titanium nitride thin filmとは 意味・読み方・使い方

A TiN-Ti mixed thin film 3 (thin film of mixed composition of titanium nitride and titanium) is formed on the inner wall and bottom of a contact hole 21 and the surface of an insulating film 2.例文帳に追加

コンタクトホール２１の内壁および底面と絶縁膜上に、ＴｉＮ−Ｔｉ混合薄膜（窒化チタンとチタンとの混合組成の薄膜）３を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and an etchant capable of removing a titanium nitride film without making a CoSi film thin.例文帳に追加

ＣｏＳｉ層を薄膜化せず、窒化チタン膜を除去することができる半導体素子の製造方法及びエッチング液。 - 特許庁

To provide a method for forming a titanium nitride thin film capable of forming a titanium nitride thin film having high hardness and capable of exhibiting the intrinsic physical properties characteristic of the material on the surface of a metallic material with increased adhesion in an economical vacuum and to provide a titanium nitride thin film formed in accordance with this method.例文帳に追加

本発明は、材料本来の物性を発現できる高い硬度を有する窒化チタン薄膜を経済性のよい真空度において密着性を高くして金属材料表面上に形成できる窒化チタン薄膜形成方法及び該方法に従って形成した窒化チタン薄膜を提供することを課題とする。 - 特許庁

At least one mirror is partially reflective and is formed by depositing a thin film of titanium nitride.例文帳に追加

少なくとも１個のミラーは部分的に反射性であり且つ窒化チタン薄膜を付着形成することにより形成される。 - 特許庁

Then, any of one kind out of a diamond shape carbon film, titanium nitride film, gold thin film, platinum thin film is coated on the surface layer of at least one end part, thereby water repellency is improved and durability is further improved.例文帳に追加

また、少なくとも一端部の表層にダイヤモンド状炭素膜、窒化チタン膜、金薄膜、白金薄膜のいずれか１種を被覆することにより、撥水性が向上するとともに耐久性がさらに向上する。 - 特許庁

After that, an anti-diffusion film 40 composed of titanium nitride TiN is formed on the upper surface of the lower thin film 30, and a anti-diffusion film of a semiconductor device is manufactured.例文帳に追加

その後、前記下部薄膜３０の上面に、チタニウム窒化物ＴｉＮの拡散防止膜４０を形成して半導体素子の拡散防止膜を製造する。 - 特許庁

In one aspect, formation of a thin titanium nitride protective film on an initial film is found by depositing the initial film of titanium using an arbitrary prior art process, e.g. CVD, PVD or IMP (ion metal plasma), and then heating it at about 450°C in a nitrogen atmosphere.例文帳に追加

一面においては、ＣＶＤ、ＰＶＤ或いはＩＭＰ（イオン金属プラズマ）などの任意の従来の過程を用いてチタンの初期膜を堆積し、次にこのデバイスを窒素雰囲気内で約４５０度Ｃの温度に加熱することで、この初期膜の表面上に窒化チタンの薄い保護層を形成できることが発見された。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable resin composition having good adhesiveness to a thin film of glass, metals, or inorganic compounds such as silicon oxide, silicon nitride, aluminium oxide, tin oxide, titanium oxide, or indium-tin oxide.例文帳に追加

ガラス、金属、或いは酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化チタン、又はインジウム−スズ酸化物等の無機化合物の薄膜等に対する密着性が良好な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁