「じすけ」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

高電圧垂直トランジスタで集積された検知トランジスタ例文帳に追加

DETECTION TRANSISTOR INTEGRATED BY HIGH-VOLTAGE VERTICAL TRANSISTOR - 特許庁

シフトレジスタ回路、シフトレジスタ回路の設計方法及び半導体装置例文帳に追加

SHIFT REGISTER CIRCUIT, METHOD FOR DESIGNING SHIFT REGISTER CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

電力用トランジスタおよび電力用トランジスタパッケージ例文帳に追加

POWER TRANSISTOR AND POWER TRANSISTOR PACKAGE - 特許庁

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND - 特許庁

レジスト物質を含むレジストパターンを微細電子基板上に形成する。例文帳に追加

The resist pattern containing the resist material is formed on a microelectronic substrate. - 特許庁

一覧表示する際、本文中の位置や、校正の条件も共に表示する。例文帳に追加

The list also displays text positions together with proofreading conditions. - 特許庁

また、読み出した各波形のデータをバッファレジスタ３４に保持する。例文帳に追加

The readout data of each wave are stored in buffer register 34. - 特許庁

レジストリ・リポジトリ型医用画像連携システムおよびレジストリ装置例文帳に追加

REGISTRY REPOSITORY TYPE MEDICAL IMAGE COOPERATION SYSTEM AND REGISTRY DEVICE - 特許庁

ドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION FOR DRY EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

電界効果トランジスタと該トランジスタを有する携帯電子機器例文帳に追加

FIELD EFFECT TRANSISTOR AND PORTABLE ELECTRONIC DEVICE HAVING IT - 特許庁

露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。例文帳に追加

The exposed photoresist film is developed to form a resist pattern. - 特許庁

フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

ポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME - 特許庁

ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

続いて基板保持ステージ４上に基板Ｋを真空吸着保持する。例文帳に追加

Next, the substrate K is vacuum-held on the substrate holding stage 4. - 特許庁

レジスト膜の処理装置、およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST FILM PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

マトリクス状のレジストパターンを有するレジスト型を形成する。例文帳に追加

A resist mold having a matrix-like resist pattern is formed. - 特許庁

レジスト膜の処理装置およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST FILM PROCESSING APPARATUS AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

そしてフォトレジスト層を現像してレジストパターンを形成する。例文帳に追加

The photoresist layer is developed to form a resist pattern. - 特許庁

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, ACID-FORMING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN - 特許庁

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD - 特許庁

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND POLYMERIC COMPOUND - 特許庁

ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

厚膜用ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法例文帳に追加

THICK FILM PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジストインキおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法例文帳に追加

RESIST INK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE RESIST COMPOSITION - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND AND COMPOUND - 特許庁

レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体例文帳に追加

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE - 特許庁

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN - 特許庁

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁