titanium nitride filmとは 意味・読み方・使い方

DEPOSITION OF TITANIUM NITRIDE FILM WITHIN BATCH REACTOR例文帳に追加

バッチリアクター内でのＴｉＮ膜の堆積 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING THICK FILM OF TITANIUM NITRIDE例文帳に追加

窒化チタンの厚膜を堆積する方法 - 特許庁

FORMATION OF TITANIUM NITRIDE THIN FILM AND TITANIUM NITRIDE THIN FILM FORMED IN ACCORDANCE WITH THE METHOD例文帳に追加

窒化チタン薄膜形成方法及び該方法に従って形成した窒化チタン薄膜 - 特許庁

The barrier metal film 130 is formed from a tantalum aluminum nitride film or a titanium aluminum nitride film.例文帳に追加

バリア金属膜１３０は、タンタルアルミニウム窒化膜又はチタンアルミニウム窒化膜で形成される。 - 特許庁

After a third titanium nitride film 108 is accumulated on the second titanium nitride film 107, the third titanium nitride film 108 is exposed to the nitrogen plasma, to reduce the specific resistance of the third titanium nitride film 108.例文帳に追加

第２の窒化チタン膜１０７の上に第３の窒化チタン膜１０８を堆積した後、第３の窒化チタン膜１０８に窒素プラズマを暴露して第３の窒化チタン膜１０８の比抵抗を低減する。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a silicon substrate 1, a titanium nitride film 15, a titanium nitride film 16 and an interlayer insulating film 20.例文帳に追加

半導体装置は、シリコン基板１と、チタンナイトライド膜１５および１６と、層間絶縁膜２０とを備える。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MODIFYING TITANIUM NITRIDE FILM例文帳に追加

窒化チタン膜の改質方法及び改質装置 - 特許庁

The adhesive layer is formed by providing a titanium film 3, a titanium oxide film (TiONy) 4, and a titanium nitride film 5 in this order.例文帳に追加

密着層として、チタン膜３、チタン酸化膜（ＴｉＮＯｙ）４、および窒化チタン膜５をこの順に設ける。 - 特許庁