「じすけ」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

レジスト組成物及びレジスト組成物を用いたパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT - 特許庁

ホトマスク用ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

ネガ型レジスト組成物、および、レジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物例文帳に追加

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT - 特許庁

ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジストパターン形成方法およびネガ型レジスト組成物例文帳に追加

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND NEGATIVE RESIST COMPOSITION - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND - 特許庁

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING SAME - 特許庁

レジスト基板、そのパターン形成方法およびレジスト原盤例文帳に追加

RESIST SUBSTRATE, PATTERN FORMING METHOD FOR THE SAME AND RESIST MASTER DISK - 特許庁

化学増幅型レジスト材料及びレジストパターンの形成方法例文帳に追加

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ソルダーレジストフィルム、レジストパターン形成方法および発光装置例文帳に追加

SOLDER RESIST FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND LUMINESCENT DEVICE - 特許庁

レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

LAMINATED STRUCTURE OF RESIST, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION - 特許庁

レジスト保護膜用重合体およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POLYMER FOR RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジストパターン縮小化材料および微細レジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST PATTERN MINIATURIZATION MATERIAL AND METHOD FOR FORMING MICRO RESIST PATTERN - 特許庁

ＥＵＶ用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

樹脂組成物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIN COMPOSITION, AND RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト用重合体、レジスト組成物、および、パターン形成方法例文帳に追加

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME - 特許庁

レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR - 特許庁

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION - 特許庁

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND AND COMPOUND - 特許庁

レジスト材料、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法例文帳に追加

RESIST MATERIAL, RESIST PROTECTIVE FILM MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND - 特許庁

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR - 特許庁

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

上書き情報レジスタ４は、上書き判定部３の判定結果を保持する。例文帳に追加

An overwrite information register 4 latches a discrimination result of the overwrite decision section 3. - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

ホトレジストパターンの形成方法およびホトレジスト積層体例文帳に追加

PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTORESIST LAMINATE - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND - 特許庁

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁