「pattern-containing~」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

A surface material comprising this acrylic BMC for decoration and a backing material comprising a fiber-reinforced thermosetting resin molding material (a general-purpose SMC or the like) not containing a pattern material for decoration are laminated and subjected to hot-press molding in a mold to give a decorative molded article.例文帳に追加

この加飾用アクリル系ＢＭＣからなる表面材と加飾用柄材を含有しない繊維補強熱硬化性樹脂成形材料（汎用のＳＭＣなど）からなる裏側材とを重ね、これを金型内で熱圧成形することにより加飾成形品を得る。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a resist layer composed of an oxonol-based dye on a substrate; scanning a laser beam to the formed resist layer at a scanning speed of 1 m/s or more and 30 m/s or less; and developing the resist layer scanned by the laser beam with a developer containing alcohol as a main component.例文帳に追加

基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming an organic bottom anti-reflective coating over an etch target layer, a step of forming a photoresist pattern over the organic bottom anti-reflective coating, and a step of etching the organic bottom anti-reflective coating using a sulfur-containing gas.例文帳に追加

被エッチング層上に有機反射防止膜を形成するステップと、該有機反射防止膜上に感光膜パターンを形成するステップと、硫黄が含有されたガスを用いて、前記有機反射防止膜をエッチングするステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the lens sheet in which a light shielding pattern is arranged on a lens substrate having a lens array, the light shielding pattern is formed using a resin layer comprising a photosensitive resin composition containing at least (a) a heat adhesive binder comprising an organic polymer, (b) a compound having at least one or more radical-polymerizable ethylenic double bonds and (c) three or more photopolymerization initiators.例文帳に追加

レンズアレイを有するレンズ基板に遮光パターンが設けられたレンズシートにおいて、前記遮光パターンが、少なくとも、（ａ）有機重合体からなる熱粘着性の結合剤、（ｂ）ラジカル重合性を有するエチレン性二重結合を少なくとも一つ以上有する化合物、（ｃ）３種類以上の光重合開始剤、を含む感光性樹脂組成物からなる樹脂層を用いて形成されているものとする。 - 特許庁

In the method for detecting the invisible bar code having the data part and the ground pattern part on the base material by the detector having an ultraviolet irradiation part and an optical detection part, the invisible bar code is formed with the film containing the fluorescent material and the binder resin in the ground pattern part, and the optical detection part of the detector does not have an image reversal function.例文帳に追加

第二に、基材上に、データ部と地模様部を有する不可視バーコードを、紫外線照射部と光学的検出部を有する検出器で検出する方法であって、該不可視バーコードが、地模様部に蛍光物質及び結着樹脂を含有する皮膜が形成された不可視バーコードであり、検出器の光学的検出部が画像反転機能を有しない光学的検出部である不可視バーコードの検出方法。 - 特許庁

The graft polymer pattern forming method includes: (a) a step of forming a photocurable resin composition layer on a substrate; (b) a step of forming a photoreactive layer containing a compound having a polymerizable double bond on the photocurable resin composition layer; and (c) a step of patternwise exposing the photoreactive layer to produce a graft polymer in the exposed area, whereby a graft polymer pattern is formed.例文帳に追加

（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the organic electroluminescent panel having a luminescent layer containing an organic material 102 between a pair of counter electrodes at least either one of which is transparent or translucent, a latent image having a desired pattern is formed by electrostatic force, and powder obtained by mixing the particulate of an organic material 102 and an insulating particulate 101 is brought into contact with it by making the powder charged to form a desired image pattern.例文帳に追加

少なくとも一方が透明または半透明の一対の対向電極間に有機材料１０２を含む発光層を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、静電気力によって所望のパターンの潜像を形成し、有機材料１０２の微粒子と絶縁性微粒子１０１とが混合された粉体を帯電させて接触して、所望の画像パターンを形成する。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes: laying on a substrate a film comprising materials containing an alkali-soluble polyimide (A) having a siloxane structure and a photosensitive agent (B) having a quinonediazide structure; exposing and developing the film to form a resist layer having a predetermined pattern on the substrate; bringing an acidic chemical solution into contact with the resist layer; and curing the resist layer.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法においては、シロキサン構造を有するアルカリ溶解性ポリイミド（Ａ）及びキノンジアジド構造を有する感光剤（Ｂ）を含む材料で構成されたフィルムを基板上に積層し、前記フィルムに対して露光・現像することにより前記基板上に所定のパターンを有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に酸性の薬液に接触させた後に前記レジスト層を硬化させる。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics and reliability with high yield by carrying out dry etching of a multilayer film having an SiGe film containing Si and Ge and an oxide film to form a gate electrode pattern and a gate oxide film pattern, and then sufficiently removing dry etched products or particles adhering to a semiconductor substrate without damaging the SiGe layer or the gate oxide film configuring the gate electrode.例文帳に追加

Ｓｉ及びＧｅを含有するＳｉＧｅ膜と酸化膜とを有する積層膜をドライエッチングしてゲート電極パターン及びゲート酸化膜パターンを形成した後、ゲート電極を構成するＳｉＧｅ層とゲート酸化膜とを損傷させることなく、半導体基板上に付着したドライエッチ生成物やパーティクルを十分に除去し、素子特性および信頼性に優れた半導体装置を歩留りよく製造する。 - 特許庁

The packaging and applicator assembly (1) includes a container (2) containing a composition for application while comprising a magnetic body, a magnetic device which can make a pattern at least on at least one layer of a composition applied on a keratin material and at least one item of information (11) for representing a pattern made on the composition with the magnetic device.例文帳に追加

収容適用アセンブリ（１）であって、・適用すべき組成物でありかつ磁性体を含有している組成物を収容するための容器（２）と；・角質材料上に適用された組成物からなる少なくとも１つの層上においてパターンを形成し得る磁気デバイスと；・磁気デバイスを使用して組成物上に形成され得るパターンを表す少なくとも１項目の情報アイテム（１１）と；を具備している。 - 特許庁

The method of manufacturing the structure having the uneven pattern includes a coating step of coating to a processing object a liquid (a) containing first particles and a matrix material composed of a material different from the first particles; a removal step of removing the first particles; and an etching step of forming the uneven pattern by etching a processing object with the matrix material as an etching mask.例文帳に追加

本発明の凹凸パターンを有する構造体の製造方法は、第一の粒子と、前記第一の粒子と異なる材料からなるマトリクス材とを含む液体（ａ）を被加工体上に塗布する塗布工程と、前記第一の粒子を除去する除去工程と、前記マトリクス材をエッチングマスクとして前記被加工体をエッチングして凹凸パターンを形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing the filter substrate for liquid display, the first layer composed of the non-photosensitive resin is formed on a substrate on which a colored layer of a plurality of colors is formed in a pattern, further a second layer containing the photosensitive resin is laminated on the first layer and a pattern processing is performed, and at least the following steps are performed in the described order.例文帳に追加

複数色の着色層がパターン形成された基板上に非感光性樹脂からなる第１の層を形成し、さらにその上に感光性樹脂を含有する第２の層を積層してパターン加工を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも下記の工程をこの順に行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。 - 特許庁

The electrode pattern composed of the ink is formed on the substrate by offset printing using the ink for forming the plasma display panel electrode, containing conductive powders, a resin composition removable by baking and a thixotropy-imparting agent having 200-450°C pyrolysis temperature, wherein the ratio of the thixotropy-imparting agent is 0.1-5 wt.% of the whole, followed by baking the printed electrode pattern.例文帳に追加

導電性粉体と、焼成により除去可能な樹脂分と、熱分解温度が２００〜４５０℃であるチキソトロピー性付与剤と、を含み、かつ当該チキソトロピー性付与剤の含有割合が全体の０．１〜５重量％である、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの電極形成用インキを用いて、当該インキからなる電極パターンをオフセット印刷によって基板上に形成し、次いでこの電極パターンを焼成する。 - 特許庁

A wiring pattern containing pads 2g is formed by patterning the metal layer 5 which has been used as a mask, at least a passivation film 6 is formed on the surface of the semiconductor substrate 1 where the empty groove 4 is formed, and an opening is provided to the passivation film 6 to make the pads 2g exposed.例文帳に追加

マスクとして用いられた金属層５をパターニングしてパッド２ｇを含む配線パターンを形成し、空堀４が形成された半導体基板１表面に少なくとも１層のパッシベーション膜６を形成し、パッシベーション膜６を開口して前記パッド２ｇを露出させる。 - 特許庁

In the wiring pattern 24, a zincate treatment is performed to surfaces of the electrode pads 22 of the semiconductor chip 12, connection electrodes 23 are formed, a seed layer 28 is formed on a Pb containing resin layer 26 by electroless plating, and a re-wiring 30 is formed on the seed layer 28 by electrolytic solder plating.例文帳に追加

また、配線パターン２４は、半導体チップ１２の電極パッド２２の表面にジンケート処理を施して接続電極２３を形成した後、Pb含有樹脂層２６に無電解めっきによりシード層２８を形成し、シード層２８に再配線３０を電解めっきにより形成したものである。 - 特許庁

Inside a resist pattern formed on a Cu substrate 40, a Cu plating layer 43 is formed using a strong acid plating bath from the lower part, an Au plating layer 44 is formed thereon using a cyanogen-containing acidic plating bath, and further, an Ni plating layer 45 and an Au plating layer 44 are successively stacked.例文帳に追加

Ｃｕ基板４０上に形成されたレジストパターン内に、下からＣｕメッキ層４３を強酸性メッキ浴を用いてメッキ形成し、その上にシアンを含む酸性メッキ浴を用いてＡｕメッキ層４４をメッキ形成し、さらにＮｉメッキ層４５及びＡｕメッキ層４６を順次積層する。 - 特許庁

The method is provided wherein the substrate 2 is successively sent by a carrying conveyor 1, the decorative sheet 3 containing a border pattern 6 is continuously sent to be laminated on the substrate 2, and the decorative sheet 3 is cut each substrate 2 to manufacture the decorative panel wherein the decorative sheet 3 is coated on the substrate 2.例文帳に追加

搬送コンベア１で基材２を順次送ると共にボーダ柄６入りの化粧シート３を連続的に供給して上記基材２にラミネートし、基材２毎に化粧シート３を切断して基材２に化粧シート３が被覆された化粧パネルを製造する方法である。 - 特許庁

The nanotubes 16 are constituted by supplying heat distribution in response to the desired pattern to a raw material substrate 10 containing iron (Fe) as a catalyst, by depositing the iron at positions corresponded to the heat distribution into a first material composed of a semiconductor such as silicon (Si) and by using the iron as the catalyst.例文帳に追加

カーボンナノチューブ１６は、シリコン（Ｓｉ）などの半導体からなる第１の物質中に、触媒として鉄（Ｆｅ）を含む素材基板１０に対して、所望のパターンに応じた熱分布を与え、熱分布に応じた位置に鉄を析出させて、この鉄を触媒として形成したものである。 - 特許庁

This photocurable composition containing an epoxy resin (A) represented by general formula (1), multifunctional (meth)acrylate (B) having an isocyanuric ring, a maleimide copolymer (C), and a photopolymerization initiator (D) is used, and a pattern-shaped cured film acquired from the photocurable composition is formed on a proper place of the electronic component.例文帳に追加

一般式（１）で表されるエポキシ樹脂（Ａ）、イソシアヌル環を有する多官能（メタ）アクリレート（Ｂ）、マレイミド共重合体（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）とを含有する光硬化性組成物を用い、この光硬化性組成物から得られるパターン状硬化膜を電子部品の適所に形成する。 - 特許庁

To provide an application apparatus which sprays aerosol containing particulates onto a substrate to form a structure on the substrate, thus produces composite structure composed of the substrate and the structure at a specified pattern in a short period of time and also on a large area, and to provide an application method and an application nozzle.例文帳に追加

微粒子を含むエアロゾルを基板に吹きつけ、構造物を基板上に形成させることによって基板と構造物からなる複合構造物を短時間であり、かつ、大面積に特定のパターンで作製する塗布装置及び塗布方法、並びに、塗布ノズルを提供すること。 - 特許庁

In the pattern forming method, development is carried out with a developing solution containing a metal ion-free organic base and a nonionic surfactant as essential components in the developing step of photolithography while keeping 45.0-65.0 mN/m (20°C) surface tension of the developing solution through the developing step.例文帳に追加

ホトリソグラフィーの現像工程において、金属イオンを含まない有機塩基とノニオン性界面活性剤を主成分として含む現像液を用い、現像全工程を通して、現像液の表面張力値を４５．０〜６５．０ｍＮ/ｍ（２０℃）に維持して現像するパターン形成方法。 - 特許庁

The gas containing a solvent delivered to a reflow processing space S forms a unidirectional flow toward the solvent suction port 75 and when the solvent in the atmosphere of the reflow processing space is sucked to a resist on the surface of the substrate G, the resist is softened and fluidized, thus forming a deformation resist pattern.例文帳に追加

リフロー処理空間Ｓへ吐出された溶剤を含む気体は、溶剤吸入口７５へ向かう一方向の流れを形成し、基板Ｇ表面のレジストにリフロー処理空間の雰囲気中の溶剤が吸収されることにより、レジストが軟化して流動化し、変形レジストパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electromechanical conversion film capable of forming the electromechanical conversion film of a desired pattern having a uniform film thickness when discharging a coating liquid containing a raw material for forming the electromechanical conversion film from a nozzle and coating an electrode with the liquid.例文帳に追加

電気機械変換膜を形成するための原料を含む塗布液をノズルから吐出させて電極上に塗布する場合に、均一な膜厚を有する所望パターンの電気機械変換膜を形成することができる電気機械変換膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic powder-containing resin composition which is capable of forming a component of a FPD excellent in pattern form (e.g., a dielectric layer, a partition, an electrode, a resistor, a phosphor, a color filter, or a black matrix) without deteriorating flammability or development speed.例文帳に追加

燃焼性や現像速度を低下させることなく、パターン形状に優れたＦＰＤの構成要素（例えば誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a granular resin-containing coating material and a decorative inorganic fiber molded plate which is endowed with a rugged pattern on its surface by the coating material and hardly allows the granular resin to come loose and fell off by handling in use or by an exerted external force including seismological vibrations or the like after use.例文帳に追加

粒状樹脂を含む塗料を得るとともに、その塗料により表面に凹凸模様が付与され、かつ使用時のハンドリンクや使用後の地震などによる振動を始めとする外力が加わっても粒状樹脂の剥がれ落ちが少ない化粧無機繊維成形板を得る。 - 特許庁

To prevent an undercut of a lower wiring layer caused at a bottom of an opening when the opening down to the lower wiring layer is formed in an oxide silicon-based insulating film with an etching gas containing fluorocarbon based gas by using a mask of photoresist film pattern, and an ashing step is carried out with oxide plasma.例文帳に追加

フォトレジスト膜パターンをマスクにしてフルオロカーボン系ガスを含んだエッチングガスにより下層配線層に達する開口部を酸化シリコン系絶縁膜に開口部を形成し、酸素プラズマによるアッチングを行なうときに開口部底部における下層配線層のアンダー・カット部の形成を抑制する。 - 特許庁

The manufacturing method for the inner packaging material comprises laminating the low-density paper containing the foamed particle in the pulp fibrous layer on the support, then applying a recording layer on the low-density paper, drying it, forming an irregularity pattern by profiling working, and recording the image.例文帳に追加

また、パルプ繊維層に発泡体粒子を含有する低密度紙と、支持体とを貼り合せ、次に、低密度紙上に記録層を塗布乾燥して設け、型付け加工により凹凸模様を形成した後、画像の記録を行なうことを特徴とする内装材の製造方法である。 - 特許庁

To provide a coloring agent-containing hardening composition having high sensitivity, high transmittance, high resolution, wide development latitude, excellent in solvent resistance, light resistance, heat resistance and pattern forming property (developing property), free from elution of a dye, excellent in liquid storage property when it is prepared as a liquid composition, and having high productivity.例文帳に追加

高感度、高透過率、高解像力、広い現像ラチチュードを有し、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）に優れ、しかも染料の溶出がなく、液状組成としたときの液保存性に優れ、生産性の高い着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.例文帳に追加

（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁

Any type is determined out of variation patterns of multiple types containing the type of variation pattern for executing a split display performance from the result of the determination to offer the "jackpot" as that of the variable display or the result of the determination to present a ready for win state at the step S268 (step S273).例文帳に追加

可変表示結果を「大当り」とする決定結果、または、ステップＳ２６８におけるリーチ状態ありの決定結果に基づき、分割表示演出を実行する変動パターン種別を含む複数種類の変動パターン種別のいずれかに決定する（ステップＳ２７３）。 - 特許庁

In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、溶媒１６の蒸気を含む気体を修正インク７に噴霧し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

Since the surface coating layer remaining on the substrate has high lyophobic property and a portion where the coating is removed has relatively high lyophilic property, a composition containing a conductive material is selectively deposited in a portion where the coating is removed, and thereby a desired wiring pattern can be obtained.例文帳に追加

基板上に残留する表面被覆層は疎液性が高く、一方、被覆が除去された部分は相対的に親液性が高いので、被覆が除去された部分に選択的に導電性材料含有組成物を付着させることができ、所望の配線パターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide an electro-deposition tool containing nano carbon fibers which is a grinding wheel with a small diameter shaft of a long life and an electric discharge machining electrode capable of carrying out micropore machining, groove machining, and minute pattern machining on brittle material such as glass and ceramic, or mold material.例文帳に追加

ガラスやセラミックスなどの脆性材料や金型材料などに微細穴加工、溝加工、微細パターン加工を行うことができる寿命の長い小径軸付電着砥石および放電加工用電極であるナノカーボン繊維含有電着工具とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a pattern of a colored layer is formed by a screen print method while using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in the range of 24 to 95 wt.% by solid ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A method to transcribe a conductive substance to the charge transferring layer 13 through the use of an intaglio printing method, a simple method to irradiate a conductive substance containing an ultraviolet setting agent with speckle- pattern ultraviolet rays, or the like is used for arranging the micro plates 18 on a random basis.例文帳に追加

マイクロプレート１８をランダムに配設するには、凹版印刷方法を用いて導電物質を電荷輸送層１３に転写する方法や、スペックルパターンの紫外線を紫外線硬化剤が含有された導電物質に照射した後、非硬化部を剥離するなどの簡易な方法を用いる。 - 特許庁

A barrier rib pattern is formed by a sandblasting method on a paste layer containing at least two types of inorganic powder with different softening points and particle size, and at the same time, one of the inorganic powders is rutile type titanium and then calcinated in the manufacturing method for the inorganic barrier rib layer.例文帳に追加

軟化点および粒子サイズが互いに相違する少なくとも２種類の無機粉末であって、かつ該無機粉末の何れかがルチル型酸化チタンである無機粉末を含有するペースト層に、サンドブラスト法により隔壁パターンを形成した後、焼成するＰＤＰ用無機隔壁層の製造方法。 - 特許庁

This three-dimensional processing decorative sheet 10 comprises a base material layer 11 containing a polyester resin (a), a colorant, a printing pattern layer 12 which is formed of color ink comprising a binder based on a vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, and a transparent layer 13 comprising a polyester resin (b).例文帳に追加

（ａ）ポリエステル系樹脂および着色剤を含む基材層１１と；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を主成分とするバインダーからなる着色インキよりなる印刷模様層１２と；（ｂ）ポリエステル系樹脂からなる透明層１３と；を有する３次元加工用化粧シート１０。 - 特許庁

The base plate for the display panel is formed by annexing the surface of the planar base material 1 with a remoistening adhesive 2 containing polyvinyl alcohol at 15 to 75 wt.% of its total solid content as a pattern allowing non-annexed segments 3 to remain, in which the non-annexed segments 3 are communicated with the end edge of the base material 1.例文帳に追加

板状の基材１の表面に、ポリビニルアルコールを全固形分に対して１５ｗｔ％〜７５ｗｔ％含有する再湿性接着剤２が、非付設部分３を残したパターンとして付設されており、かつ各非付設部分３が基材１の端縁に通じている展示パネル用台板。 - 特許庁

The method of constituting the metal material includes a step of preparing the substrate including a region formed from a first semiconductor material, and a second material containing germanium separated by a pattern formed from a dielectric material, a step of performing deposition (F2) of a metal layer, and a step of performing a first thermal process (F3).例文帳に追加

第１半導体材料から作られた領域と、誘電体材料から作られたパターンによって分離されたゲルマニウムを含む第２半導体材料から作られた領域と、を含む基板を準備し、金属層を堆積し（Ｆ２）、第１熱処理（Ｆ３）を行うことを含む。 - 特許庁

To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.例文帳に追加

基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide base paper 8 for water transfer paper that can obtain the water transfer paper 10 having a clear pattern after printing with excellent sliding property during water transfer by eliminating water absorption unevenness of a pigment coating layer 2 provided on foundation paper 1 and containing a pigment and an adhesive as main components.例文帳に追加

基紙１上に設けられる顔料及び接着剤を主成分とする顔料塗工層２の吸水ムラをなくし、もって水転写時のスライド性に優れ、焼き付け後の絵柄が鮮明である水転写紙１０を得ることができる水転写紙用原紙８を提供する。 - 特許庁

Nitrogen is newly introduced in the gate insulating film 3 nearby an end of the gate electrode 5 by carrying out nitriding processing in an atmosphere containing nitrogen after a polysilicon film 4 is bonded onto the gate insulating film 3 and the gate electrode 5 is patterned in a pattern and before the source-drain region 9 is formed.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３上に、ポリシリコン膜４を被着してゲート電極５パターンにパターンニングした後、ソース・ドレイン領域９を形成する前に、窒素を含む雰囲気中で窒化処理を行って、ゲート電極５端部付近のゲート絶縁膜３中に新たに窒素を導入する。 - 特許庁

This bulk molding compound for decorative molding comprises a resin component composed of (A) a styrene-maleic anhydride copolymer containing ≥2 wt.% maleic anhydride component, (B) an unsaturated polyester resin and (C) a monomer, a thickener and a pattern material component.例文帳に追加

（Ａ）無水マレイン酸成分を２重量％以上含有するスチレン−無水マレイン酸共重合体並びに（Ｂ）不飽和ポリエステル樹脂及び（Ｃ）モノマーからなる樹脂成分と、増粘材及び柄材成分とを含有してなることを特徴とする加飾成形用バルクモールディングコンパウンド。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor( polyamic acid ) to be used for producing a specific polyimide, high in convenience and enabling finer and more accurate pattern formation, to provide a composition containing the precursor, and to provide a method for producing a product intermediate using the precursor or the composition.例文帳に追加

特定のポリイミドを製造するために用いられるものであって、利便性が高く、より微細で正確なパターン形成が可能となり得るポリイミド前駆体（ポリアミック酸）および当該前駆体を含む組成物、並びにこれらを利用する製品中間体製造方法を提供する。 - 特許庁