waveform maskとは 意味・読み方・使い方

An output pulse 101 from the communication equipment 2 is measured by the pulse measurement part 11 of a pulse mask waveform shaping supporting device 1 and is compared with mask data 103 in a mask data storage part 12 in a mask judgement part 13.例文帳に追加

パルスマスク波形整形支援装置１のパルス測定部１１により通信装置２からの出力パルス１０１を測定し、マスク判定部１３においてマスクデータ記憶部１２のマスクデータ１０３との比較を行う。 - 特許庁

By selecting a data point for a mask from the blurred waveform, the data point from the pixel map is converted into the frequency/amplitude unit to generate the mask.例文帳に追加

にじんだ波形からマスタ用のデータ点を選択し、ピクセル・マップからのデータ点を周波数/振幅単位に変換して、マスクを発生する。 - 特許庁

A taking-in circuit 210 takes in each waveform sample of M signals from a circuit to be tested, and a controller 230 generates mask pixel data defining the mask.例文帳に追加

取り込み回路210が被試験回路からのＭ個の信号の各々の波形サンプルを取り込み、制御器230がマスクを定義するマスク・ピクセル・データを発生する。 - 特許庁

An output device 20 displays the obeying margin of the waveform on the basis of the corresponding scale factor of the scaling mask coinciding with the waveform 11 in the above position.例文帳に追加

出力装置(20)は、前記１つ以上の位置において波形(11)と一致するスケーリング・マスクの対応するスケールファクタに基づいて波形(11)の遵守マージンを表示する。 - 特許庁

A toggle switch 124 selects one of the plurality of mask patterns in order to prevent generation of the mask signal having a same waveform continuously in two pixels.例文帳に追加

トグルスイッチ１２４は、同一波形のマスク信号が２つの画素において連続して発生しないように複数種類のマスクパターンの中の１つを順次選択する。 - 特許庁

Also, the casing is forcedly excited by a resonance frequency waveform beyond an audible range instead of the opposit phase waveform, and the resonance amplitude of the shadow mask of the cathode ray tube can be suppressed.例文帳に追加

または、逆位相の波形の代わりに可聴域を越える共振周波数波形で筐体を強制的に加振し、ブラウン管のシャドウマスクの共振振幅を抑制するものである。 - 特許庁

A raster circuit 240 reads the storing place of the memory, the waveform sample is written at a storing position presently storing the mask pixel and it judges the occurrence of mask collision.例文帳に追加

ラスタ化回路240は、このメモリの記憶場所を読み取り、Ｍ個の入力信号の波形サンプルがマスク・ピクセルを現在蓄積している記憶位置に書き込まれて、マスク衝突を生じたを判断する。 - 特許庁

Then the exposure mask (22) with the resist is fixed to a stage (20), and rotating exposure is carried out by switching a waveform component and an incident angle of irradiated light of exposed light.例文帳に追加

上記レジスト付き露光マスク(22)をステージ（20）に固定し、露光光の照射光の波長成分と入射角度を切り替えて回転露光を行う。 - 特許庁