titanium nitridesとは 意味・読み方・使い方

After a titanium film and a titanium nitride film are successively deposited on an insulating film formed on a semiconductor substrate through sputtering, the surface of a titanium target used for the deposition of the titanium nitride film is cleaned by sputtering to remove nitrides formed on the titanium target surface.例文帳に追加

半導体基板上に形成された絶縁膜上に、スパッタリング法によりチタン膜および窒化チタン膜を順次堆積した後に、窒化チタン膜の堆積に用いたチタンターゲットの表面をスパッタリングクリーニングして、チタンターゲット表面に形成された窒化物を除去する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing spherical powder of metal and metallic compound which is composed of a material such as carbides or nitrides, e.g. silicon carbide, silicon nitride, titanium nitride, etc., used, e.g. for grinding media for high temperature structural members and has required sphere size, composition and structure.例文帳に追加

例えば、高温構造部材の粉砕メヂィアなどに使用される炭化珪素、窒化珪素、窒化メタンなどの炭化物あるいは窒化物などの材料で、所要の球径の所要の組成や組織を有する金属及び金属系化合物の球状粉末の製造。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device by which satisfactory etching can be performed by strengthening etching utilizing a chemical action by lowering ion energy at the time of etching metallic films composed of titanium, molybdenum, tantalum, etc., or their nitrides or silicides; and to provide a semiconductor manufacturing device for executing the method.例文帳に追加

チタン、モリブデン、タンタル等の金属膜や、その窒化膜、珪化膜をエッチングする際に、イオンエネルギーを下げて、化学的な作用によるエッチングを増強し、良好なエッチングの行える半導体装置の製造方法およびそれを実施するための半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The ceramic sintered body 1, mainly composed of non-conductive ceramics and including carbides, nitrides and carbonitrides of tungsten and/or titanium as electrically conductive hard components, is cocated with a ceramic hard film 2 by a physical vapor deposition method to prepare the coated ceramic sintered body by which the cutitng insert 3 is made.例文帳に追加

非導電性セラミックスを主体とし、導電性の硬質成分として、タングステン及び／又はチタンの炭化物、窒化物、炭窒化物を含むセラミック焼結体１に対して、物理蒸着法によってセラミック硬質膜２を被覆して被覆セラミック焼結体を作製し、この被覆セラミック焼結体により切削インサート３を構成する。 - 特許庁