skimmer wallとは 意味・読み方・使い方

When a bias electrode 21a is disposed between the skimmer 14 and the ionization chamber 16a, and the surface of a wall of an ionization chamber 16a is used as a reference, a negative voltage larger than the skimmer 14 is impressed.例文帳に追加

スキマー１４とイオン化室１６ａの間にバイアス電極２１ａを配置し、バイアス電極２１ａに、イオン化室１６ａの壁面を基準としたときに、スキマー１４よりも大きな負電圧を印加する。 - 特許庁

At least one of the surface on a process chamber 9 side of the partition wall 5 and the skimmer 4 and the outer surface of the ionization device 6 is provided with an insulating layer 8.例文帳に追加

隔壁５およびスキマー４のプロセス室９側の面とイオン化器６の外側面との少なくとも一方には絶縁層８が構成されている。 - 特許庁

The floating scum is scraped to the vicinity of the peripheral wall 1a by scraping plates 21, 22, dropped in a scum box 6 by a skimmer 24 and discharged from a discharge port 7.例文帳に追加

この浮上スカムは、掻寄板２１，２２によって周壁１ａの近傍へ掻き寄せられ、次いでスキマ２４によってスカムボックス６へ落し込まれ、排出口７から排出される。 - 特許庁

The gas cluster ion beam apparatus comprises: a cluster generation chamber 2 for generating gas clusters by introducing a gas from a nozzle 1; and a process chamber 15 which is separated from the cluster generation chamber 2 by a partition wall 18, and in which the gas clusters are supplied through the skimmer 4 installed on the partition wall 18.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビーム装置は、ノズル１からガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室２と、隔壁１８によってクラスター生成室２から分離され、ガスクラスターが隔壁１８に設けられたスキマー４を通して供給されるプロセス室１５とを有している。 - 特許庁

The gas cluster ion beam apparatus comprises: a cluster generation chamber 2 for generating gas clusters by introducing a gas from a nozzle 1; and a process chamber 9 which is separated from the cluster generation chamber 2 by a partition wall 5, and in which the gas clusters are supplied through a skimmer 4 installed on the partition wall 5.例文帳に追加

ガスクラスターイオンビーム装置は、ノズル１からガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室２と、隔壁５によってクラスター生成室２から分離され、ガスクラスターが隔壁５に設けられたスキマー４を通して供給されるプロセス室９とを有している。 - 特許庁