「じすけ」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

レジスト表面改質液及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

LIQUID FOR MODIFYING RESIST SURFACE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ホトマスク用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

第２のレジストがレジストパターン５を覆うように塗布形成される。例文帳に追加

Second resist is spread and formed so as to cover a resist pattern 5. - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND - 特許庁

ホトマスク用ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト用現像液及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

DEVELOPER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

厚膜レジスト用現像液及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

LIQUID DEVELOPER FOR THICK FILM RESIST AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物例文帳に追加

RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT - 特許庁

レジスト塗布処理方法及びレジストパターンの形成方法。例文帳に追加

PROCESSING METHOD FOR APPLYING RESIST, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR - 特許庁

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

各単位トランジスタ５０のトランジスタサイズは同様に設計される。例文帳に追加

The transistor size of respective unit transistor 50 is similarly designed. - 特許庁

レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER FOR RESIST, RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND - 特許庁

高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND - 特許庁

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND - 特許庁

気泡検出方法及びレジスト塗布方法並びにレジスト塗布装置例文帳に追加

BUBBLE DETECTION METHOD, RESIST APPLICATION METHOD, AND RESIST APPLICATION DEVICE - 特許庁

レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置例文帳に追加

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND RESIST APPLYING DEVELOPING APPARATUS - 特許庁

該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。例文帳に追加

The method for resist pattern formation comprises utilization of the positive resist composition. - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND - 特許庁

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

RESIN FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

レジスト膜を露光、現像して、レジストパターンを形成する。例文帳に追加

The resist film is exposed and developed to form a resist pattern. - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、積層体、レジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜例文帳に追加

PATTERN FORMATION METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、ポジ型レジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND POSITIVE RESIST PATTERN-FORMING METHOD - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND - 特許庁

新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a new resist composition and a new resist pattern forming method. - 特許庁