surface sputtering characteristicとは 意味・読み方・使い方

To provide a sputtering target of long service life for obtaining a stable discharge characteristic during the sputtering, and efficiently depositing a hard film with a uniform characteristic on a surface of metals such as cobalt carbide, cobalt, stainless steel, or the like.例文帳に追加

長寿命でスパッタリング時に安定した放電特性が得られ、炭化コバルト、コバルト、ステンレスなどの金属表面に均一な特性を有する硬質被膜を効率的に形成できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing vertical recording medium for improving distribution in a substrate surface by sputtering deposition without decline of productivity and cost increase and obtaining good magnetic characteristic and electromagnetic characteristic.例文帳に追加

生産性低下やコストアップを生じることなく、スパッタリング成膜による基板面内分布を改善し、もって良好な磁気特性、電磁気特性が得られ垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A metallic thin film is formed on a surface of a semiconductor ceramic sintered body having a negative temperature characteristic of resistance by a vapor deposition or sputtering method, followed by a thermal treatment in an atmosphere.例文帳に追加

負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック焼結体の表面に、蒸着又はスパッタリング法により金属薄膜を形成し、その後、大気中で熱処理する。 - 特許庁

The combined lubricative thin film or the low friction characteristic intercalation compound is formed on the uppermost surface layer by carrying out sealing by sputter etching of reverse sputtering after an anodically oxydized film is formed on the core bar surface using aluminum or the aluminum alloy material.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金材料を用いた芯金表面に陽極酸化皮膜を形成した後に、逆スパッタリングのスパッタリングのスパッタエッチングにより封孔処理を施して、最表層に複合化潤滑性薄膜又は低摩擦性層間化合物をスパッタリングにより形成することを特徴とする上記加熱定着ローラの製造方法。 - 特許庁