「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for preparing a mold for precision casting, having a cavity which has elaborate peripheral surface shape corresponding to the surface shape of a wax pattern containing a fine shape part, such as a letter part, therefore, having high non-defective ratio in the cast product.例文帳に追加

文字部のような形状細部も含め、ワックス模型の表面形状に対応する精巧な周面形状のキャビティーを有する精密鋳造用鋳型、したがって鋳造品の良品率が高い精密鋳造用鋳型を作製できる方法を提供する。 - 特許庁

An excellent nonslip performance under the dry condition and the wet condition is obtained by simultaneously developing, on the surfaces of the sheet and the tile, an uneven pressed pattern by means of embossing and a projecting form by means of coating and hardening of a liquid resin containing particles.例文帳に追加

シート及びタイル表面上にエンボス加工による凹凸絞と、粒子を含有した液状樹脂がと塗工固化してなる凸形状を同時に発現させることにより、乾燥状態及び湿潤状態に於ける優れた防滑性能を得る事が可能になる。 - 特許庁

To provide a plywood capable of taking measures to prevent formaldehyde from an emission at a lower cost by suppressing an amount of emission of formaldehyde from the plywood low by adhering a natural wood butt plate or a paper sheet on which a grain pattern is printed to the outside of the plywood body by using an adhesive containing chitosan.例文帳に追加

合板本体の外側に、キトサンを含む接着剤で天然木突板又は木柄を印刷した紙シートを貼付けることで合板からのホルムアルデヒドの放散量を抑えられ、ホルムアルデヒド放散防止対策をより低コストで行える合板を提供する。 - 特許庁

The variable managing part 74 assigns a fragment to a variable if the data to be compared is described in the markup language and the data to be compared located at a position corresponding to the location of the variable in the selected pattern is a fragment containing a plurality of nodes.例文帳に追加

変数管理部７４は、比較元のデータがマークアップ言語により記述されたデータであり、選択されたパターンにおける変数の位置と対応する位置にある比較元のデータが複数のノードを含むフラグメントである場合、フラグメントを変数に代入する。 - 特許庁

In the production of the blow-molded article with a pattern with the use of a molding raw material containing a molding base resin and a coloring agent master batch, flow resistance or deformation is given to the molten resin after a molding die 7 formed from a die 6 and a core 5.例文帳に追加

成形ベース樹脂と着色剤マスターバッチを含む成形原材料を用いた模様付ブロー成形品の製造において、ダイス６とコア５により形成される成形ダイス７以降の溶融樹脂に流動抵抗もしくは変形を付与する製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a printed textile product having sufficiently high color density for pattern expression, without scumming, and having practical color fastness, in printing a cellulosic textile fiber material using a natural dye-containing printing paste composition.例文帳に追加

天然染料を含有する捺染糊組成物を用いてセルロース系繊維材料を捺染する場合に、模様表現に十分な染色濃度を有し、白場を汚染することなく、且つ、実用的な染色堅牢度を有する捺染物の製造方法を提供する。 - 特許庁

A negative type or positive type heat ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to heat rays and an energy beam sensitive film layer (C) containing a heat ray absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、及び熱線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition containing an amine imide together with an ester of polyamide acid as a photo-base generating agent which efficiently generates a strong base even with active ray of low exposure, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加

低露光量の活性光線であっても強塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸エステルと併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法および耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In producing the anisotropic conductive film 1, 11, and 21, the adhesive component containing the conductive particles is applied to a substrate 31 and the conductive particles are localized in a position in accordance with the electrode pattern with a magnetic force while the adhesive component is uncured.例文帳に追加

異方性導電膜１，１１，２１の製造に際しては、導電性粒子を含有する接着剤成分を基材３１上に塗布し、この接着剤成分が未固化状態のうちに磁力によって導電性粒子を電極パターンに応じた位置に偏在させる。 - 特許庁

By the conductive composition containing bismuth (Bi) of ≥50 wt.%, indium (In) of ≤30 wt.%, Tin (Sn) of ≤30 wt.%, and copper (Cu) selected in the range of 1 to 5 wt.%, the through electrode 3 and the circuit pattern 2 are formed.例文帳に追加

５０ｗｔ％以上のビスマス（Ｂｉ）と、３０ｗｔ％以下のインジウム（Ｉｎ）と、３０ｗｔ％以下の錫（Ｓｎ）と、１〜５ｗｔ％の範囲で選択された銅（Ｃｕ）とを含有する導電性組成物によって、貫通電極３及び回路パターン２を形成する。 - 特許庁

A thin film 2 is formed on a substrate 1 containing a photo-thermal converting material which converts light energy into heat energy, and the substrate 1 is irradiated with light to remove the thin film 2 corresponding to the irradiation region irradiated with the light so as to pattern the thin film 2.例文帳に追加

光エネルギーを熱エネルギーに変換する光熱変換材料を含む基材１上に薄膜２を設け、基材１に対して光を照射し、光が照射された照射領域に対応する薄膜２を除去することによりこの薄膜２をパターニングする。 - 特許庁

Since the film thickness of the transparent coated film layer 12 is formed in uneven state, position at which interference (reinforcement) of light occurs differs by wavelength component of incident light and as a result, interference pattern of rainbow color containing red, green, blue, etc., appears on the surface of lure.例文帳に追加

透明被膜層１２の膜厚は不均一に形成されているので、光の干渉（強め合い）が生じる位置は入射光の波長成分によって異なり、結果的に、ルアー表面に赤、緑、青等を含む虹色の干渉模様が出現する。 - 特許庁

In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加

光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁

There is provided the foaming sugar-coated food patterned with the mottles in which a recessed part of a sugar-coating material having an uneven pattern on the surface is coated with a foaming coating composition containing a foaming component composed of a carbonate and an acid as principal components and 10-30 wt.% of a solid fat.例文帳に追加

表面に凹凸模様を有する糖衣物の凹部に、主成分として炭酸塩と酸とからなる発泡性成分及び固形脂１０〜３０重量％を含有する発泡性コーティング組成物がコーティングされた斑模様入り発泡性糖衣食品。 - 特許庁

The hydrophilic/hydrophobic pattern is obtained by bringing a composition containing a hydrophobic compound having an optically active group into contact with a support having a surface where hydrophilic graft chains are present, adding imagewise energy to the composition, fixing the hydrophobic compound.例文帳に追加

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親／疎水性パターンを得ることを特徴とする。 - 特許庁

A process for burying the electronic components 40-42 in the substrate 5, and a process for forming a wiring pattern 23 connected with external connection electrodes 40a-42a of the electronic components 40-42 buried in the substrate 5 by ejecting a liquid drop containing a conductive material are provided.例文帳に追加

基板５に電子部品４０〜４２を埋め込む工程と、導電性材料を含む液滴を吐出して、基板５に埋め込まれた電子部品４０〜４２の外部接続電極４０ａ〜４２ａに接続される配線パターン２３を形成する工程とを有する。 - 特許庁

Alternatively, a nonmagnetic part for magnetically separating the magnetic recording pattern part is formed by partially implanting atoms into a deposited Co-containing magnetic layer, and setting Co (002) or Co(110) peak strength of X-ray diffraction of the magnetic layer of a relevant part to 1/2 or less.例文帳に追加

または、磁気記録パターン部を磁気的に分離する非磁性部を、すでに成膜されたＣｏ含有磁性層に部分的に原子を注入し、該箇所の磁性層のＸ線回折によるＣｏ（００２）またはＣｏ（１１０）ピーク強度を１／２以下にして形成する。 - 特許庁

The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.例文帳に追加

露光装置１００は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子２を含む照明光学系４によって原版６を照明し、原版６のパターンを投影光学系７によって基板８に投影して基板８を露光する。 - 特許庁

When recording data D1, D2, D3, and D4 beginning from the block 708, dummy data containing a synchronism pull-in pattern are recorded in the last sector P of the block 707 right in front of the block 708, then the data D1, D2, D3, and D4 are recorded on the following block 708.例文帳に追加

ブロック７０８からデータＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４の記録を開始する場合において、ブロック７０８の直前のブロック７０７の最終セクタＰに同期引き込みパターンを含むダミーデータを記録し、続くブロック７０８にデータＤ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を記録する。 - 特許庁

To provide a volume change resin molding, containing a water absorption high molecular resin, that is easy to insert to a mold, easy to mold and fabricate, and enables fine processings, and to provide its manufacturing method, a forming method of a minute pattern and an optical element manufactured by using them.例文帳に追加

型取りや成型加工が容易で、微細加工を可能とする、吸水性高分子樹脂を含む体積変化率の大きい体積変化樹脂成形体およびその製造方法、微細パターンの形成方法、これらを用いて製造された光学素子を提供する。 - 特許庁

The surface of the substrate 1 is exposed by removing the film 2 by performing the dry etching treatment of about 15 s of a time by using a gas containing, for example, CF_4 and O_2 with the pattern 3 as a mask on the exposed film 2.例文帳に追加

そのレジストパターン３をマスクとして、たとえばＣＦ_4とＯ_2とを含むガスを用いて時間約１５秒間のドライエッチング処理を、露出している有機ＡＲＣ膜２に施すことにより、有機ＡＲＣ膜２を除去して半導体基板１の表面を露出する。 - 特許庁

The semiconductor film uses a semiconductor film, having a crystal structure containing silicon as a main component where among lattice planes detected by the reflected electron diffraction pattern method, the plane {101} occupying proportion is 10% or more, and the plane {111} occupying proportion is less than 10%.例文帳に追加

珪素を主成分とし結晶構造を有する半導体膜であって、反射電子回折パターン法で検出される格子面の内、｛１０１｝面が占める割合が１０％以上であり、｛１１１｝面が占める割合が１０％未満である半導体膜を用いる。 - 特許庁

The linear pattern is formed by sequentially discharging a liquid (16) containing a functional component and having the effect of curing by irradiation with active light beam toward a non-permeable medium (12) from an ink jet head (18), and mutually combining such landed droplets on the medium (12).例文帳に追加

機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体(16)を非浸透性の媒体(12)に向けてインクジェットヘッド(18)から順次吐出して、媒体(12)上でこれら着弾液滴同士を合一させて線状パターンを形成する。 - 特許庁

To provide new high molecular compound useful as a base material component of positive resist composition, compound useful as a monomer of this high molecular compound, positive resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In the manufacturing method of the transparent electrode forming a conductive layer on a transparent support body, the conductive layer is made by forming a pattern in a photogravure method with the use of dispersion liquid containing metal nanowire and conductive polymers.例文帳に追加

透明支持体上に導電層を形成する透明電極の製造方法において、該導電層は、金属ナノワイヤと導電性高分子を含有する分散液を用い、グラビア印刷法によりパターンを形成することを特徴とする透明電極の製造方法。 - 特許庁

To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加

絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジスト膜の上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが形成されないようにする。 - 特許庁

The objective pattern forming material has a base resin containing a siloxane compound of formula (1) (where plural symbols R1 are the same or different and are each an alkyl compound, an ester compound, an ether compound, a sulfone compound, a sulfonyl compound or an aromatic compound).例文帳に追加

パターン形成材料は、［化１］の一般式で表わされるシロキサン化合物（但し、Ｒ_1 は、同種又は異種であって、アルキル化合物、エステル化合物、エーテル化合物、スルフォン化合物、スルフォニル化合物又は芳香族化合物である。）を含むベース樹脂を有している。 - 特許庁

Since filtering of scale light, containing a scale grid pattern image performed by a phase mask 120 having a light shielding-featured periodic structure, enables acquisition of more detailed information on the relative displacement, measurement accuracy can be improved.例文帳に追加

スケール格子パターンの画像を含むスケール光を、遮光要素を含んだ周期構造を有する位相マスク１２０によってフィルタリングすることによって、前記相対変位に関するより詳細な情報を取得できるから、測定精度を向上させることができる。 - 特許庁

To prevent surface roughness in an insulating film when the insulating film is subjected to wet cleaning after a polymer film is removed by ashing which polymer film is deposited on a resist pattern, when the insulating film is subjected to plasma etching using an etching gas containing carbon and fluorine.例文帳に追加

絶縁膜に対して炭素及びフッ素を含むエッチングガスを用いるプラズマエッチングを行なったときにレジストパターンの上に堆積されるポリマー膜をアッシングにより除去し、その後、絶縁膜をウェット洗浄した際に該絶縁膜に表面荒れが発生しないようにする。 - 特許庁

With respect to an etching process in which a polycrystalline silicon layer 12 formed on a semiconductor silicon wafer 10 is patterned in accordance with a resist pattern 13, plasma of a mixed gas containing SF_6 for isotropic etching and HBr for anisotropic etching is utilized for an etching gas species.例文帳に追加

半導体シリコンウェハ１０上の多結晶シリコン層１２をレジストパターン１３に従ってパターニングするエッチング工程に関し、エッチング用のガス種に、等方性エッチング用としてのＳＦ_6と、異方性エッチング用としてのＨＢｒとを含む混合ガスのプラズマを利用する。 - 特許庁

The positive type photosensitive resin composition is prepared by dissolving (A) a hydroxypolyamide as a PBO precursor, (B) a photosensitive quinonediazido compound and (C) a silicon-containing surfactant having a specified structure (hydrophilic silicone oil) in a solvent and a heat resistant pattern is formed using the composition.例文帳に追加

（Ａ）ＰＢＯ前駆体であるヒドロキシポリアミド、（Ｂ）感光性キノンジアジド化合物、及び（Ｃ）特定の構造を有するシリコン系界面活性剤（親水性シリコンオイル）を溶剤に溶解し、ポジ型感光性樹脂組成物を調製し、それを用いて耐熱性パターンを作製する。 - 特許庁

The pattern forming material has on a support at least the photosensitive layer containing the binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder has an I/O value of 0.300-0.650 and a glass transition temperature (Tg) of ≥80°C.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００〜０．６５０であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であることを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

This cutting unit cuts a substrate 34, on which two or more patterns P is formed in rows and columns, along the scanning path for each row and each column, which is determined on the basis of specified cutting dimensions, so that two or more cut pieces respectively containing one pattern P.例文帳に追加

板面に複数のパターンＰを行列状に形成してなる基板３４を、所定の切断寸法を間隔とする各行及び各列毎の走査軌跡に従って切断し、各パターンＰを含んだ複数の切断片とする基板の切断装置である。 - 特許庁

A negative type or positive type visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer <B) transparent to visible light and an energy beam sensitive film layer (C) containing a visible light absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、及び可視光線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

The target for ion plating used for forming the zinc oxide-based electroconductive film comprises a sintered compact mainly containing zinc oxide and has diffraction peaks by (100), (002) and (101) planes in X-ray diffraction pattern, wherein any of the diffraction peaks has a half-value width of ≤0.110°.例文帳に追加

酸化亜鉛主体の焼結体からなり、Ｘ線回折パターンにおいて（１００）、（００２）、（１０１）面による回折ピークを有し、該回折ピークの何れかの半値幅が０．１１０度以下である酸化亜鉛系導電膜形成用のイオンプレーティング用ターゲットを開示する。 - 特許庁

To provide a device and a method for exactly and highly accurately measuring and evaluating a form and a recording medium recording form measuring and evaluating program by quantitatively measuring the pattern form of a photo-mask containing fine patterns.例文帳に追加

微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

By aqueous conductive ink containing silver particles, a binder and water, a thin-film-like conductive film antenna of a predetermined circuit pattern including antenna parts 1 for transmitting/receiving electromagnetic waves, and connection parts 2 connected to an IC chip 4 is formed on a surface of a base material 3.例文帳に追加

銀粒子とバインダと水とを含有する水性導電性インクにより、基材３の表面に、電磁波を送受信するアンテナ部１と、ＩＣチップ４と接続される接続部２とを備える所定回路パターンの薄膜状導電膜アンテナを形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography excellent in solubility of resist materials, a resist pattern forming method using the resist composition for liquid immersion lithography, and a fluorine-containing resin useful as an additive for use in the resist composition for liquid immersion lithography.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。 - 特許庁

Also the aligner, being an aligner having an optical system containing a diffraction optical element such as a BO element to project the original plate pattern illuminated with light from the light source on the substrate, is characterized by having the diffraction optical element.例文帳に追加

また、本発明の露光装置は、光源からの光で照明した原版のパターンを基板上に投影するため、ＢＯ素子のような回析光学素子を含む光学系を有する露光装置において、本発明の回折光学素子を有することを特徴とする。 - 特許庁

After providing a material body having a pattern shape in a region that does not overlap the holes (or grooves) and a device part, a gas or a liquid containing fluorine halide is introduced to selectively remove the release layer.例文帳に追加

本発明は、剥離層に達する多数の穴または多数の溝を設け、穴（または溝）およびデバイス部に重ならない領域にパターン形状を有する材料体を設けた後、ハロゲン化フッ素を含む気体又は液体を導入して、前記剥離層を選択的に除去する。 - 特許庁

The control circuit 4 has a control mode in which the activity pattern of a character 9 can be determined based on the inclination direction and inclination quantity of the joystick 2 while the image of the game containing the activities of characters 9, 11 is displayed on the display 1.例文帳に追加

制御回路４は、キャラクタ９，１１が行動することを内容とするゲームの映像をディスプレイ１に表示している最中に、ジョイスティック２の傾斜方向及び傾斜量に基づいてキャラクタ９の行動パターンを決めることができる制御モードを有する。 - 特許庁

After a resist film 101 composed of a chemically amplified resist material is formed, a resist film 102 is exposed to a pattern by selectively projecting exposing light 104 upon the film 102 in a state where a solution 103 containing a basic compound is supplied to the surface of the film 102.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、塩基性化合物を含む溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The board for drawing the conductive pattern has a particulate layer containing colloidal particles which comprise metal or composite metal having specific resistance of ≤20 μΩcm at 20°C and have the average particle size of 1 to 100 nm, on a board.例文帳に追加

基板上に、２０℃における比抵抗が２０μΩ・ｃｍ以下である金属または複合金属からなり、かつ平均粒子サイズが１〜１００ｎｍであるコロイド粒子を含有する微粒子層を有することを特徴とする導電パターン描画用基板である。 - 特許庁

Fluorescent slurries including a photosensitive agent containing at least polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolydone as a photosensitive material and ammonium bichromate or sodium bichromate as a crosslinking agent are applied, exposed, and developed to form a fluorescent film of a given pattern.例文帳に追加

感光性材料として少なくともポリビニルアルコール又はポリビニルピロリドンを含有し、架橋剤として重クロム酸アンモニウム又は重クロム酸ナトリウムを含有する感光剤を含んだ蛍光体スラリーを塗布し、露光し、現像して所定パターンの蛍光体膜を形成する。 - 特許庁

In an image forming method by reaction development which comprises exposing a photoresist layer masked with a desired pattern to ultraviolet radiation and scrubbing the layer with an alkali-containing solvent, the photoresist layer is composed of the polyester imide and a photoacid generator.例文帳に追加

所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が上記ポリエステルイミドと光酸発生剤とから成る反応現像画像形成法。 - 特許庁