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residual film methodとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ドライフィルム法
「residual film method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 238件
RESIDUAL STRESS MEASURING DEVICE OF THIN FILM, AND RESIDUAL STRESS MEASURING METHOD OF THIN FILM例文帳に追加
薄膜の残留応力測定装置並びに薄膜の残留応力測定方法 - 特許庁
MEASURING METHOD FOR RESIDUAL STRESS OF FILM AND TEST PIECE例文帳に追加
皮膜の残留応力測定方法及び試験片 - 特許庁
PREDICTION METHOD OF RESIDUAL STRESS, SPRAY FILM FORMING METHOD AND DEVICE, AND RESIDUAL STRESS PREDICTING PROGRAM例文帳に追加
残留応力の予測方法、溶射成膜方法および装置ならびに残留応力予測プログラム - 特許庁
METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN CAPABLE OF CONTROLLING RESIDUAL FILM RATE例文帳に追加
残膜率を調節できるフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁
RESIDUAL FILM SEPARATING METHOD AND DEVICE AFTER PUNCHING PRODUCT例文帳に追加
製品を打ち抜いた後の残フイルム剥離方法および残フイルム剥離装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING RESIDUAL STRESS IN THIN-FILM SAMPLE例文帳に追加
薄膜試料の残留応力計測方法および残留応力計測装置 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING RESIDUAL RAW LIQUID, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加
残留原料液除去方法並びに薄膜製造方法及び薄膜製造装置 - 特許庁
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「residual film method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 238件
METHOD OF DECIDING RESIDUAL FILM THICKNESS IN POLISHING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
研磨工程の残存膜厚判定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a method of forming a semiconductor thin film which can suppress a sudden bumping of residual hydrogen, and to provide a method of manufacturing a thin film transistor using this semiconductor thin film.例文帳に追加
残留水素の突沸を抑制可能な半導体薄膜の形成方法及びこれを用いた薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING LOW RESIDUAL HALOGEN CONTENT TiN FILM WITH THICKNESS EXCEEDING 1,000 ANGSTROM例文帳に追加
1000Åを超える厚さの低残留ハロゲン含有TiN膜を堆積する方法及び装置 - 特許庁
RESIDUAL FILM MONITORING DEVICE, POLISHING DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
残膜モニタ装置、研磨装置、半導体デバイス製造方法及び半導体デバイス - 特許庁
To provide a pattern transfer method capable of performing residual film removal processing without performing etching.例文帳に追加
エッチングを行わずに残膜除去処理を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁
LIQUID AND METHOD OF REMOVING RESIDUAL POLYMER AND RESIST OF LOW-K FILM例文帳に追加
Low−k膜残渣ポリマー及びレジストの除去液及び除去方法 - 特許庁
The method enables a resin film 2 to undergo heat treatment to remove its residual stress.例文帳に追加
樹脂フィルム2の残留応力を取り除くように樹脂フィルム2を熱処理する方法。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a dielectric thin film which enhances a residual dielectric polarization.例文帳に追加
残留分極値を向上させた誘電体薄膜の作製方法を提供する。 - 特許庁
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