same time exposure and development methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加

液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the image forming method, the heat developable photosensitive material is used, and exposure and heat development are performed at the same time.例文帳に追加

支持体上に有機銀塩、ハロゲン化銀、バインダー及び還元剤を含む画像形成層を有する熱現像感光材料において、支持体をはさんで画像形成層側に該画像形成層と隣接する保護層を有し、支持体をはさんで画像形成層と反対側にバックコート層を有し、かつ該画像形成層側及びバックコート層側の少なくとも一方の最外層にガラス転移温度（Ｔｇ）が７５℃〜２００℃のポリウレタンを含有する熱現像感光材料、及びこれを用い露光処理と熱現像処理を同時に行うことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

In the image forming method, exposure processing and heat development are performed at the same time.例文帳に追加

支持体上に有機銀塩、ハロゲン化銀、バインダー及び還元剤を含む画像形成層を有する熱現像感光材料を用いる画像形成方法であって、前記熱現像感光材料の支持体に対して同一面側上に少なくとも２種のマット剤を含有し、該マット剤のうち添加質量比の大きなマット剤から順にマット剤Ａ、マット剤Ｂとし、かつ該マット剤の平均粒径（μｍ）をそれぞれＬＡ、ＬＢとするとき、ＬＢ／ＬＡが１．５〜６．０である熱現像感光材料を用い、露光処理と熱現像処理を同時に行うことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁