silicon nitride barrierとは 意味・読み方・使い方

To provide a gas barrier film on which is deposited a silicon nitride film having excellent gas barrier properties and excellent adhesiveness with a substrate, and to provide a method and a system for depositing the silicon nitride film.例文帳に追加

優れたガスバリア性のみならず、基板との密着性にも優れる窒化ケイ素膜を成膜してなるガスバリアフィルム、ならびに、その成膜方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dense silicon nitride film having reduced Si-H bonds and having high gas barrier properties.例文帳に追加

Ｓｉ−Ｈ結合が少なく、緻密でガスバリア性の高い窒化珪素膜を成膜する。 - 特許庁

The gas barrier layer may be formed of a vapor deposition film of an inorganic oxide or an inorganic nitride (preferably silicon oxide, silicon nitride or aluminum oxide).例文帳に追加

ガスバリア層は、無機酸化物又は無機窒化物（好ましくはケイ素酸化物、ケイ素窒化物又はアルミニウム酸化物）の蒸着膜から形成するとよい。 - 特許庁

To improve adhesive properties of an interface of noble metal wiring and a barrier film made of a silicon nitride film.例文帳に追加

貴金属配線とシリコン窒化膜からなるバリア膜との界面の密着性を向上させる。 - 特許庁

After a barrier film 40 is formed on a plug 39, a silicon nitride film 41 and a silicon oxide film 42 are formed in order in an silicon oxide film 34, and a hole 43 is formed by etching the silicon oxide film 42 and the silicon nitride film 41.例文帳に追加

プラグ３９上にバリア膜４０を形成後、シリコン酸化膜３４上にシリコン窒化膜４１、シリコン酸化膜４２を順次堆積し、シリコン酸化膜４２およびシリコン窒化膜４１をエッチングして孔４３を形成する。 - 特許庁

To provide a barrier metal film which has low resistance and superior barrier property by forming a thin film of amorphous tantalum nitride or tantalum silicon nitride at a low temperature by CVD method.例文帳に追加

ＣＶＤ法でアモルファス状のタンタル窒化物およびタンタル・シリコン窒化物の薄膜を低温で形成して、低抵抗で、かつバリア性の優れたバリアメタル膜を提供すること。 - 特許庁

Moreover, the silicon nitride has a strong gas barrier property, and deterioration of an organic EL device 1 can be suppressed.例文帳に追加

また、窒化珪素はガスバリア性が強く、有機ＥＬ装置１の劣化を抑制することが可能となる。 - 特許庁

To provide a high-density amorphous silicon nitride film which exhibits a sufficient gas barrier property by a simple method.例文帳に追加

十分なガスバリア性を示す高密度の非晶質窒化珪素膜を簡便な方法で提供すること。 - 特許庁