semiconductor clusterとは 意味・読み方・使い方

The semiconductor element manufactured by this method and semiconductor cluster equipment used for the manufacturing of the semiconductor element are provided.例文帳に追加

この方法により製造された半導体素子及び半導体素子の製造に利用する半導体クラスタ装備を提供する。 - 特許庁

To provide an ion implantation system and a method of manufacturing a semiconductor by the implantation of ion beams formed by N-type dopant cluster ions and the cluster of negatively charged cluster ion beams.例文帳に追加

イオン注入システムと、Ｎ型ドーパントクラスターイオン及び負に荷電したクラスターイオンビームのクラスターから形成されたイオンビームを注入する半導体製造方法とを提供する。 - 特許庁

ION IMPLANTATION DEVICE AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD EMPLOYING IMPLANTATION OF BORON HYDRIDE CLUSTER IONS例文帳に追加

水素化ホウ素クラスターイオンの注入によるイオン注入装置及び半導体製造方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING LAYERED COMPOSITE CLUSTER OF SEMICONDUCTOR OR INSULATOR/METAL例文帳に追加

半導体又は絶縁体／金属・層状複合クラスタの作製方法及び製造装置 - 特許庁

APPARATUS FOR ISOLATING CLUSTER, METHOD FOR ISOLATING CLUSTER, METAL-INCLUDING FULLERENE OR FULLERENE, PEAPOD STRUCTURE, APPARATUS FOR PRODUCING PEAPOD, METHOD FOR PRODUCING PEAPOD AND N-TYPE SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

クラスター単離装置、クラスター単離方法、金属内包フラーレン又はフラーレン、ピーポッド構造、ピーポッド製造装置、ピーポッド製造方法及びＮ型半導体素子 - 特許庁

The ion implantation system (10) is described as to the implantation of cluster ions into semiconductor substrates for semiconductor device manufacturing.例文帳に追加

イオン注入システム（１０）は、半導体素子製造のための半導体基板内へのクラスターイオンの注入に関して説明される。 - 特許庁

The semiconductor memory element is configured so as to include the tunnel insulating film formed on the semiconductor substrate and an HfON type charge storage film containing Bevan cluster type structure crystals formed on the tunnel insulating film.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたトンネル絶縁膜と、前記トンネル絶縁膜上に形成されたBevan cluster 型構造の結晶を含むＨｆＯＮ電荷蓄積膜とを含むようにして半導体記憶素子を構成する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor with high quality by preventing expansion of a pit and suppressing occurrence of a cluster.例文帳に追加

ピットの拡大を防ぎかつクラスターの発生を抑制して高品質の窒化物半導体を得ることを可能にする。 - 特許庁