収容部を移動することによって、前記ボール挿入部に微小ボールを落とし込んで配列する微小ボール配列装置に次の手段を採用する。 - 特許庁

The resin composition for forming a fine pattern contains a resin containing a hydroxyl group, a crosslinking component, and an alcohol-based solvent containing alcohol and water by 10 wt.% or less of the whole solvent, wherein the resin composition contains a compound having two or more epoxy groups in the molecule as the crosslinking component.例文帳に追加

水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にエポキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物。 - 特許庁

A delay time calculation error between the timing design process 103 and the timing validation process 104 is calculated, and a minimum wiring width specified in a design rule is added, with a wide part containing the delay time calculation error, to generate a wiring pattern.例文帳に追加

タイミング設計工程１０３およびタイミング検証工程１０４間の遅延時間計算誤差を算出し、設計ルールで規定された最小配線幅に、前記遅延時間計算誤差を包含する幅広部分を加えた配線パターンを作成する。 - 特許庁

When chinaware is produced by means of an electric furnace and a gas-firing furnace, unglazed pottery glazed pottery is preliminarily treated with naturally occurring sulfur-containing geothermal steam before the great firing step whereby the objective ombre-like pattern can be simply allowed to emerge.例文帳に追加

電気窯およびガス窯を用いて陶磁器を製造する時、素焼きおよび釉薬を掛けた後の本焼きの前処理として、天然の含硫黄地熱蒸気を作用させることにより、簡単にまだらなボカシ模様を出現させることができる。 - 特許庁

The information on each of two or more positions established by an user so that the test pattern composed of the record at an outward trip scan and the record at a return trip scan is recorded in each of two or more positions containing a recess and projection of the recording medium.例文帳に追加

往路走査での記録と復路走査での記録とにより構成されるテストパターンを記録媒体の凹部と凸部とを含む２つ以上の各位置に記録するようユーザが設定した前記２つ以上の各位置の情報を受け付ける。 - 特許庁

In the decorative sheet in which coated paper having a coat layer containing an inorganic filler as a main component at least on one side is laminated on a base material for wall paper, an uneven pattern is formed on the coated paper.例文帳に追加

壁紙用基材と、少なくとも一方の面に無機充填剤を主体とする塗工層が設けられた塗工紙とを積層した化粧シートにおいて、前記塗工紙に少なくとも凹凸模様が形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter for an image sensor by which a pixel constituted in an approximately rectangular form and having a preferable cross-sectional pattern profile can be obtained and deformation of a dye-containing pixel can be effectively prevented even when post-baking or the like is carried out.例文帳に追加

略矩形に構成されて断面パターンプロファイルの良好な画素を得ることができ、ポストベーク等を行なった場合でも染料含有の画素の変形を効果的に防止し得るイメージセンサ用カラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide electronic components capable of coping with the mounting of a lead free solder, and of securing workability and joint reliability, and to provide a component containing board, capable of interlayer electrical connection with higher reliability and of coping with making the pitch of a wiring pattern finer.例文帳に追加

無鉛はんだ実装に対応でき、作業性および接合信頼性を確保できる電子部品、および、層間の電気的接続を信頼性高く行うことができ、配線パターンのファインピッチ化にも対応する部品内蔵基板を提供すること。 - 特許庁

In a screen printing plate composed of at least a plate frame, gauze, and an emulsion forming a printing pattern, the screen printing plate is characterized by forming a protective film containing an inorganic compound on the print side surface of the emulsion.例文帳に追加

少なくとも版枠と紗と印刷パターンを形成する乳剤とから構成されるスクリーン印刷版において、前記乳剤の被印刷物側の表面に、無機化合物を含む保護膜を形成したことを特徴とするスクリーン印刷版。 - 特許庁

In the solvent for removing the protective film laminated on a photoresist film, the method for forming the photoresist pattern uses the solvent for removing the protective film, containing at least hydrofluoro ether and uses the solvent for removing the protective film for a liquid immersion lithography process.例文帳に追加

ホトレジスト膜上に積層された保護膜を除去するための溶剤であって、少なくともハイドロフルオロエーテルを含有する保護膜除去用溶剤、および該保護膜除去用溶剤を液浸露光プロセスに用いたホトレジストパターン形成方法。 - 特許庁

According to the method of manufacturing the metal mask, a metal mask flat having the opening for cream solder printing for a wiring pattern, is subjected to intermittent electro-polishing, and thereafter at least a wall surface of the opening formed in the metal mask flat is coated with a metal plating film containing fluorocarbon resin particulates.例文帳に追加

配線パターンのクリームはんだ印刷用の開口部が設けられたメタルマスク原板に、間歇電解研磨処理を施した後、該メタルマスク原板の少なくとも開口部壁面をフッ素樹脂微粒子を含有する金属メッキ皮膜で被覆する。 - 特許庁

A front layer of a side face and an upper surface of the resist pattern is etched by a plasma of a mixture gas containing at least one first gas selected from the group consisting of He, Ne, Ar, Xe, Kr, CO, CO_2 and N_2, and an SO_2 gas.例文帳に追加

Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ、ＣＯ、ＣＯ_２、及びＮ_２からなる群より選択された少なくとも１つの第１のガスとＳＯ_２ガスとを含む混合ガスのプラズマにより、レジストパターンの側面及び上面の表層部をエッチングする。 - 特許庁

The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁

To provide a metallized polyimide film without containing factors giving a large effect to insulation property such as a sulfate ion, etc., usable for a flexible printed circuit having a fine wiring pattern and dealing with the requirements of downsizing, reduced weight and wiring in a high density of instruments.例文帳に追加

硫酸イオンなど絶縁性に大きな影響を及ぼす因子を含まない機器の小型化、軽量化、高密度配線化に対応し得る配線パターンが微細化したフレキシブルプリント配線板などに使用し得る金属化ポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a module capable of anticipating failure of a circuit board containing a junction part of an active element by detecting such fractures, corresponding to, for example, a junction part of a bonding material for connecting the active element and a circuit pattern, as caused by Kirkendall voids and electromigration.例文帳に追加

カーケンダルボイドやエレクトロマグレーションよる例えば能動素子と回路パターンを接続する接合材の接合部に対応する破断を検出して能動素子の接合部を含む回路基板の故障を予兆することが可能なモジュールを提供する。 - 特許庁

At least a part of the diffusion error obtained by weighting the error of the pixels determined as the nucleus pattern of the peripheral pixels with the error diffusion coefficient is not contained in the correction value, and is allocated to the adjacent pixels of the attended pixel containing the attended pixel.例文帳に追加

周辺の画素のうち核パターンに決定された画素の誤差を誤差拡散係数で重み付けして得られる拡散誤差の少なくとも一部は、補正値に含められず、注目画素を含む注目画素の近傍の画素に割り当てられる。 - 特許庁

The chemical amplification type resist material 3 containing a base resin, a photo-acid generating agent and a cationic polyelectrolyte is applied on a substrate 1, heat-treated and developed with an aqueous alkali solution to form a positive type resist pattern 5.例文帳に追加

ベース樹脂、光酸発生剤、及びカチオン性高分子電解質を含有してなる化学増幅型レジスト材料３を基板１上に塗布し、熱処理を行った後、アルカリ水溶液により現像を行い、ポジ型のレジストパターン５を形成する。 - 特許庁

Since almost all of difference in potential between an upper electrode 2 and the lower electrode 3 is borne by the dielectric body 42, an electric damage to a semiconductor element containing element capacity such as a MOS transistor contained in the circuit pattern is reduced that much.例文帳に追加

上部電極部２と下部電極部３の間の電位差のかなりの部分は誘電体４２に負担されるので、回路パターンに含まれるＭＯＳトランジスタなどの素子容量を有する半導体素子が受ける電気的ダメージはそれだけ軽減される。 - 特許庁

At least one gas of a group configured of gas containing reducing fluoride gas, halogen gas, and oxygen is used, and the substrate is heated at 70°C to 450°C, and the amorphous carbon film in an area which is not covered with any resist pattern is removed by dry etching.例文帳に追加

還元性フッ化物ガス、ハロゲンガス及び酸素を含むガスからなる群のうち少なくとも一つのガスを使用し、基板を７０℃〜４５０℃の加熱して、レジストパターンで覆われていない領域のアモルファスカーボン膜を、ドライエッチングで除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing an amine imide as a photobase generating agent which efficiently generates an enough strong base even with low exposure, together with a polyoxazole precursor, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a resist pattern 10 and an organic antireflective film 9 are removed by ashing processing, damage is suppressed by using gas of only water or mixed gas containing water as ashing gas even if a portion of the interwire insulating film 4 is exposed.例文帳に追加

レジストパターン１０及び有機反射防止膜９をアッシング処理して除去する際に、配線間絶縁膜４の一部が露出していても、水の単独ガス又は水を含有する混合ガスをアッシングガスとして用いることでダメージを抑止する。 - 特許庁

To provide a dyestuff-containing curable composition which is suitable for yellow color and for green or blue color by combining it with a dyestuff of other color, and which is excellent in solubility in solvent, heat-resistance, lightfastness and pattern formability.例文帳に追加

イエロー色用として、及び他色染料との組合せによるグリーン色やブルー色の調整に好適であって、溶剤溶解性が良好で耐熱性、耐光性及びパターン形成性に優れた染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A pattern layer comprising a polyurethane resin for adding 25-35 wt.% far infrared-radiating ceramic powder having ≤ about 5 μm average particle diameter, and an adhesive layer containing a thermoplastic polyurethane- based resin on a base sheet having a parting layer formed thereon.例文帳に追加

離型層を形成したベースシートの上に、平均粒径が約５μｍ以下の遠赤外線放射性のセラミックス粉末を２５〜３５重量％添加するポリウレタン系樹脂を含む図形層と、熱可塑性ポリウレタン系樹脂を含む接着層とを設ける。 - 特許庁

A performance controlling CPU (central processing unit) carried by a performance control board judges whether or not the successive advance notice performance should be executed based on variation pattern command (containing the information for executing the successive advance notice performance/none-thereof) received from a game control board.例文帳に追加

演出制御基板に搭載されている演出制御用ＣＰＵは、遊技制御基板から受信した変動パターンコマンド（連続予告演出する／しないの情報を含む。）にもとづいて連続予告演出を実行するか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a polymer for a resist, having high sensitivity and high resolution, and hardly causing defects and line edge roughness at development; to provide a method for producing the polymer for the resist; to provide a resist composition containing the polymer for the resist; and to provide a method for producing a pattern by using the resist composition.例文帳に追加

高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

In the mask for exposure for forming a circuit pattern obtained, by disposing at least a nickel-containing light-shielding film on a transparent substrate, the light-shielding film is held by a metal oxide layer on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上に少なくともニッケルを含有する遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、該遮光膜が金属酸化物層によって透明基板上に保持されていることを特徴とする露光用マスク。 - 特許庁

While a wafer W with a developed resist pattern is turned at 300-1000 rpm, preferably at 500 rpm, an organic solvent 43 containing fluorine is discharged to substitute a rinsing liquid 42 left on the wafer W for the organic solvent 43.例文帳に追加

レジストパターンが現像されたウェハＷを３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍ、より好ましくは５００ｒｐｍで回転させながらフッ素を含む有機溶剤４３を吐出し、ウェハＷ上に残存していたリンス液４２を有機溶剤４３に置換する。 - 特許庁

A planar heating element 10 has an electrothermal coating 12 fused on a surface 11a of a substrate 11 made of aluminum nitride in a pattern print, and the electrothermal coating 12 is formed integrally in multiple heating layers containing silicon and cobalt disilicide.例文帳に追加

面状発熱体１０は、窒化アルミニウム製の基材１１の表面１１ａに電熱被膜１２がパターン模様に融着され、電熱被膜１２が、珪素及び二珪化コバルトを含有する複数の発熱層で一体的に形成されている。 - 特許庁

To provide an etching method for copper or copper alloy that is used for manufacturing a printed wiring board, having a fine wiring pattern, with an excellent yield and without causing a short-circuit defect when executing etching by an etchant containing a banking agent.例文帳に追加

バンキング・エージェントを含むエッチング液によりエッチングを行った場合、微細な配線パターンを有するプリント配線板を、ショート欠陥を発生させることなく、良好な歩留まりで製造する銅又は銅合金のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt excellent in resolution in photolithography using high energy rays, such as ArF excimer laser rays or EUV, as a light source, to provide a resist material containing the sulfonium salt, and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れたスルホニウム塩、そのスルホニウム塩を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film excellent in storage stability and adhesion with a resist film, and stably forming a resist pattern excellent in bottom shape without causing tailing or the like.例文帳に追加

保存安定性に優れており、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a printing plate for flexography capable of uniformly forming a pattern with a thick thickness even when ink containing low viscosity or an aromatic hydrocarbon solvent is used, a method for manufacturing it, and a method for manufacturing an organic EL element using the printing plate.例文帳に追加

低粘度または芳香族炭化水素系の溶剤を含むインキであっても厚膜のパターンを均一に形成可能なフレキソ印刷用版と、その製造方法および当該版を用いた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing hardening composition having high sensitivity and wide development latitude, excellent hardening property and no elution of the dye after hardening, excellent solvent resistance and heat resistance and forming a pattern image with high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に硬化性に優れ、硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性、耐熱性に優れ、解像度の高いパターン像を形成することができる染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device wherein embedded copper wiring can be formed via an insulative barrier layer formed self-alignedly, even in a groove pattern wherein an insulation film containing no silicon like an organic insulation film exposes.例文帳に追加

有機絶縁膜のようなシリコンを含有しない絶縁膜が露出する溝パターン内にも、自己整合的に形成された絶縁性のバリア層を介して埋め込み銅配線を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A conductor pattern 3 in an insulated substrate 10 joined with a semiconductor chip 4 and a heat radiation plate 8 are joined by a solder alloy 9 containing, by weight, 3 to 5% antimony (Sb) and ≤0.2% germanium (Ge), and the balance tin (Sn).例文帳に追加

半導体チップ４が接合された絶縁基板１０の導体パターン３と放熱板８を、３〜５重量％のアンチモン（Ｓｂ）と０．２重量％以下のゲルマニウム（Ｇｅ）を含有し、残りがスズ（Ｓｎ）であるはんだ合金９により接合する。 - 特許庁

Roughness is formed on the surface, and a core is provided including: a negative plate containing a reinforcing base material and resin; an electroless conductive layer formed in a prescribed pattern on the surface of the negative plate; and an electrolysis plating layer formed on the electroless conductive layer.例文帳に追加

表面に粗さが形成されており、補強基材と樹脂を含む原板と、前記原板の表面に所定のパターンに形成された無電解導電層と、前記無電解導電層上に形成された電解鍍金層とを含むコアを備える。 - 特許庁