「residual film method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING RESIDUAL STRESS IN THIN-FILM SAMPLE例文帳に追加

薄膜試料の残留応力計測方法および残留応力計測装置 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING RESIDUAL RAW LIQUID, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加

残留原料液除去方法並びに薄膜製造方法及び薄膜製造装置 - 特許庁

METHOD OF DECIDING RESIDUAL FILM THICKNESS IN POLISHING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

研磨工程の残存膜厚判定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method of forming a semiconductor thin film which can suppress a sudden bumping of residual hydrogen, and to provide a method of manufacturing a thin film transistor using this semiconductor thin film.例文帳に追加

残留水素の突沸を抑制可能な半導体薄膜の形成方法及びこれを用いた薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING LOW RESIDUAL HALOGEN CONTENT TiN FILM WITH THICKNESS EXCEEDING 1,000 ANGSTROM例文帳に追加

１０００Åを超える厚さの低残留ハロゲン含有ＴｉＮ膜を堆積する方法及び装置 - 特許庁

RESIDUAL FILM MONITORING DEVICE, POLISHING DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

残膜モニタ装置、研磨装置、半導体デバイス製造方法及び半導体デバイス - 特許庁

To provide a pattern transfer method capable of performing residual film removal processing without performing etching.例文帳に追加

エッチングを行わずに残膜除去処理を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

LIQUID AND METHOD OF REMOVING RESIDUAL POLYMER AND RESIST OF LOW-K FILM例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜残渣ポリマー及びレジストの除去液及び除去方法 - 特許庁

The method enables a resin film 2 to undergo heat treatment to remove its residual stress.例文帳に追加

樹脂フィルム２の残留応力を取り除くように樹脂フィルム２を熱処理する方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a dielectric thin film which enhances a residual dielectric polarization.例文帳に追加

残留分極値を向上させた誘電体薄膜の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device with which residual film thickness of an interlayer insulating film on a thin-film resistor can be controlled accurately.例文帳に追加

薄膜抵抗体上の層間絶縁膜残存膜厚を精度良く制御できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ESTIMATING PROFILE OF RESIDUAL FILM THICKNESS, METHOD OF DESIGNING MASK FOR PATTERNING USING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK FOR PATTERNING DESIGNED BY USING THE METHOD OF ESTIMATING PROFILE OF RESIDUAL FILM THICKNESS例文帳に追加

残膜厚分布の推定方法、残膜厚分布の推定方法を利用したパターニング用マスクの設計方法、及び、残膜厚分布の推定方法を利用して設計されたパターニング用マスクを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide a residual stress measuring device and a method therefor capable of determining a residual stress of a film from an extremely simple balance condition of moment by measuring the swelling amount of an exfoliated film and by determining a residual stress in the film from the shape by computing.例文帳に追加

剥離した膜の盛り上がり量を計測し、その形状から膜内に残留している応力を演算により求めることにより、極めて簡単なモーメントのつりあい条件から膜の残留応力を求めることができる残留応力測定装置とその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric film that can be manufactured by a simple method and also has satisfactorily residual magnetism, and to provide a method of manufacturing the ferroelectric film.例文帳に追加

単純な方法で製造でき、残留磁気も良好な強誘電体膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress generation of thickness unevenness in a residual film of a resist film and an imprint defect due to residual gas, in a method of nanoimprinting by applying a droplet made from a resist material with an ink jet method.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、レジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体によるインプリント欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a proton conductive film reduced in the residual amount of an organic solvent used when the film is manufacture by a solution casting method.例文帳に追加

溶液流延法によるフィルムの製造の際に用いた有機溶媒の残存量が少ないプロトン伝導性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for processing a positive type photosensitive resin composition by which a high sensitivity pattern is obtained at a high rate of a residual film even in thick film processing.例文帳に追加

厚膜加工においても高残膜率で高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, capable of suppressing a variation in the residual film of a gate insulated film and reducing the variations in sheet resistance.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の残膜のばらつきを抑制し、シート抵抗のばらつきを低減することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method with less damage such as a pattern peel-off when performing a processing of removing a residual substance such as a sacrifice film after etching a film to be etched, by solubilizing this residual substance in a prescribed liquid and subsequently removing the residual substance by this prescribed liquid.例文帳に追加

被エッチン膜をエッチング後、犠牲膜等の残存物質を除去する処理を、その残存物質を所定の液に可溶化し、次いで、その所定の液により残存物質を除去することで行う際に、パターンはがれ等のダメージが少ない基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

CATHODE RAY TUBE USING HEATER INSULATING FILM OF LOW RESIDUAL QUANTITY OF IMPURITY FOR CATHODE OF ELECTRON GUN, AND METHOD FOR DETERMINING RESIDUAL QUANTITY OF IMPURITY IN HEATER INSULATING FILM例文帳に追加

電子銃の陰極に低不純物残存量のヒーター絶縁膜を用いた陰極線管及びヒーター絶縁膜中の不純物残存量判定方法 - 特許庁

To provide a lithographic plate causing little residual film by cutting, and to provide a device and a method of cutting a strip plate for the lithographic plate capable of reducing the residual film generated by cutting.例文帳に追加

切断によって発生する残膜の少ない平版印刷版と、切断により残膜の発生を少なくすることのできる平版印刷版用帯板切断装置及び平版印刷版用帯板切断方法を得る。 - 特許庁

To provide an imprint method, a semiconductor integrated circuit manufacturing method, and a drop recipe preparation method reducing fluctuation in the amount of residual film.例文帳に追加

残膜量の変動を低減したインプリント方法、半導体集積回路製造方法およびドロップレシピ作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide the forming method of a film capable of obtaining the film reduced in a residual stress, the film obtained by the method and a semiconductor device having the film.例文帳に追加

残留応力が低減された膜を得ることができる膜の形成方法、該方法によって得られた膜、および該膜を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a planographic printing plate having good residual color and residual film performances and good printing and contamination resistances and capable of suppressing the generation of scum and sludge in a developing solution during development.例文帳に追加

残色、残膜性能、耐刷性能及び汚れ性能が共に良好でかつ現像時の現像液中のカス、ヘドロを抑制できる平版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a planographic printing plate having good capability of reducing residual color and residual film and having good capability of printing resisting to printing wear and good capability of suppressing staining and capable of suppressing a foreign matter and sludge in a developing solution during developing.例文帳に追加

残色、残膜性能、耐刷性能及び汚れ性能が共に良好でかつ現像時の現像液中のカス、ヘドロを抑制できる平版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a carbon film which suppresses a residual stress on the interface between a carbon film and a substrate, prevents cracks or peeling of the carbon film and stably maintains performances, a production method of the carbon film, and a CMP (chemical mechanical polishing) pad conditioner.例文帳に追加

炭素膜と基材との界面における残留応力を抑制し、炭素膜のクラックや剥離を防止し、性能が安定して確保される炭素膜、炭素膜の製造方法及びＣＭＰパッドコンディショナーを提供する。 - 特許庁

To provide a drying method and a device for drying a coating film capable of efficiently decreasing a residual solvent in the coating film in the case that the coating film is thick, and to provide a coating film product.例文帳に追加

ドライ膜厚が厚い場合の塗膜中の残留溶剤を効率良く削減する塗膜の乾燥方法、乾燥装置および塗膜製造物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a photoresist pattern by which the residual film rate can be controlled while securing the doping angle for ion injection.例文帳に追加

イオン注入のためのドーピング角を確保して残膜率を調節できるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which effectively remove the etching residual liq. with avoiding dissolving a ferroelectric film and denaturing the surface.例文帳に追加

強誘電体膜の溶解および表面の変質を防止しつつエッチング残渣を効果的に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element in which concentration of residual stress is prevented by improving the form of a trench element isolation film.例文帳に追加

トレンチ素子分離膜の形状を改良して、残留応力の集中を防止し得るようにした半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having excellent photosensitivity and residual film characteristics and a method of forming patterns using the same.例文帳に追加

感度と残膜特性が優れるフォトレジスト組成物及びこれを使用したパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film comprising a non-crystalline thermoplastic resin having small thickness and residual phase difference.例文帳に追加

厚さ及び残留位相差の小さい非晶性熱可塑性樹脂からなる光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display device which effectively removes a residual film remaining after a molding process.例文帳に追加

モールディング後に残っている残膜を効果的に除去できる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal oxide thin film which can reduce a residual organic matter and does not require treatment at a high temperature.例文帳に追加

残留有機物を減少させることができ、しかも、高い温度での処理を必要としない金属酸化物薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film with a low phase difference, a low residual solvent and a less surface defect by a simple manner at a low cost.例文帳に追加

低位相差・低残存溶剤量で、かつ表面欠陥の少ない光学フィルムを簡便、かつ低コストな方法で製造する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a panel for image display, with which a residual film between partition walls is simply removed and deterioration in display characteristics is prevented.例文帳に追加

隔壁間の残膜を簡単に除去することができ、表示特性の劣化を防ぐ事ができる画像表示用パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low-cost method for both reducing dishing after a CMP of a Cu wiring film and removing residual Cu.例文帳に追加

Ｃｕ配線膜のＣＭＰ後のディッシングの低減とＣｕ残除去との両立を低コストで実現する技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive planographic printing plate (PS plate) and a method for manufacturing the plate by which the yield can be improved by preventing quality failure such as a residual film.例文帳に追加

残膜等の品質故障を防止し、得率を向上させることができる感光性平版印刷版及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method, which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern form and a residual film rate in a super-fine processing region.例文帳に追加

超微細領域での高感度、高解像性、良好なパターン形状、残膜率を満足できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating apparatus and a coating method that can control the film thickness and shape of an edge part by quickly decreasing the residual pressure of a nozzle channel.例文帳に追加

ノズル流路の残圧を素早く減少させてエッジ部の膜厚形状を制御することが可能な塗布装置及び塗布方法の提供。 - 特許庁

To solve such a problem that it is difficult to stably manufacture an optical film reduced in the residual amount of a volatile component if a film forming polymer is easy to peel from a support in a method for continuously manufacturing the optical film by a solution method.例文帳に追加

溶液法によって連続的に光学フィルムを製造する場合、フィルム化するポリマーが支持体と剥離しやすいと、残留揮発成分量の少ない光学フィルムの安定的に生産することが困難となる。 - 特許庁

To provide a cleaning method for an ashing residual in which a cleaning property for the ashing residual is improved and not only metal wiring is hardly corroded but also removability from a semiconductor wafer after cleaning is improved even when a porous film is used as an insulating film.例文帳に追加

アッシング残渣の洗浄性に優れ、かつ金属配線の腐食を生じにくいだけでなく、絶縁膜として多孔質膜を用いた場合にも、洗浄後の半導体用基板からの除去性に優れたアッシング残渣の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁

To provide a method making a planographic printing plate which does not leave a residual film in the non-image area without causing defects to the formed image area of does not finally stain on a print even if a residual film remains in a some degree and can give a high sharpness clear image.例文帳に追加

形成した画像部に欠陥を与えることなく、非画像部に残膜を残さないか、又は、ある程度残膜が残ったとしても最終的に印刷物上に汚れとならず、高鮮鋭で鮮明な画像を得ることのできる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

The metallized polyimide film is obtained by forming a metal layer having 0.5-5 μm thickness and formed on at least one surface of a polyimide film having 0.1-100 ppm content of a residual solvent according to the dry film-forming method.例文帳に追加

残存溶媒量が０．１〜１００ｐｐｍであるポリイミドフィルムの少なくとも片面に乾式製膜方法によって形成された厚さ０．５μｍ〜５μｍの金属層が形成された金属化ポリイミドフィルム。 - 特許庁